一種觸摸屏的制備方法、觸摸屏及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸控顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤指一種觸摸屏的制備方法、觸摸屏及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展，觸摸屏(Touch Screen Panel)已經(jīng)逐漸遍及人們的生活中。目前，觸摸屏按照組成結(jié)構(gòu)可以分為:夕卜掛式觸摸屏(Add on Mode Touch Panel)、覆蓋表面式觸摸屏(On Cell Touch Panel)、以及內(nèi)嵌式觸摸屏(In Cell Touch Panel)。其中，外掛式觸摸屏是將觸摸屏與液晶顯示屏(Liquid Crystal Display, LCD)分開(kāi)生產(chǎn)，然后貼合到一起成為具有觸摸功能的液晶顯示屏，外掛式觸摸屏存在制作成本較高、光透過(guò)率較低、模組較厚等缺點(diǎn)。
[0003]On Cell觸摸屏由于容易在顯示面板上形成觸控電極，因此是目前很多觸摸屏廠家的首選。目前在制作應(yīng)用于液晶顯示面板的On Cell觸摸屏?xí)r，如圖1所示，一般是在對(duì)盒以后的液晶顯示面板的彩膜基板1上形成觸控電極2，為了保證透過(guò)率，一般均采用ΙΤ0(銦錫氧化物)材料制備觸控電極，但是形成在彩膜基板1上的ΙΤ0觸控電極2為了達(dá)到要求的透過(guò)率和電阻值，需要在沉積ΙΤ0材料以后，對(duì)ΙΤ0材料進(jìn)行溫度在200度以上的高溫退火處理，但是溫度高會(huì)對(duì)影響液晶顯示面板中的液晶分子3以及配向膜4的特性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種觸摸屏的制備方法、觸摸屏及顯示裝置，用以在保證觸控電極性能的基礎(chǔ)上避免對(duì)液晶顯示面板中的液晶分子和配向膜產(chǎn)生影響。
[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸摸屏的制備方法，包括:
[0006]在彩膜基板上形成觸控電極；
[0007]在形成有所述觸控電極的彩膜基板面向陣列基板一側(cè)形成配向膜；
[0008]將上述彩膜基板與預(yù)先形成的陣列基板對(duì)盒。
[0009]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，在形成觸控電極之后，在形成配向膜之前，還包括:
[0010]在所述彩膜基板面向陣列基板一側(cè)形成彩色濾光層和黑矩陣。
[0011]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，所述觸控電極的材料為金屬，所述黑矩陣在所述彩膜基板的正投影覆蓋所述觸控電極在所述彩膜基板的正投影。
[0012]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，所述觸控電極的材料為透明導(dǎo)電氧化物材料；在彩膜基板上形成觸控電極，具體包括:
[0013]在所述彩膜基板上形成透明導(dǎo)電氧化物膜層；
[0014]對(duì)所述透明導(dǎo)電氧化物膜層進(jìn)行構(gòu)圖形成初始觸控電極的圖形；
[0015]對(duì)所述初始觸控電極進(jìn)行退火處理形成觸控電極。
[0016]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，在形成所述觸控電極之后，形成所述彩色濾光層和黑矩陣之前，還包括:
[0017]在所述彩膜基板上形成覆蓋所述觸控電極的絕緣層。
[0018]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，所述透明導(dǎo)電氧化物材料為銦錫氧化物。
[0019]相應(yīng)地，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸摸屏，包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，位于所述彩膜基板和陣列基板之間的彩色濾光層和黑矩陣，還包括:位于所述彩膜基板背離所述陣列基板一側(cè)的觸控電極；其中，
[0020]所述觸控電極的材料為金屬，所述黑矩陣在所述彩膜基板的正投影覆蓋所述觸控電極在所述彩膜基板的正投影。
[0021]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，所述彩色濾光層位于所述彩膜基板面向所述陣列基板一側(cè)；和/或
[0022]所述黑矩陣位于所述所述彩膜基板面向所述陣列基板一側(cè)。
[0023]相應(yīng)地，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述任一種觸摸屏。
[0024]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏的制備方法、觸摸屏及顯示裝置，先在彩膜基板上形成觸控電極，再在形成有觸控電極的彩膜基板上形成配向膜，最后將上述彩膜基板與預(yù)先形成的陣列基板對(duì)盒。即在形成配向膜與灌注液晶之前就形成觸控電極，因此不管形成觸控電極的工藝需要采用多高的溫度都并不會(huì)影響之后形成的配向膜和液晶分子的特性，從而能夠?qū)崿F(xiàn)在保證觸控電極性能的基礎(chǔ)上避免對(duì)液晶分子和配向膜產(chǎn)生影響。
【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1為現(xiàn)有的On Cell觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏的制備方法的流程示意圖；
[0027]圖3a至圖4b分別為本發(fā)明實(shí)施例提供的制備方法在執(zhí)行各步驟后對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0029]圖6a為本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖之二；
[0030]圖6b為本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖之三。
【具體實(shí)施方式】
[0031]下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏的制備方法、觸摸屏及顯示裝置的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。
[0032]附圖中各膜層的厚度和形狀不反映觸摸屏的真實(shí)比例，目的只是示意說(shuō)明本
【發(fā)明內(nèi)容】
。
[0033]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸摸屏的制備方法，如圖2所示，可以包括以下步驟:
[0034]S201、在彩膜基板02上形成觸控電極03，如圖3a ;
[0035]S202、在形成有觸控電極03的彩膜基板02面向陣列基板01 —側(cè)形成配向膜04，如圖3b和圖4a所示；
[0036]S203、將上述彩膜基板02與預(yù)先形成的陣列基板01對(duì)盒，如圖3c和圖4b所示。
[0037]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏的制備方法，先在彩膜基板上形成觸控電極，再在形成有觸控電極的彩膜基板上形成配向膜，最后將上述彩膜基板與預(yù)先形成的陣列基板對(duì)盒。即在形成配向膜與灌注液晶之前就形成觸控電極，因此不管形成觸控電極的工藝需要采用多高的溫度都并不會(huì)影響之后形成的配向膜和液晶分子的特性，從而能夠?qū)崿F(xiàn)在保證觸控電極性能的基礎(chǔ)上避免對(duì)液晶分子和配向膜產(chǎn)生影響。
[0038]進(jìn)一步地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，在形成觸控電極之后，在形成配向膜之前，一般還包括:
[0039]在彩膜基板面向陣列基板一側(cè)形成彩色濾光層和黑矩陣。
[0040]具體實(shí)施時(shí)，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，觸控電極的材料可以為金屬材料，也可以為透明導(dǎo)電氧化物材料，在此不作限定。
[0041]具體地，當(dāng)觸控電極的材料為金屬材料時(shí)，可以在彩膜基板面向陣列一側(cè)形成觸控電極，這樣可以防止異物對(duì)觸控電極造成不良；當(dāng)然也可以在彩膜基板背離陣列基板一側(cè)形成觸控電極，在此不作限定。
[0042]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，當(dāng)觸控電極的材料為金屬時(shí)，為了避免觸控電極占用顯示區(qū)域面積，將觸控電極形成在將要形成的黑矩陣所覆蓋的區(qū)域內(nèi)，即黑矩陣在彩膜基板的正投影覆蓋觸控電極在彩膜基板的正投影。
[0043]具體地，當(dāng)觸控電極的材料為透明導(dǎo)電氧化物材料時(shí)，可以在彩膜基板面向陣列一側(cè)形成觸控電極，也可以在彩膜基板背離陣列基板一側(cè)形成觸控電極，在此不作限定。
[0044]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制備方法中，當(dāng)觸控電極的材料為透明導(dǎo)電氧化物材料時(shí)；在彩膜基板上形成觸控電極，具體包括:
[0045]在彩膜基板上形成透明導(dǎo)電氧化物膜層；
[0046]對(duì)透明導(dǎo)電氧