電容式觸摸屏的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示器件領(lǐng)域，特別涉及一種電容式觸摸屏的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]電容式觸摸屏作為一種新興信息輸入方式廣泛應(yīng)用于各類信息顯示產(chǎn)品，如觸摸屏手機、GPS導(dǎo)航系統(tǒng)等。
[0003]OGS(One Glass Solut1n)工藝，就是把觸控玻璃(Touch Sensor)與保護玻璃(Cover Glass)集成在一起，亦即在一般的保護玻璃內(nèi)側(cè)鍍上ΙΤ0導(dǎo)電層，使該單片玻璃不僅具備保護玻璃的強度、安全性，同時也兼具觸控功能。
[0004]傳統(tǒng)的0GS結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏上的LOGO (標志)圖案或按鍵等都是在完成黃光和鍍膜工藝后，切割成小片，CNC(精雕機)成型后絲印制作鏡面銀LOGO或絲印制作透明按鍵。然而絲印制作中需要開模具網(wǎng)版，工序復(fù)雜。另外絲印制作采用的銀漿及透明材料價格昂貴，制作成本較高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]基于此，有必要提供一種工序簡單且制作成本較低的電容式觸摸屏的制備方法。
[0006]一種電容式觸摸屏的制備方法，包括如下步驟:
[0007]提供基板，在所述基板上形成光阻層，將所述光阻層曝光，形成可視區(qū)與非可視區(qū)，所述非可視區(qū)包括用于形成金屬線路的線路區(qū)域、用于形成LOGO的LOGO區(qū)域以及用于形成按鍵的按鍵區(qū)域；
[0008]在所述按鍵區(qū)域上形成按鍵圖案；
[0009]在所述可視區(qū)上形成導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層包括第一方向電極與第二方向電極，所述第一方向電極與所述第二方向電極彼此絕緣；
[0010]在所述非可視區(qū)上形成金屬層，并在所述金屬層上形成保護光阻層；
[0011]將所述保護光阻層曝光形成在所述線路區(qū)域的金屬線路圖案以及在所述LOGO區(qū)域的LOGO圖案，清洗后保留所述金屬線路圖案和所述LOGO圖案；及
[0012]將所述金屬層的裸露區(qū)域蝕刻去除，得到所述金屬線路圖案覆蓋的金屬線路以及所述LOGO圖案覆蓋的L0G0，所述金屬線路連接所述第一方向電極與所述第二方向電極。
[0013]在一個實施例中，所述在所述按鍵區(qū)域上形成按鍵圖案的操作為:在所述按鍵區(qū)域上形成按鍵光阻層，將繪制有按鍵圖案的按鍵掩膜版置于所述按鍵光阻層的上方并曝光，清洗后形成按鍵圖案。
[0014]在一個實施例中，所述光阻層的顏色為白色，所述按鍵光阻層的顏色為黑色。
[0015]在一個實施例中，所述按鍵光阻層為正型光阻。
[0016]在一個實施例中，所述將所述保護層曝光形成在所述線路區(qū)域的金屬線路圖案以及在所述LOGO區(qū)域的LOGO圖案的操作為:將繪制有金屬線路圖案和LOGO圖案的掩膜版置于所述保護光阻層的上方并曝光，形成在所述線路區(qū)域的金屬線路圖案以及在所述LOGO區(qū)域的LOGO圖案。
[0017]在一個實施例中，所述導(dǎo)電層的材料為ΙΤ0。
[0018]在一個實施例中，所述金屬層的厚度為1090nm?1410nm。
[0019]在一個實施例中，所述金屬層的材料為Ag、Cu或ΜοΑΙΜο。
[0020]在一個實施例中，所述金屬層的材料為ΜοΑΙΜο，第一層Mo層的厚度為350nm?450nm，第二層A1層的厚度為240nm?260nm，第三層Mo層的厚度為500nm?700nm。
[0021 ] 在一個實施例中，所述導(dǎo)電層與所述金屬層均采用真空濺射鍍膜的方式形成。
[0022]上述電容式觸摸屏的制備方法，通過在金屬層上形成保護光阻層，將保護光阻層曝光形成在線路區(qū)域的金屬線路圖案以及在LOGO區(qū)域的LOGO圖案，清洗后保留金屬線路圖案和LOGO圖案，并將金屬層的裸露區(qū)域蝕刻去除，得到金屬線路圖案覆蓋的金屬線路以及LOGO圖案覆蓋的L0G0，金屬線路連接第一方向電極與所述第二方向電極。由于金屬層具有與鏡面銀相同的金屬光澤，將絲印制作工序中的LOGO與金屬線路一并設(shè)計，不需要絲印制作鏡面銀LOGO的工序即可在電容式觸摸屏上形成LOGO圖案，工序簡單且制作成本較低。
【附圖說明】
[0023]圖1為一實施方式的電容式觸摸屏的制備方法的流程圖；
[0024]圖2為一實施方式的電容式觸摸屏的制備方法制備得到的電容式觸摸屏的示意圖；
[0025]圖3為如圖2所示的電容式觸摸屏的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。
【具體實施方式】
[0026]下面主要結(jié)合附圖對電容式觸摸屏制備方法作進一步詳細的說明。
[0027]如圖1所示，一實施方式的電容式觸摸屏的制備方法，包括如下步驟:
[0028]S10、提供基板，在基板上形成光阻層，將光阻層曝光，形成可視區(qū)與非可視區(qū)，非可視區(qū)包括用于形成金屬線路的線路區(qū)域、用于形成LOGO的LOGO區(qū)域以及用于形成按鍵的按鍵區(qū)域。
[0029]基板可以為玻璃，可以通過蒸鍍或電化學(xué)沉積的方法在基板上形成一層均勻的光阻層，將光阻層部分曝光，形成可視區(qū)與非可視區(qū)。
[0030]光阻層曝光后，非曝光區(qū)域為可視區(qū)，曝光區(qū)域的非可視區(qū)。經(jīng)過曝光后，可視區(qū)的光阻層可以去除。
[0031]其中，可視區(qū)一般用于形成導(dǎo)電層，非可視區(qū)包括用于形成金屬線路的線路區(qū)域、用于形成LOGO的LOGO區(qū)域以及用于形成按鍵的按鍵區(qū)域。
[0032]S20、在按鍵區(qū)域上形成按鍵圖案。
[0033]具體的，在按鍵區(qū)域上形成按鍵圖案的操作為:在按鍵區(qū)域上形成按鍵光阻層，將繪制有按鍵圖案的按鍵掩膜版置于按鍵光阻層的上方并曝光，清洗后形成按鍵圖案。
[0034]按鍵的圖案可以是多種形狀的，例如三角形、四邊形、箭頭等。將繪制有按鍵圖案的按鍵掩膜版置于按鍵光阻層的上方，光線透過按鍵掩膜版將按鍵掩膜版上的圖案復(fù)制到按鍵光阻層上。
[0035]當按鍵光阻層為正型光阻時，按鍵掩膜版上的按鍵圖案與按鍵的圖案相同，即按鍵掩膜版上的按鍵圖案為鏤空狀。光線可透過該鏤空狀的按鍵圖案，從而將按鍵圖案復(fù)制到按鍵光阻層上，曝光后，按鍵光阻層上對應(yīng)的按鍵圖案為曝光區(qū)域。之后可采用顯影劑清洗曝光區(qū)域，在按鍵光阻層上形成按鍵圖案。由于按鍵區(qū)域的基板上的光阻層未做處理，在按鍵區(qū)域有光阻層，采用顯影劑將按鍵光阻層清洗后形成鏤空的按鍵形狀，通過在基板上的光阻層與按鍵光阻層的配合，形成虛擬按鍵。
[0036]當按鍵光阻層為負型光阻時，按鍵掩膜版上的按鍵圖案與按鍵的圖案互補，即按鍵掩膜版上的按鍵圖案為非鏤空狀。光線透過按鍵掩膜版上的鏤空區(qū)域，而不能透過該非鏤空狀的按鍵圖案，從而將按鍵圖案復(fù)制到按鍵光阻層上，曝光后，按鍵光阻層上對應(yīng)的按鍵圖案為非曝光區(qū)域。之后可采用顯影劑清洗非曝光部分區(qū)域，在按鍵光阻層上形成按鍵圖案。
[0037]本實施方式中，按鍵光阻層為正型光阻，正型光阻的光照部分性質(zhì)改變，溶解度增大，在顯影液的作用下容易溶解掉，形成鏤空的按鍵形狀。
[0038]在顏色方面，光阻層的顏色可以為白色，按鍵光阻層的顏色可以為黑色，通過白色光阻與黑色光阻的配合，形成白色屏幕并帶有透明按鍵的電容式觸摸屏。
[0039]本實施方式中，在基板上形成白色光阻后，按鍵區(qū)域不作處理，即按鍵區(qū)域白色光阻填充。之后在按鍵區(qū)域上形成黑色按鍵光阻層，通過圖案設(shè)計，在按鍵區(qū)域按照按鍵形狀設(shè)計，曝光并顯影后在黑色按鍵光阻層上形成鏤空的按鍵圖案，即按鍵圖案處不會有黑色光阻填充。通過白色光阻與黑色光阻的配合，形成白色屏幕并帶有按鍵圖案的電容式觸摸屏。
[0040]其他實施方式中，也可以是光阻層可以為黑色光阻，按鍵光阻層為白色光阻，或者光阻層與按鍵光阻層均為黑色光阻或白色光阻或其他顏色組合的光阻層。只要光阻層與按鍵光阻層配合形成帶有按鍵圖案的電容式觸摸屏即可。
[0041]上述在按鍵區(qū)域上形成按鍵圖案的方法，基板上的光阻層不作處理，按鍵光阻層曝光并清洗后形成鏤空的按鍵形狀，通過基板上的光阻層與按鍵光阻層配合，形成虛擬按鍵，不需要絲印制作按鍵的工序，工序簡單且制作成本較低，并且可以提高效率、提升產(chǎn)品的良率。
[0042]S30、在可視區(qū)上形成導(dǎo)電層，導(dǎo)電層包括第一方向電極與第二方向電極，第一方向電極與第二方向電極彼此絕緣。
[0043]導(dǎo)電層的材料可以為ΙΤ0(氧化銦錫)，可采用真空濺射鍍膜的方式在可視區(qū)上形成導(dǎo)電層，導(dǎo)電層包括第一方向電極與第二方向電極，第一方向電極與所述第二方向電極彼此絕緣，第一方向電極與第二方向電極不平行。
[0044]本實施方式中，第一方向電極與第二方向電極相互垂直，導(dǎo)電層的材料為ΙΤ0，ΙΤ0具有良好的透光性和良好的導(dǎo)電性能。
[0045]S40、在非可視區(qū)上形成金屬層，并在金屬層上形成保護光阻層。
[0046]可采用真空濺射鍍膜的方式在非可視區(qū)上形成金屬層，并通過蒸鍍或電化學(xué)沉積的方法在金屬層上形成保護光阻層。
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