材的另一個(gè)面上制作厚度為5μπι的第2硬涂層。
[0104] 在第1硬涂層上通過(guò)DC磁控濺射依次形成第1金屬氧化物層、金屬層以及第2金屬 氧化物層。第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層使用具有表1所示的組成的Zn〇-In 2〇3-Ti02靶來(lái)形成。各個(gè)實(shí)施例中的第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層使用具有相同組成 的靶來(lái)形成。各實(shí)施例中的第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層的組成如表1所示。各實(shí) 施例中的第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層的厚度為50nm。
[0105] 在表1所示的全部的實(shí)施例中，金屬層使用AgPdCu(Ag:Pd:Cu = 99.0:0.5:0.5(質(zhì) 量％))祀來(lái)形成。金屬層16的厚度為5nm〇
[0106] (透明導(dǎo)電體101的評(píng)價(jià)）
[0107] 按照以下的順序評(píng)價(jià)蝕刻特性。首先，準(zhǔn)備含有磷酸、乙酸、硝酸的PAN系蝕刻液。 在該蝕刻液中在室溫下浸漬各實(shí)施例的透明導(dǎo)電體1分鐘，進(jìn)行蝕刻。其后，進(jìn)行總透光率 測(cè)定，判定第1金屬氧化物層、金屬層以及第2金屬氧化物層是否溶解。具體來(lái)說(shuō)，將蝕刻后 的樣品的總透光率僅與透明樹(shù)脂基材的總透光率一致的情況判定為"A"，將不一致的情況 判定為"B"?？偼腹饴?透過(guò)率)使用霧度計(jì)（商品名：NDH-7000，日本電色工業(yè)公司制造)來(lái) 測(cè)定。評(píng)價(jià)結(jié)果如表1所示。
[0108] 另外，按照以下的順序評(píng)價(jià)耐堿性。準(zhǔn)備濃度為3wt %的Κ0Η溶液。在該堿溶液中在 室溫下將各實(shí)施例的透明導(dǎo)電體浸漬2分鐘。其后，進(jìn)行總透光率測(cè)定，判定第1金屬氧化物 層、金屬層以及第2金屬氧化物層是否溶解。具體來(lái)說(shuō)，將堿溶液浸漬后的樣品的總透光率 與浸漬前的總透光率一致的情況判定為"A"，將不一致的情況判定為"B"?？偼腹饴?透過(guò) 率)使用霧度計(jì)(商品名:NDH-7000,日本電色工業(yè)公司制造)來(lái)測(cè)定。評(píng)價(jià)結(jié)果如表1所示。
[0109] 使用4端子電阻率計(jì)(商品名:Loresta GP，三菱化學(xué)株式會(huì)社制造)測(cè)定各實(shí)施例 的表面電阻。將結(jié)果不于表1中。在表1中，"表面電阻（1)"是將透明導(dǎo)電體在85°C、85%RH (相對(duì)濕度85%)的環(huán)境下保存50小時(shí)前的表面電阻值，"表面電阻（2)"是在上述環(huán)境下保 存后的表面電阻值。
[0110] 將各實(shí)施例的透明導(dǎo)電體在85°C、85%RH的環(huán)境下保存之后，通過(guò)目視進(jìn)行保存 穩(wěn)定性的評(píng)價(jià)。將在透明導(dǎo)電體中看到白濁的情況判定為"B"，將沒(méi)有看到的情況判定為 "八"。結(jié)果如表1所示。
[0111] [表 1]
[0112]
[0113] 如表1所示，在全部的實(shí)施例中蝕刻特性以及耐堿性的評(píng)價(jià)為"A"。由此確認(rèn)了，實(shí) 施例1~13的透明導(dǎo)電體中的金屬氧化物層和金屬層可以容易地除去，并且具有優(yōu)異的耐 堿性。實(shí)施例12、13的透明導(dǎo)電體總透光率稍低，這是由于In 2〇3的含有率高，因此，吸收率增 加的緣故。然而，如果是該總透光率，只要是不尋求這樣高的水平的透明性的例如噪聲片等 用途(例如，噪聲屏蔽等)就是能夠充分使用的水平。
[0114] 為了評(píng)價(jià)金屬氧化物層的特性，與上述的順序同樣地制作僅金屬氧化物層(單層） 的樣品。與上述的順序同樣地進(jìn)行該樣品的評(píng)價(jià)。將評(píng)價(jià)的結(jié)果示于表2中。另外，表2的吸 收率是使用以分光器測(cè)得的透過(guò)率和反射率的測(cè)定結(jié)果以100-透過(guò)率-反射率=吸收率的 式子求得的值。該吸收率是波長(zhǎng)380nm下的值。
[0115] [表 2]
[0116]
[0117] 如表2所示，確認(rèn)了即使各實(shí)施例的金屬氧化物層含有ZnO作為主成分，通過(guò)含有 In2〇3和Ti02作為副成分，并且為規(guī)定的Ti02含有率，從而也可以兼顧耐腐蝕性和耐堿性的 提高與高的導(dǎo)電性。另外，確認(rèn)了如果將ZnO和In 2〇3的含量設(shè)定為優(yōu)選的范圍，則吸收率充 分低。
[0118] [實(shí)施例14~24]
[0119] 除了改變制作金屬層時(shí)的靶的組成，并且如表3所示變更金屬層的組成和/或變更 金屬層的厚度以外，與實(shí)施例1同樣地制作透明導(dǎo)電體。即，在實(shí)施例14~20中改變了金屬 層的厚度。在實(shí)施例21中，使用六 8恥(：1^8:制:〇1 = 99.0:0.5:0.5(質(zhì)量％))靶來(lái)形成金屬 層。在實(shí)施例22中，使用4 811^11以8:111:311 = 99.0:0.5:0.5(質(zhì)量％))靶來(lái)形成金屬層。在實(shí) 施例23中，使用4 831^以8:311:3& = 99.0:0.5:0.5(質(zhì)量％))靶來(lái)形成金屬層。在實(shí)施例24 中，使用厶8(：11(厶8:〇1 = 99.5:0.5(質(zhì)量％))革巴來(lái)形成金屬層。
[0120] 與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行制得的實(shí)施例14~24的透明導(dǎo)電體的評(píng)價(jià)。評(píng)價(jià)結(jié)果如表3 所示。另外，實(shí)施例14~24的金屬氧化物層的組成以及厚度與實(shí)施例1相同。
[0121] [表 3]
[0122]
[0123] 根據(jù)表3所示的結(jié)果，任一的實(shí)施例中蝕刻特性以及耐堿性的評(píng)價(jià)都為"A"。由此 確認(rèn)了，實(shí)施例14~24的透明導(dǎo)電體中的金屬氧化物層和金屬層可以容易地除去，而且具 有優(yōu)異的耐堿性。另外，如果金屬層的厚度變大，則確認(rèn)有表面電阻變小的傾向，并且有總 透光率降低的傾向。另外，在銀合金含有Pd的情況下，確認(rèn)保存穩(wěn)定性特別優(yōu)異。
[0124] [比較例1~7]
[0125] 除了作為形成第1金屬氧化物層以及第2金屬氧化物層時(shí)的靶使用具有表4所示的 組成的靶以外，與實(shí)施例1同樣地制作比較例1~4的透明導(dǎo)電體。在各個(gè)比較例中，第1金屬 氧化物層和第2金屬氧化物層使用具有相同的組成的靶來(lái)形成。各比較例中的第1金屬氧化 物層和第2金屬氧化物層的組成如表4所示。與實(shí)施例1同樣地評(píng)價(jià)了各比較例的透明導(dǎo)電 體的各個(gè)特性。結(jié)果如表4所示。
[0126] [表 4]
[0127]
[0128] 如表4所示，確認(rèn)了具有雖然含有Zn〇-In2〇3-Ti02的三種成分，但是具有Ti0 2的含 有率在本申請(qǐng)發(fā)明的范圍外的金屬氧化物層的透明導(dǎo)電體不能兼顧蝕刻特性以及耐堿性。
[0129] 產(chǎn)業(yè)上利用的可能性
[0130] 根據(jù)本公開(kāi)的內(nèi)容，可以提供能夠通過(guò)蝕刻容易地除去金屬氧化物層和金屬層， 并且耐堿性優(yōu)異且高透過(guò)率、低電阻的透明導(dǎo)電體。另外，根據(jù)本公開(kāi)的內(nèi)容，通過(guò)使用這 樣的透明導(dǎo)電體，可以提供能夠容易地制造的觸摸屏。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種透明導(dǎo)電體，其中， 依次層疊有透明樹(shù)脂基材、第1金屬氧化物層、含有銀合金的金屬層、以及第2金屬氧化 物層， 所述第2金屬氧化物層含有ZnO作為主成分，并且含有In2〇3和Ti02作為副成分， Ti〇2的含量相對(duì)于ZnO、In2〇3以及Ti02這3種成分的合計(jì)為6~15mol%。2. 如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電體，其中， 在所述第2金屬氧化物層中，ZnO的含量相對(duì)于ZnO、In2〇3以及Ti02這3種成分的合計(jì)為 73~84mol%，In2〇3的含量相對(duì)于所述3種成分的合計(jì)為9~18mol%。3. 如權(quán)利要求域2所述的透明導(dǎo)電體，其中， 所述金屬層的厚度為4~llnm。4. 如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電體，其中， 所述第1金屬氧化物層含有ZnO作為主成分，并且含有In2〇3和Ti02作為副成分，Ti0 2的含 量相對(duì)于ZnO、In2〇3以及Ti02這3種成分的合計(jì)為6~15mol %。5. 如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電體，其中， 所述銀合金為Ag與選自？(1、(：11、陽(yáng)、111、311以及313中的至少一種金屬的合金。6. -種觸摸屏，其中， 所述觸摸屏在面板上具有傳感器薄膜，所述傳感器薄膜由權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述 的透明導(dǎo)電體構(gòu)成。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠通過(guò)蝕刻容易地除去金屬氧化物層和金屬層并且耐堿性優(yōu)異的透明導(dǎo)電體。本發(fā)明提供一種透明導(dǎo)電體(100)，其依次層疊有透明樹(shù)脂基材(10)、第1金屬氧化物層(12)、含有銀合金的金屬層(16)、以及第2金屬氧化物層(14)，第2金屬氧化物層(14)含有ZnO作為主成分，并且含有In2O3和TiO2作為副成分，TiO2的含量相對(duì)于ZnO、In2O3以及TiO2這3種成分的合計(jì)為6～15mol％。
【IPC分類】G06F3/041
【公開(kāi)號(hào)】CN105700735
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510898460
【發(fā)明人】新開(kāi)浩
【申請(qǐng)人】Tdk株式會(huì)社
【公開(kāi)日】2016年6月22日
【申請(qǐng)日】2015年12月8日