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      一種過濾藍光觸摸顯示屏及其制造方法

      文檔序號:9910487閱讀:511來源:國知局
      一種過濾藍光觸摸顯示屏及其制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種過濾藍光觸摸顯示屏及其制造方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]隨著現(xiàn)代生活觸摸顯示屏的普遍使用,而且人們的生活越來越離不開觸摸顯示屏,有很多人經(jīng)常性的使用觸摸顯示屏帶來的結(jié)果是眼睛出現(xiàn)酸澀、疼痛、流淚等不舒服癥狀,更嚴(yán)重的出現(xiàn)視力下降,這些不舒服的癥狀是因為眼睛長時間對觸摸顯示屏,由觸摸顯示屏所散發(fā)出來的有害光線所致,觸摸顯示屏發(fā)出的光是眼睛的大敵,普遍觸摸顯示屏供應(yīng)商為了體現(xiàn)觸摸顯示屏的色彩對比度及飽和度,會提高觸摸顯示屏背后的燈光亮度,這樣會使屏幕表面像裝了一片玻璃一樣顯得有質(zhì)感,提高了清晰度,同樣它也會像玻璃一樣反射光線,但光線照向屏幕時會增加光線反射,尤其是晚上的時候消費者在使用觸摸顯示屏?xí)r,LED燈光照向觸摸顯示屏?xí)黾庸饩€反射,這樣很容易被這些光線傷害到眼睛,并產(chǎn)生視覺疲勞的癥狀,慢慢的會引起視力下降和頭痛的健康問題,,觸摸顯示屏產(chǎn)生的“不舒服的光”持續(xù)照射我們的眼睛還會引起視覺系統(tǒng)失調(diào),觸摸顯示屏發(fā)出的光讓我們眼睛不舒服是因為這些光線里面含有大量不規(guī)則頻率的高能短波藍光,這些短波藍光具有能量能穿透我們的眼球晶體直達視網(wǎng)膜,短波藍光持續(xù)照射視網(wǎng)膜會產(chǎn)生大量自由基離子,這些自由基離子會使得視網(wǎng)膜的色素上皮細胞衰亡,上皮細胞的衰會使感光細胞缺少養(yǎng)分而引起視力損傷;這些短波藍光也是引起黃斑部病變的主要起因,我們每天長時間面對觸摸顯示屏產(chǎn)生的藍光刺激,殊不知藍光波長短能量高,易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發(fā)性白內(nèi)障、自發(fā)性黃斑部病變。藍光約占可見光的50?60%,而藍光也是引起黃斑部病變的主要原因之一,嚴(yán)重可能導(dǎo)致失明。藍光會刺激視網(wǎng)膜產(chǎn)生大量自由基離子,使得視網(wǎng)膜色素上皮的萎縮,再引起光敏感細胞的衰亡,這是因為我們所處的是信息時代,人們的工作與學(xué)習(xí)都離不開觸摸顯示屏,面對觸摸顯示屏的時間越來越長,用眼的頻率也越來越高。眼睛開始酸澀、疼痛、流淚,它凄切的告訴我們:我們的眼睛已經(jīng)受到了傷害,需要在使用觸摸顯示屏?xí)r得到保護。目前觸摸顯示屏發(fā)出的藍光、電磁波、自由電子它們均會對眼睛造成傷害,為了保護眼睛,必須加以過濾,而目前過濾觸摸顯示屏藍光的方法是在觸摸顯示屏表面貼一層保護膜,觸摸顯示屏貼膜以后,透光率往往會下降,所貼的膜容易產(chǎn)生劃痕影響視覺效果,對過濾藍光效果依然不夠理想。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本發(fā)明的目的在于提供一種過濾藍光觸摸顯示屏及其制造方法,該方法制造出來的觸摸顯示屏具有防止有害藍光對人體的傷害。
      [0004]為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
      一種過濾藍光觸摸顯示屏,包括基板,所述基板的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層、第二膜層和第三膜層,所述第一膜層為五氧化三鈦層,第一膜層的厚度為1-1OOnm;所述第二膜層為二氧化硅層,第二膜層的厚度為50-100nm;第三膜層為金屬層,第三膜層的厚度為 5-20nm。
      [0005]所述金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳,并使用電子槍蒸鍍成型。
      [0006]所述金屬層的膜材為金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金,并使用電子槍蒸鍍成型。
      [0007]所述基板為樹脂或玻璃成型。
      [0008]所述觸摸顯示屏的基板為樹脂成型時,該過濾藍光觸摸顯示屏的制造方法具體包括以下步驟:
      1)對基板的外表面進行清洗;
      2)對基板的外表面進行鍍膜;
      A、鍍第一膜層:
      將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕,并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C,采用電子槍轟擊第一膜層的膜材,第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面,同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S,第一膜層最終形成后的厚度為10-1 OOnm,其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦,形成五氧化三鈦層;
      B、鍍第二膜層:
      保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕,同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C,采用電子槍轟擊第二膜層的膜材,第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面,同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S,第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm,其中第二膜層的膜材為二氧化硅,形成二氧化硅層;
      C、鍍第三膜層:
      保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕,同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C,采用電子槍轟擊第三膜層的膜材,第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面,同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S,第三膜層最終形成后的厚度為5_20nm,其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金,形成金屬層。
      [0009]所述步驟I)中,對基板清洗的具體方法如下:將基板放在真空腔內(nèi),用離子槍轟擊基板的外表面3分鐘。
      [0010]所述觸摸顯示屏的基板為玻璃成型時,該過濾藍光觸摸顯示屏的所述制造方法具體包括以下步驟:
      1)對基板的外表面進行清洗;
      2)對基板的外表面進行鍍膜;
      A、鍍第一膜層:
      將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕,并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C,采用電子槍轟擊第一膜層的膜材,第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面,同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S,第一膜層最終形成后的厚度為lO-lOOnm,其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦,形成五氧化三鈦層;
      B、鍍第二膜層:
      保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕,同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C,采用電子槍轟擊第二膜層的膜材,第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面,同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S,第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm,其中第二膜層的膜材為二氧化硅,形成二氧化硅層;
      C、鍍第三膜層:
      保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕,同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C,采用電子槍轟擊第三膜層的膜材,第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面,同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S,第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm,其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金,形成金屬層;
      所述步驟I)中,對基板清洗的具體方法如下:將基板放在真空腔內(nèi),用離子槍轟擊基板的外表面5-10分鐘。
      [0011]本發(fā)明采用電子束真空蒸鍍的原理,利用帶電荷的粒子在電場中加速后具有一定動能的特點,將離子引向欲被鍍膜的基板制成的電極,并通過電子槍高溫轟擊將高純度金屬或金屬氧化物,蒸發(fā)出來的納米分子使其沿著一定的方向運動到基板并最終在基板上沉積成膜的方法。本項發(fā)明技術(shù)結(jié)合利用磁場的特殊分布控制電場中的電子運動軌跡,以此改進鍍膜的工藝,使得鍍膜厚度及均勻性可控,且制造的膜層致密性好、粘結(jié)力強及純凈度尚O
      [0012]本發(fā)明的五氧化三鈦層和二氧化硅層相互配合,主要起到控制過濾波長的效果,本發(fā)明在觸摸顯示屏基片外表面蒸鍍設(shè)置的五氧化三鈦層和二氧化硅層,有效濾去了絕大部分藍光,本發(fā)明第三膜層的金屬層提升了防藍光效果和清晰度。通過上述膜層相互配合,本發(fā)明在觸摸顯示屏的基板上鍍有的多個膜層能有效地過濾33%以上有害藍光,同時金屬層能夠有效地提升清晰度,從而提高觸摸顯示屏的整體清晰度,對于視覺的清晰度和真實性有著很好的貢獻,通過對有害藍光的過濾能有效的緩解視覺疲勞。
      【附圖說明】
      [0013]以下結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明做進一步詳細說明:
      圖1為本發(fā)明過濾藍光觸摸顯示屏的分解圖。
      【具體實施方式】
      [0014]如圖1所示,本發(fā)明包括基板1,基板I的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層2、第二膜層3和第三膜層4,第一膜層2為五氧化三鈦層,第一膜層2的厚度為1-1OOnm;第二膜層3為二氧化硅層,第二膜層3的厚度為50-100nm;第三膜層4為金屬層,第三膜層4的厚度為5-20nmo
      [0015]其中,金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳,并使用電子槍蒸鍍成型。金屬層也可以的膜材為金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金,并使用電子槍蒸鍍成型。
      [0016]另外,基板I為樹脂或玻璃成型。
      [0017]實施例1:
      觸摸顯示屏的基板I為樹脂成型時,該觸摸顯示屏的制造方法具體包括以下步驟:
      I)對基板I的外表面進行清洗; 2)對基板I的外表面進行鍍膜;
      A、鍍第一膜層2:
      將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕,并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C,采用電子槍轟擊第一膜層2的膜材,第一膜層2的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式
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