觸控面板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種觸控面板。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，觸控面板逐漸普遍應(yīng)用于各種電子裝置中，例如智能型手機。在現(xiàn)有的觸控面板中，常以透明導電材料配置觸控感測陣列，以與顯示面板搭配而作為觸控顯示裝置使用。部分觸控面板還將此觸控感測陣列延伸到周邊的非可視區(qū)，以增加邊緣觸控的靈敏度。
[0003]—般而言，用于非可視區(qū)遮光設(shè)計的材料(例如黑色色阻)的絕緣阻抗普遍不高，且容易因制程因素而使絕緣阻抗下降，加上透明導電材料的導電率普遍較低，因此，在觸控面板的邊緣，當電流流經(jīng)觸控感測陣列較窄的部份時，容易因面臨的阻抗的增加，底層的絕緣阻抗不足，而產(chǎn)生靜電放電(electrostatic discharge ;ESD)的問題。在此狀況下，位于觸控面板邊緣的金屬連接線易遭電弧擊傷，致使觸控面板之觸控功能有失效之虞。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]基于此，本實施方式藉由設(shè)計觸控面板之非可視區(qū)內(nèi)的連接線寬度大于可視區(qū)內(nèi)的連接線寬度，降低在觸控面板的邊緣當電流流經(jīng)觸控感測陣列較窄的部份時所面臨的阻抗，進而避免靜電放電(electrostatic discharge;ESD)的產(chǎn)生。
[0005]本實用新型之一態(tài)樣提供一種觸控面板，包含基板、透明電極層以及橋接結(jié)構(gòu)?；灏梢晠^(qū)與位于可視區(qū)至少一側(cè)之非可視區(qū)。透明電極層設(shè)置于基板之上，且包含多個第一透明電極、至少一中央連接線、至少一周圍連接線以及多個第二透明電極。中央連接線設(shè)置于可視區(qū)并連接可視區(qū)內(nèi)相鄰的二個第一透明電極。周圍連接線設(shè)置于非可視區(qū)并連接非可視區(qū)內(nèi)相鄰的二個第一透明電極，其中周圍連接線于基板上的投影寬度大于中央連接線于基板上的投影寬度。每一橋接結(jié)構(gòu)橫跨中央連接線和周圍連接線之一而連接相鄰的二個第二透明電極。
[0006]于本實用新型之多個實施方式中，周圍連接線于基板上的投影寬度大約為0.3毫米，中央連接線于基板上的投影寬度大約為0.1毫米。
[0007]于本實用新型之多個實施方式中，周圍連接線于基板上的投影寬度大約為中央連接線于基板上的投影寬度的2至3倍。
[0008]于本實用新型之一或多個實施方式中，觸控面板更包含遮光層，設(shè)置于基板與透明電極層之間，用以定義可視區(qū)與非可視區(qū)。
[0009]于本實用新型之一或多個實施方式中，第一透明電極的排列方向大致垂直于第二透明電極的排列方向。
[0010]于本實用新型之一或多個實施方式中，觸控面板更包含光學膜，設(shè)置于透明電極層與基板之間或透明電極層之上。
[0011]于本實用新型之一或多個實施方式中，第一透明電極與第二透明電極的形狀為長條型、菱形、方形或上述之組合。
[0012]于本實用新型之一或多個實施方式中，周圍連接線于基板上的投影寬度大約為第一透明電極與周圍連接線連接之一部份于基板上的投影寬度的三分之一到二分之一。
[0013]于本實用新型之一或多個實施方式中，橋接結(jié)構(gòu)位于非可視區(qū)與可視區(qū)，橋接結(jié)構(gòu)中，位于非可視區(qū)者于基板上的投影長度大于位于可視區(qū)者于基板上的投影長度。
[0014]于本實用新型之一或多個實施方式中，于非可視區(qū)內(nèi)，相鄰的兩個第二透明電極之間具有周圍間距間，于可視區(qū)內(nèi)相鄰的兩個第二透明電極之間具有中央間距，周圍間距大于中央間距。
[0015]于本實用新型之一或多個實施方式中，每一橋接結(jié)構(gòu)包含金屬連接線與絕緣塊。金屬連接線連接相鄰的二個第二透明電極。絕緣塊設(shè)置于中央連接線和周圍連接線之一與金屬連接線之間。
【附圖說明】
[0016]圖1A為本實用新型之一實施方式之觸控面板之局部上視圖。
[0017]圖1B為圖1A之部分A之放大圖。
[0018]圖1C為沿圖1A之線C-C之剖面圖。
[0019]圖1D為沿圖1A之線D-D之剖面圖。
[0020]圖1E為沿圖1A之線E-E之剖面圖。
[0021]附圖標記說明:
[0022]100:觸控面板
[0023]110:基板
[0024]120:透明電極層
[0025]122:第一透明電極
[0026]122a:長條部份
[0027]124:中央連接線
[0028]126:周圍連接線
[0029]128:第二透明電極
[0030]130A:橋接結(jié)構(gòu)
[0031]130B:橋接結(jié)構(gòu)
[0032]132A:金屬連接線
[0033]132B:金屬連接線
[0034]134A:絕緣塊
[0035]134B:絕緣塊
[0036]140:引線
[0037]150:遮光層
[0038]160:光學膜
[0039]B:部分
[0040]Pl:周圍間距[0041 ]P2:中央間距
[0042]Wl:寬度
[0043]W2:寬度
[0044]W3:寬度
[0045]NA:非可視區(qū)
[0046]VA:可視區(qū)
[0047]C-C:線
[0048]D-D:線
[0049]E-E:線
[0050]Dl:第一方向
[0051]D2:第二方向
【具體實施方式】
[0052]以下將以附圖揭露本實用新型的多個實施方式，為明確說明起見，許多實務(wù)上的細節(jié)將在以下敘述中一并說明。然而，應(yīng)了解到，這些實務(wù)上的細節(jié)不應(yīng)用以限制本實用新型。也就是說，在本實用新型部分實施方式中，這些實務(wù)上的細節(jié)是非必要的。此外，為簡化附圖起見，一些公知慣用的結(jié)構(gòu)與組件在附圖中將以簡單示意的示出。
[0053]同時參照圖1A與圖1B。圖1A為本實用新型之一實施方式之觸控面板100之局部上視圖。圖1B為圖1A之部分B之放大圖。觸控面板100包含基板110、透明電極層120以及多個橋接結(jié)構(gòu)130A、130B。基板110包含可視區(qū)VA與位于可視區(qū)VA至少一側(cè)之非可視區(qū)NA，于此，以虛線為界線劃分可視區(qū)VA與非可視區(qū)NA。透明電極層120設(shè)置于基板110之上，且包含多個第一透明電極122、至少一中央連接線124、至少一周圍連接線126以及多個第二透明電極128。中央連接線124設(shè)置于可視區(qū)VA并于可視區(qū)VA內(nèi)連接相鄰的二個第一透明電極122。周圍連接線126設(shè)置于非可視區(qū)NA并于非可視區(qū)NA內(nèi)連接相鄰的二個第一透明電極122。
[0054]參照圖1B，周圍連接線126于基板110上具有投影寬度Wl，中央連接線124于基板110上具有投影寬度W2，其中周圍連接線126的投影寬度Wl大于中央連接線124的投影寬度W2。于此，橋接結(jié)構(gòu)130A橫跨中央連接線124而連接相鄰的二個第二透明電極128，橋接結(jié)構(gòu)130B橫跨周圍連接線126而連接相鄰的二個第二透明電極128。
[0055]于本實用新型之多個實施方式中，橋接結(jié)構(gòu)130A包含金屬連接線132A與絕緣塊134A，橋接結(jié)構(gòu)130B包含金屬連接線132B與絕緣塊134B。每一金屬連接線132A、132B連接相鄰的二個第二透明電極128。絕緣塊134A設(shè)置于中央連接線124與金屬連接線132A之間，絕緣塊134B設(shè)置于周圍連接線126與金屬連接線132B之間，分別用以電性隔絕金屬連接線132A與中央連接線124或金屬連接線132B與周圍連接線126，進而電性隔絕第一透明電極122與第二透明電極128。
[0056]再回到圖1A，于部分實施方式中，觸控面板100還包含引線140，引線140設(shè)置于非可視區(qū)NA，且引線140之一端與第一透明電極122或第二透明電極128電性連接，用以傳遞觸控訊號至處理單元(未繪示)，例如集成電路芯片，進而計算或辨認使用者手指的觸控位置。
[0057]參照圖1C，圖1C為沿圖1A之線C-C之剖面圖。于本實施方式中，觸控面板100還包含遮光層150與光學膜160。遮光層150配置于觸控面板100的邊緣，并且設(shè)置在基板110之表面上而位于基板110與透明電極層120之間，用以定義可視區(qū)VA與非可視區(qū)NA。遮光層150可以是黑色色阻、白色色阻或其它具有低穿透率與低反射率的材料。光學膜160可以是增亮膜或抗反射膜，用以提升人們視覺感受上的亮度。此外，于多個實施方式中，基板110可以為具有較佳絕緣阻抗的硬質(zhì)基板或軟質(zhì)基板，硬質(zhì)基板例如可為玻璃基板或壓克力基板，軟質(zhì)基板可為例如聚醯亞胺(poly imide; PI)基板。
[0058]同時參照圖1A與圖1C。為了增強觸控面板100的邊緣觸控能力，本實施方式中，至少部分透明電極層120 (例如第一透明電極122與第二透明電極128)與橋接結(jié)構(gòu)130B設(shè)置于非可視區(qū)NA內(nèi)(即位于遮光層150上方)，以使觸控感測的范圍涵蓋至觸控面板100的邊緣。
[0059]然而，一般遮光層150的絕緣阻抗低于基板110的絕緣阻抗，使得非可視區(qū)NA內(nèi)透明電極層120下方的層體的絕緣阻抗較低，例如大約為1011歐姆，可視區(qū)VA內(nèi)透明電極層120下方的層體的絕緣阻抗較高，例如大約為1013歐姆。由于一般透明電極的材料阻抗較高且透明電極層120于非可視區(qū)NA的底層的絕緣阻抗較低，如果以一般方式配置非可視區(qū)NA內(nèi)透明連接線，容易使得靜電電荷累積在連接線的附近，而造成靜電放電(electrostaticdischarge; ESD)的問題。
[0060]據(jù)此，本實用新型之多個實施方式中，為了克服在加強邊緣觸控能力時，容易在非可視區(qū)NA遭遇到的靜電放電的問題，可以配置周圍連接線126的寬度Wl大于一定值，藉此，降低在非可視區(qū)NA的第一透明電極