觸控面板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型是關(guān)于一種觸控面板。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的進(jìn)步,各種信息設(shè)備不斷地推陳出新,例如手機(jī)、平板計(jì)算機(jī)、超輕薄筆記本計(jì)算機(jī)、及衛(wèi)星導(dǎo)航等。除了一般以鍵盤或鼠標(biāo)輸入或操控之外,利用觸控式技術(shù)來操控信息設(shè)備是一種相當(dāng)直覺且受歡迎的操控方式。其中,觸控顯示設(shè)備具有人性化及直覺化的輸入操作界面,使得任何年齡層的用戶都可直接以手指或觸控筆選取或操控信息設(shè)備,因此也愈來愈受市場(chǎng)所喜愛。
[0003]常見的觸控面板包括一層或多層的感測(cè)電極、一承載感測(cè)電極的承載基板、多個(gè)導(dǎo)線、一遮蔽層和可提供防刮、防眩光或防反射等功能的保護(hù)基板等。制作上,通常是將感測(cè)電極與導(dǎo)線形成在承載基板上,而遮蔽層設(shè)置在保護(hù)基板上,再將兩基板相互貼合而形成觸控面板。然而,使用兩片基板的制作方式不但會(huì)產(chǎn)生尺寸較厚的觸控面板,同時(shí)也需考慮貼合時(shí)的定位問題,因而增加生產(chǎn)時(shí)的復(fù)雜度。
[0004]由于現(xiàn)在的電子產(chǎn)品愈趨向輕薄短小,目前已有業(yè)者開發(fā)出單片式觸控技術(shù)(one-glass solut1n, OGS),此技術(shù)的觸控面板不需要上述的承載基板,是將感測(cè)電極及導(dǎo)線形成在具有遮蔽層的保護(hù)基板上,因而省去承載基板的厚度,使觸控面板更為輕薄。此單片式觸控技術(shù)的感測(cè)電極除了設(shè)置在可視區(qū)外,也會(huì)自可視區(qū)延伸設(shè)置在非可視區(qū)的遮蔽層上,以與導(dǎo)線電性連接而傳送觸控信號(hào)。然而,在可視區(qū)與非可視區(qū)的交界處,感測(cè)電極容易因遮蔽層與基板的高度差而斷裂,導(dǎo)致感測(cè)信號(hào)傳遞不良,進(jìn)而影響產(chǎn)品質(zhì)量。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]依據(jù)本實(shí)用新型的一種觸控面板包括一基板、一觸控電極層、一虛擬電極層、一遮蔽層以及一導(dǎo)電線路層?;寰哂幸豢梢晠^(qū)及一非可視區(qū)。觸控電極層設(shè)置在基板的可視區(qū),并延伸設(shè)置在部分非可視區(qū)上。虛擬電極層設(shè)置在基板的非可視區(qū),且是與觸控電極層共同設(shè)置在基板的同一側(cè)。虛擬電極層與觸控電極層是間隔設(shè)置而彼此電性絕緣。遮蔽層設(shè)置在非可視區(qū),并覆蓋虛擬電極層,且延伸覆蓋在部分觸控電極層上。遮蔽層具有多個(gè)穿孔。導(dǎo)電線路層設(shè)置在遮蔽層上。導(dǎo)電線路層通過多個(gè)穿孔而與觸控電極層電性連接。
[0006]在一實(shí)施例中,觸控電極層與虛擬電極層的材料相同。
[0007]在一實(shí)施例中,基板具有一折射率匹配層。觸控電極層及虛擬電極層是共同設(shè)置在折射率匹配層上。
[0008]在一實(shí)施例中,虛擬電極層包括多個(gè)虛擬電極單元。多個(gè)虛擬電極單元是間隔設(shè)置而彼此電性絕緣。
[0009]在一實(shí)施例中,導(dǎo)電線路層包括多個(gè)導(dǎo)線,多個(gè)虛擬電極單元的尺寸小于相鄰的兩個(gè)導(dǎo)線之間的間距。
[0010]在一實(shí)施例中,多個(gè)虛擬電極單元的形狀包括三角形、四邊形、條狀、波浪狀、或其組合。
[0011]承上所述,本實(shí)用新型的觸控面板將觸控電極層設(shè)置在基板上,且遮蔽層覆蓋部分觸控電極層,再透過遮蔽層上具有穿孔的設(shè)計(jì),使觸控電極層可與遮蔽層上的導(dǎo)電線路層電性連接,可避免公知的觸控電極層因遮蔽層與基板的高度差而斷裂的問題。另外,本實(shí)施例在非可視區(qū)設(shè)置虛擬電極,使得非可視區(qū)上對(duì)應(yīng)的迭合結(jié)構(gòu)皆包括透明導(dǎo)電膜及遮蔽層,如此可使非可視區(qū)的顏色呈現(xiàn)一致。
【附圖說明】
[0012]圖1A是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的一種觸控面板的上視圖。
[0013]圖1B是圖1A所示觸控面板沿直線AA的剖面圖。
[0014]圖1C是圖1A所示觸控面板的局部示意圖。
[0015]圖2是另一態(tài)樣的觸控面板的局部示意圖。
[0016]圖3是本實(shí)用新型另一實(shí)施例的觸控面板的剖面圖。
[0017]圖4是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的一種觸控面板的制作方法的步驟流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]以下將參照相關(guān)圖式,說明依本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的一種觸控面板及其制作方法,其中相同的元件將以相同的參考符號(hào)加以說明。以下實(shí)施例的內(nèi)容中所稱的方位“上”及“下”只是用來表示相對(duì)的位置關(guān)系。再者,一第一元件形成在一第二元件“上”、“之上”、“下”或“之下”可包括實(shí)施例中的第一元件與第二元件直接接觸,或也可包括第一元件與第二元件之間還有其他額外元件使第一元件與第二元件無直接接觸。
[0019]圖1A是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的一種觸控面板的上視圖,圖1B是圖1A所示觸控面板沿直線AA的剖面圖,圖1C是圖1A所示觸控面板的局部示意圖。請(qǐng)參考圖1A、圖1B及圖1C所示,觸控面板TP可例如但不限于應(yīng)用在智能型手機(jī)、平板計(jì)算機(jī)、或穿戴式裝置。觸控面板TP包括一基板1、一觸控電極層2、一虛擬電極層(dummy layer) 3、一遮蔽層4及一導(dǎo)電線路層5。
[0020]基板1可以是玻璃基板、塑料基板、藍(lán)寶石基板、或偏光片等透光基板,本實(shí)施例是以玻璃基板為例,但并不以此為限。基板1具有一可視區(qū)11及一非可視區(qū)12。本實(shí)施例的可視區(qū)11大致是四邊形的區(qū)域,當(dāng)觸控面板TP與一顯示面板連接時(shí),可視區(qū)11是顯示面板的顯示區(qū)域,用戶可透過可視區(qū)11看見顯示面板呈現(xiàn)的畫面,其中用戶是以基板1未設(shè)置觸控電極層2的一面,即圖1B的下方朝觸控面板TP看去,同時(shí)此面也是觸控面。另夕卜,在其他實(shí)施例中,可視區(qū)11也可以是圓形或其他形狀,在此并不加以限制。
[0021]非可視區(qū)12位在可視區(qū)11周邊,也就是位在可視區(qū)11的至少一側(cè),本實(shí)施例是以非可視區(qū)12位在可視區(qū)11的四個(gè)邊為例進(jìn)行說明。非可視區(qū)12是不顯示畫面的區(qū)域,其上方將設(shè)置遮蔽層4,以遮蓋導(dǎo)線、電路板、或其他電子元件而具有美觀的功能。
[0022]觸控電極層2設(shè)置在基板1上,虛擬電極層3與觸控電極層2共同設(shè)置在基板1的同一側(cè)。觸控電極層2是設(shè)置在基板1的可視區(qū)11上,并延伸設(shè)置在部分非可視區(qū)12上,而虛擬電極層3是設(shè)置在非可視區(qū)12上未設(shè)置觸控電極層2處,其中虛擬電極層3與觸控電極層2是間隔設(shè)置而彼此電性絕緣。另外,虛擬電極層3是電性浮接(floating),也就是說,虛擬電極層3除了不與觸控電極層2電性連接之外,虛擬電極層3也不與其他導(dǎo)體電性連接,因而虛擬電極層3并不具有電極的功能。
[0023]在本實(shí)施例中,觸控電極層2與虛擬電極層3的材料相同,可例如但不限于是銦錫氧化物(indium tin oxide, ITO)、銦鋅氧化物(indium zinc oxide, IZO)、摻氟氧化錫(fluorine doped tin oxide, FTO)、慘招氧化鋅(aluminum doped zinc oxide, AZO)、慘嫁氧化鋅(gallium doped zinc oxide, GZO)或石墨稀(graphene)等,其中本實(shí)施例是以銦錫氧化物(ΙΤ0)為例。在制作工藝上,觸控電極層2與虛擬電極層3是在相同的制作工藝中同時(shí)形成。舉例來說,先在基板1上形成一透明導(dǎo)電膜,例如以沉積或涂布等方式形成,接著對(duì)透明導(dǎo)電膜進(jìn)行蝕刻,其蝕刻處至少位在非可視區(qū)12內(nèi),并且是完全蝕刻,以將透明導(dǎo)電膜分為二個(gè)彼此電性不導(dǎo)通的部分,其中,完全位在非可視區(qū)12內(nèi)的部分即是虛擬電極層3,而跨越可視區(qū)11及非可視區(qū)12的另一部分即是觸控電極層2。
[0024]另外,觸控電極層2包括多個(gè)觸控電極單元21,各觸控電極單元21彼此間隔設(shè)置,本實(shí)施例只以一個(gè)軸向的觸控電極單元21來舉例說明,在實(shí)際設(shè)計(jì)上,還可包括另一軸向的觸控電極單元來實(shí)現(xiàn)觸控感測(cè)。較佳地,在上述對(duì)透明導(dǎo)電膜進(jìn)行蝕刻的步驟中,可同時(shí)以一預(yù)定圖案蝕刻出觸控電極層2上的觸控電極單元21,也就是觸控電極層2與虛擬電極層3之間的間隔以及觸控電極單元21是在同一個(gè)制作工藝下同時(shí)完成的。
[0025]另外,虛擬電極層3可包括多個(gè)虛擬電極單元31,各虛擬電極單元31之間是間隔設(shè)置而彼此電性絕緣。類似地,虛擬電極單元31較佳是在上述對(duì)透明導(dǎo)電膜進(jìn)行蝕刻的步驟中同時(shí)蝕刻而成。如此一來,透過在蝕刻步驟形成觸控電極單元21時(shí)同時(shí)形成虛擬電極單元31,可不需額外增加制作工序,進(jìn)而避免不必要的制作成本。另外,虛擬電極單元31的形狀可包括三角形、四邊形、條狀、波浪狀、或上述形狀的組合,例如圖1C所示的菱形或圖2所示的長(zhǎng)方形,且彼此的間隔可等距。而透過將虛擬電極層3分隔出多個(gè)虛擬電極單元31的設(shè)計(jì),可避免外部導(dǎo)電物不慎碰觸虛擬電極層3與觸控電極層2而造