掲露的系統(tǒng)，裝置和方法，可W 通過其它的方式實現(xiàn)。例如，W上所描述的裝置實施例僅僅是示意性的，例如，所述單元的 劃分，僅僅為一種邏輯功能劃分，實際實現(xiàn)時可w有另外的劃分方式，例如多個單元或組件 可W結(jié)合或者可W集成到另一個系統(tǒng)，或一些特征可W忽略，或不執(zhí)行。另一點，所顯示或 討論的相互之間的禪合或直接禪合或通信連接可W是通過一些接口，裝置或單元的間接禪 合或通信連接，可W是電性，機(jī)械或其它的形式。
[0166] 所述作為分離部件說明的單元可W是或者也可W不是物理上分開的，作為單元顯 示的部件可W是或者也可W不是物理單元，即可W位于一個地方，或者也可W分布到多個 網(wǎng)絡(luò)單元上?？蒞根據(jù)實際的需要選擇其中的部分或者全部單元來實現(xiàn)本實施例方案的目 的。
[0167] 另外，在本發(fā)明各個實施例中的各功能單元可W集成在一個處理單元中，也可W 是各個單元單獨物理存在，也可W兩個或兩個W上單元集成在一個單元中。上述集成的單 元既可W采用硬件的形式實現(xiàn)，也可W采用軟件功能單元的形式實現(xiàn)。
[0168] 所述集成的單元如果W軟件功能單元的形式實現(xiàn)并作為獨立的產(chǎn)品銷售或使用 時，可W存儲在一個計算機(jī)可讀取存儲介質(zhì)中?；谶\樣的理解，本發(fā)明的技術(shù)方案本質(zhì)上 或者說對現(xiàn)有技術(shù)做出貢獻(xiàn)的部分或者該技術(shù)方案的全部或部分可軟件產(chǎn)品的形式 體現(xiàn)出來，該計算機(jī)軟件產(chǎn)品存儲在一個存儲介質(zhì)中，包括若干指令用W使得一臺計算機(jī) 設(shè)備(可W是個人計算機(jī)，服務(wù)器，或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等)執(zhí)行本發(fā)明各個實施例所述方法的全 部或部分步驟。而前述的存儲介質(zhì)包括：U盤、移動硬盤、只讀存儲器（ROM,Read-Only Memo巧）、隨機(jī)存取存儲器(RAM,Random Access Memcxry)、磁碟或者光盤等各種可W存儲程 序代碼的介質(zhì)。
[0169] W上所述，W上實施例僅用W說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對其限制;盡管參照前 述實施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可W對前 述各實施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而運些 修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的精神和范圍。
【主權(quán)項】
1. 一種PET圖像的重建方法，其特征在于，獲取第一擴(kuò)散分布和第二擴(kuò)散分布;所述第 一擴(kuò)散分布為光子垂直入射到晶體正面時投影數(shù)據(jù)沿著入射方向的垂直方向的擴(kuò)散分布， 所述第一擴(kuò)散分布符合高斯分布;所述第二擴(kuò)散分布為光子垂直入射到晶體側(cè)面時投影數(shù) 據(jù)沿著入射方向的擴(kuò)散分布，所述第二擴(kuò)散分布符合伽馬分布;所述方法包括： 確定投影方向上的第一晶體和第二晶體的位置； 根據(jù)所述第一擴(kuò)散分布、所述第二擴(kuò)散分布、點源位置以及所述第一晶體的位置，獲得 第一擴(kuò)散表達(dá)式，其中，所述第一擴(kuò)散表達(dá)式用于表示投影數(shù)據(jù)從第一入射點到所述第一 晶體的擴(kuò)散程度； 根據(jù)所述第一擴(kuò)散分布、所述第二擴(kuò)散分布、點源位置以及所述第二晶體的位置，獲得 第二擴(kuò)散表達(dá)式，其中，所述第二擴(kuò)散表達(dá)式用于表示投影數(shù)據(jù)從第二入射點到所述第二 晶體的擴(kuò)散程度;所述第一入射點和所述第二入射點分別為點源位置在所述投影方向上對 應(yīng)的兩個入射點； 根據(jù)所述第一擴(kuò)散表達(dá)式和所述第二擴(kuò)散表達(dá)式，獲得擴(kuò)散關(guān)系式，所述擴(kuò)散關(guān)系式 用于表示點源位置與所述投影方向上的投影數(shù)據(jù)的對應(yīng)關(guān)系； 根據(jù)所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行PET圖像的重建。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的重建方法，其特征在于，所述獲得第一擴(kuò)散表達(dá)式，包括： 對所述第一擴(kuò)散分布和所述第二擴(kuò)散分布的乘積在第一晶體的區(qū)域上進(jìn)行積分，獲得 所述第一擴(kuò)散表達(dá)式，所述第一晶體的區(qū)域包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域為以 所述第一入射點為原點，所述第一晶體在光子入射方向的垂直方向的投影區(qū)域，所述第二 區(qū)域為以所述第一入射點為原點，所述第一晶體在光子入射方向的投影區(qū)域； 所述獲得第二擴(kuò)散表達(dá)式，包括： 對所述第一擴(kuò)散分布和所述第二擴(kuò)散分布的乘積在第二晶體的區(qū)域上進(jìn)行積分，獲得 所述第二擴(kuò)散表達(dá)式，所述第二晶體的區(qū)域包括第三區(qū)域和第四區(qū)域，所述第三區(qū)域為以 所述第二入射點為原點，所述第二晶體在光子入射方向的垂直方向的投影區(qū)域，所述第四 區(qū)域為以所述第二入射點為原點，所述第二晶體在光子入射方向的投影區(qū)域。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的重建方法，其特征在于，還包括： 獲取第三擴(kuò)散分布，所述第三擴(kuò)散分布為點源在投影方向的垂直方向上的擴(kuò)散分布， 所述第三擴(kuò)散分布符合高斯分布； 根據(jù)所述第三擴(kuò)散分布獲得第三擴(kuò)散表達(dá)式，所述第三擴(kuò)散表達(dá)式用于表示所述點源 在第五區(qū)域的擴(kuò)散程度，所述第五區(qū)域為所述點源在所述投影方向的垂直方向上的擴(kuò)散區(qū) 域； 進(jìn)行PET圖像的重建之前，根據(jù)所述第三擴(kuò)散表達(dá)式對所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行校正。4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的重建方法，其特征在于，還包括： 獲取光子對非準(zhǔn)直性的概率表達(dá)式，所述概率表達(dá)式符合高斯分布； 根據(jù)所述概率表達(dá)式獲得第四擴(kuò)散表達(dá)式，所述第四擴(kuò)散表達(dá)式用于表示非準(zhǔn)直性對 光子入射點產(chǎn)生影響的概率； 進(jìn)行PET圖像的重建之前，根據(jù)所述第四擴(kuò)散表達(dá)式對所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行校正。5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的重建方法，其特征在于，還包括： 獲取第五擴(kuò)散表達(dá)式，所述第五擴(kuò)散表達(dá)式通過對^^積分得到，供為相對于投影方 向的光子發(fā)射角度； 進(jìn)行PET圖像的重建之前，根據(jù)所述第五擴(kuò)散表達(dá)式對所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行校正。6. -種PET圖像的重建裝置，其特征在于，包括： 分布獲取單元，用于獲取第一擴(kuò)散分布和第二擴(kuò)散分布;所述第一擴(kuò)散分布為光子垂 直入射到晶體正面時投影數(shù)據(jù)沿著入射方向的垂直方向的擴(kuò)散分布，所述第一擴(kuò)散分布符 合高斯分布;所述第二擴(kuò)散分布為光子垂直入射到晶體側(cè)面時投影數(shù)據(jù)沿著入射方向的擴(kuò) 散分布，所述第二擴(kuò)散分布符合伽馬分布； 位置確定單元，用于確定投影方向上的第一晶體和第二晶體的位置； 表達(dá)式獲取單元，用于根據(jù)所述第一擴(kuò)散分布、所述第二擴(kuò)散分布、點源位置以及所述 第一晶體的位置，獲得第一擴(kuò)散表達(dá)式，并且根據(jù)所述第一擴(kuò)散分布、所述第二擴(kuò)散分布、 點源位置以及所述第二晶體的位置，獲得第二擴(kuò)散表達(dá)式;其中，所述第一擴(kuò)散表達(dá)式用于 表示投影數(shù)據(jù)從第一入射點到所述第一晶體的擴(kuò)散程度，所述第二擴(kuò)散表達(dá)式用于表示投 影數(shù)據(jù)從第二入射點到所述第二晶體的擴(kuò)散程度，所述第一入射點和所述第二入射點分別 為點源位置在所述投影方向上對應(yīng)的兩個入射點； 關(guān)系式獲取單元，用于根據(jù)所述第一擴(kuò)散表達(dá)式和所述第二擴(kuò)散表達(dá)式，獲得擴(kuò)散關(guān) 系式，所述擴(kuò)散關(guān)系式用于表示點源位置與所述投影方向上的投影數(shù)據(jù)的對應(yīng)關(guān)系； 圖像重建單元，用于根據(jù)所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行PET圖像的重建。7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述表達(dá)式獲取單元包括： 第一獲取子單元，用于對所述第一擴(kuò)散分布和所述第二擴(kuò)散分布的乘積在第一晶體的 區(qū)域上進(jìn)行積分，獲得所述第一擴(kuò)散表達(dá)式，所述第一晶體的區(qū)域包括第一區(qū)域和第二區(qū) 域，所述第一區(qū)域為以所述第一入射點為原點，所述第一晶體在光子入射方向的垂直方向 的投影區(qū)域，所述第二區(qū)域為以所述第一入射點為原點，所述第一晶體在光子入射方向的 投影區(qū)域； 第二獲取子單元，用于對所述第一擴(kuò)散分布和所述第二擴(kuò)散分布的乘積在第二晶體的 區(qū)域上進(jìn)行積分，獲得所述第二擴(kuò)散表達(dá)式，所述第二晶體的區(qū)域包括第三區(qū)域和第四區(qū) 域，所述第三區(qū)域為以所述第二入射點為原點，所述第二晶體在光子入射方向的垂直方向 的投影區(qū)域，所述第四區(qū)域為以所述第二入射點為原點，所述第二晶體在光子入射方向的 投影區(qū)域。8. 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的裝置，其特征在于，還包括第一校正單元； 所述分布獲取單元，還用于獲取第三擴(kuò)散分布，所述第三擴(kuò)散分布為點源在投影方向 的垂直方向上的擴(kuò)散分布，所述第三擴(kuò)散分布符合高斯分布； 所述表達(dá)式獲取單元，還用于根據(jù)所述第三擴(kuò)散分布獲得第三擴(kuò)散表達(dá)式，所述第三 擴(kuò)散表達(dá)式用于表示所述點源在第五區(qū)域的擴(kuò)散程度，所述第五區(qū)域為所述點源在所述投 影方向的垂直方向上的擴(kuò)散區(qū)域； 所述第一校正單元，用于所述圖像重建單元進(jìn)行PET圖像的重建之前，根據(jù)所述第三擴(kuò) 散表達(dá)式對所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行校正。9. 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的裝置，其特征在于，還包括第二校正單元； 所述表達(dá)式獲取單元，還用于獲取光子對非準(zhǔn)直性的概率表達(dá)式，所述概率表達(dá)式符 合高斯分布，以及根據(jù)所述概率表達(dá)式獲得第四擴(kuò)散表達(dá)式，所述第四擴(kuò)散表達(dá)式用于表 示非準(zhǔn)直性對光子入射點產(chǎn)生影響的概率； 所述第二校正單元，用于所述圖像重建單元進(jìn)行PET圖像的重建之前，根據(jù)所述第四擴(kuò) 散表達(dá)式對所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行校正。10.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的裝置，其特征在于，還包括第三校正單元； 所述表達(dá)式獲取單元，還用于獲取第五擴(kuò)散表達(dá)式，所述第五擴(kuò)散表達(dá)式通過對_爐/τ 積分得到，供為相對于投影方向的光子發(fā)射角度； 所述第三校正單元，用于所述圖像重建單元進(jìn)行PET圖像的重建之前，根據(jù)所述第五擴(kuò) 散表達(dá)式對所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行校正。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種PET圖像的重建方法及裝置，所述方法包括：確定投影方向上的第一晶體和第二晶體的位置；獲得第一擴(kuò)散表達(dá)式，所述第一擴(kuò)散表達(dá)式用于表示投影數(shù)據(jù)從第一入射點到所述第一晶體的擴(kuò)散程度；獲得第二擴(kuò)散表達(dá)式，所述第二擴(kuò)散表達(dá)式用于表示投影數(shù)據(jù)從第二入射點到所述第二晶體的擴(kuò)散程度；根據(jù)所述第一擴(kuò)散表達(dá)式和所述第二擴(kuò)散表達(dá)式，獲得擴(kuò)散關(guān)系式，所述擴(kuò)散關(guān)系式用于表示點源位置與所述投影方向上的投影數(shù)據(jù)的對應(yīng)關(guān)系；根據(jù)所述擴(kuò)散關(guān)系式進(jìn)行PET圖像的重建。根據(jù)兩次測量就能夠獲得第一擴(kuò)散分布和第二擴(kuò)散分布，不需要測量大量的點源位置以及分別對應(yīng)的擴(kuò)散參數(shù)，從而減少了工作量。
【IPC分類】G06T11/00
【公開號】CN105631910
【申請?zhí)枴緾N201511005331
【發(fā)明人】劉勺連, 李明, 孫智鵬
【申請人】沈陽東軟醫(yī)療系統(tǒng)有限公司
【公開日】2016年6月1日
【申請日】2015年12月28日