本發(fā)明涉及非共振雙光子吸收記錄材料和非共振雙光子吸收化合物。更具體而言，本發(fā)明提供一種具有高耐濕/熱性的記錄材料，其通過非共振雙光子吸收在記錄介質(zhì)內(nèi)部進(jìn)行記錄凹坑的三維記錄，這確?？梢宰x出被記錄的記錄凹坑，并且非共振雙光子吸收記錄能夠利用短于700nm的波長范圍內(nèi)的記錄光進(jìn)行，并提供一種雙光子吸收化合物

背景技術(shù)：
通常，非線性光學(xué)效應(yīng)表示與所施加的光電場的平方、立方或更高次方成正比的非線性光學(xué)響應(yīng)。已知的與所施加的光電場的平方成正比的二階非線性光學(xué)效應(yīng)的例子包括二次諧波產(chǎn)生(SHG)、光整流、光折變效應(yīng)、泡克爾斯（Pockels）效應(yīng)、參量放大、參量振蕩、和頻光混頻（lightsumfrequencymixing）、和差頻光混頻（lightdifferencefrequencymixing）。此外，與所施加的光電場的立方成正比的三階非線性光學(xué)效應(yīng)的例子包括三次諧波產(chǎn)生(THG)、光克爾（Kerr）效應(yīng)、自致折射率改變和雙光子吸收。關(guān)于表現(xiàn)出這些非線性光學(xué)效應(yīng)的非線性光學(xué)材料，迄今為止人們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了大量的無機(jī)材料。然而，由于用于優(yōu)化所期望的非線性光學(xué)特性或器件生產(chǎn)所需的各種性質(zhì)的所謂分子設(shè)計(jì)是困難的，因此無機(jī)材料幾乎不能在實(shí)踐中應(yīng)用。另一方面，有機(jī)化合物不僅能通過分子設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)對(duì)所期望的非線性光學(xué)特性的優(yōu)化，還能控制其他各種性質(zhì)，因此其實(shí)際使用的可能性高。因而，有機(jī)化合物作為有前景的非線性光學(xué)材料正在引起人們的關(guān)注。近年來，在有機(jī)化合物的非線性光學(xué)特性中，三階非線性光學(xué)效應(yīng)，特別是非共振雙光子吸收正受到關(guān)注。雙光子吸收是化合物同時(shí)吸收兩個(gè)光子而被激發(fā)的一種現(xiàn)象。在不存在化合物的(線性)吸收帶的能量范圍內(nèi)發(fā)生雙光子吸收的情況被稱為非共振雙光子吸收。在下文中，即使沒有特別指明，“雙光子吸收”也表示“非共振雙光子吸收”。此外，“同時(shí)雙光子吸收”有時(shí)省略“同時(shí)”而簡稱為“雙光子吸收”。同時(shí)，非共振雙光子吸收效率與所施加的光電場的平方成正比（雙光子吸收的二次相關(guān)性）。因此，當(dāng)用激光照射二維平面時(shí)，雙光子吸收只發(fā)生在激光光斑的中心部分中具有高電場強(qiáng)度的位置處，而雙光子吸收絕對(duì)不會(huì)發(fā)生在外周中具有弱電場強(qiáng)度的部分。另一方面，在三維空間內(nèi)，雙光子吸收只發(fā)生在激光射線通過透鏡會(huì)聚的焦點(diǎn)處具有較大電場強(qiáng)度的區(qū)域中，并且雙光子吸收完全不會(huì)發(fā)生在離焦區(qū)域中，因?yàn)樵搮^(qū)域處電場強(qiáng)度弱。與和所施加的光電場強(qiáng)度成正比的、在全部位置處發(fā)生激發(fā)的線性吸收相比，在非共振雙光子吸收中，由于二次相關(guān)性，激發(fā)只發(fā)生在空間內(nèi)的一個(gè)點(diǎn)，因此空間分辨率顯著增強(qiáng)。通常，在誘導(dǎo)非共振雙光子吸收的情況下，近紅外區(qū)域內(nèi)的短脈沖激光被用在許多情況下，其中所述近紅外區(qū)域中的波長大于存在化合物的(線性)吸收帶的波長區(qū)域的波長，并且該近紅外區(qū)域沒有吸收。由于使用了所謂的透明區(qū)域中的近紅外光，因此激發(fā)光可以到達(dá)樣品的內(nèi)部而不被吸收或散射，并且由于非共振雙光子吸收的二次相關(guān)性，因此能夠以極高的空間分辨率將樣品內(nèi)部的一個(gè)點(diǎn)激發(fā)。本申請(qǐng)人已經(jīng)提交了與雙光子敏化型三維記錄材料相關(guān)的多項(xiàng)專利申請(qǐng)，該記錄材料使用了能誘導(dǎo)非共振雙光子吸收的化合物。該記錄材料是一種至少包含(1)雙光子吸收化合物(雙光子敏化劑)和(2)折射率調(diào)節(jié)材料或熒光強(qiáng)度調(diào)節(jié)材料的記錄材料，其中(1)有效地進(jìn)行雙光子吸收，并且通過光激發(fā)電子遷移或能量轉(zhuǎn)移將獲得的能量傳遞給(2)，從而改變(2)的折射率或熒光強(qiáng)度，從而進(jìn)行記錄。由于使用了非共振雙光子吸收，而不是用于普通光學(xué)記錄的光吸收過程中的單光子吸收，因此可在記錄材料內(nèi)部的任意位置處寫入具有三維空間分辨率的記錄凹坑。例如，專利文獻(xiàn)1公開了這樣一種技術(shù)，該技術(shù)使用了一種能夠通過染料的顯色來調(diào)節(jié)折射率的材料，或者一種能夠由非熒光改變?yōu)闊晒饣蛴蔁晒飧淖優(yōu)榉菬晒鈴亩{(diào)節(jié)熒光的材料(一種能夠通過染料或熒光染料的顯色來調(diào)節(jié)折射率或熒光的材料)，以作為(2)折射率或熒光強(qiáng)度調(diào)節(jié)材料。此外，專利文獻(xiàn)2公開了這樣一種技術(shù)，作為(2)折射率或熒光強(qiáng)度調(diào)節(jié)材料，該技術(shù)使用了一種能夠通過染料的微弱顯色或熒光的變化來形成種子（seed）（潛像核(latentimagespeck)），然后在光照或加熱下進(jìn)行記錄和放大的材料（一種折射率/熒光調(diào)節(jié)和潛像放大系統(tǒng)；形成能夠通過染料的顯色來調(diào)節(jié)折射率/熒光的潛像的材料）。此外，例如，專利文獻(xiàn)3公開了這樣一種技術(shù)，作為(2)折射率調(diào)節(jié)材料，該技術(shù)使用了一種能夠通過聚合而形成大分子聚合物從而調(diào)節(jié)折射率的材料（一種通過聚合進(jìn)行折射率調(diào)節(jié)的材料）。此外，專利文獻(xiàn)4公開了這樣一種技術(shù)，作為折射率調(diào)節(jié)材料，該技術(shù)使用了一種能夠形成極微小的聚合的潛像核，然后驅(qū)動(dòng)聚合的材料（一種折射率調(diào)節(jié)及潛像聚合系統(tǒng)；形成能夠通過聚合來調(diào)節(jié)折射率的潛像的材料)。在專利文獻(xiàn)1至4中記載的所有雙光子敏化型三維記錄材料中，對(duì)700nm以上的光能夠進(jìn)行雙光子吸收的材料被用作(1)雙光子吸收化合物(雙光子敏化劑)。然而，近年來有各種各樣的需求，尤其是，為了獲得更高的記錄密度，需求這樣一種記錄材料，其能夠通過用波長區(qū)域短于700nm的記錄光進(jìn)行非共振雙光子吸收記錄，從而在記錄材料中形成較小的凹坑。專利文獻(xiàn)5中描述的雙光子吸收化合物能進(jìn)行非共振雙光子吸收記錄。順便提及的是，在非專利文獻(xiàn)1中，公開了具有如下所示結(jié)構(gòu)的化合物對(duì)450nm至600nm的光表現(xiàn)出非共振雙光子吸收性質(zhì)。[化學(xué)式1]然而，對(duì)于使用上述文獻(xiàn)中所述雙光子吸收化合物的非共振雙光子吸收記錄材料，沒有關(guān)于其耐濕/熱性的描述，其中上述文獻(xiàn)中所述雙光子吸收化合物能夠通過利用波長區(qū)域小于700nm的記錄光來進(jìn)行非共振雙光子吸收記錄?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：JP-A-2007-87532(本文所用的術(shù)語“JP-A”是指“未經(jīng)審查的已公開日本專利申請(qǐng)”)專利文獻(xiàn)2：JP-A-2005-320502專利文獻(xiàn)3：JP-A-2005-29725專利文獻(xiàn)4：JP-A-2005-97538專利文獻(xiàn)5：JP-A-2010-108588非專利文獻(xiàn)非專利文獻(xiàn)1：Y.Morel,O.Stephan,C.Andraud和P.L.Baldeck,Synth.Met.,2001年,第124卷,第237頁

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明待解決的問題本發(fā)明的目的是提供一種非共振雙光子吸收記錄材料，以及可用于其中的非共振雙光子吸收聚合物化合物，其中所述非共振雙光子吸收記錄材料具有高耐濕/熱性和充分的記錄/讀取特性。解決問題的方案作為深入研究的結(jié)果，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，可以通過以下構(gòu)造來實(shí)現(xiàn)上述目的。1.一種非共振雙光子吸收記錄材料，其包含非共振雙光子吸收聚合物化合物。2.如上述1所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中所述非共振雙光子吸收聚合物化合物的主鏈包含選自聚苯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酯、聚氨酯、聚醚和聚酰亞胺中的至少一者。3.如上述1或2所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中所述非共振雙光子吸收聚合物化合物是包含由下式(1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物：[化學(xué)式2]式(1)(其中Y代表Hammettσ-p值(σp值)為0以上的取代基；X代表Hammettσ-p值(σp值)為0以上的二價(jià)取代基；X和Y可以彼此相同或不同；n代表1至4的整數(shù)；R1代表氫原子或取代基；R2代表二價(jià)取代基；R3代表取代基；當(dāng)存在多個(gè)R1、R2或R3時(shí)，R1、R2或R3可以與其它各R1、R2或R3相同或不同；l代表1或更大的整數(shù)；并且m代表0至4的整數(shù))。4.如上述1至3中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中所述非共振雙光子吸收聚合物化合物是包含由下式(2)表示的結(jié)構(gòu)的化合物：[化學(xué)式3]式(2)(其中Y代表Hammettσ-p值(σp值)為0以上的取代基；X代表Hammettσ-p值(σp值)為0以上的二價(jià)取代基；X和Y可以彼此相同或不同；n代表1至4的整數(shù)；R1代表氫原子或取代基；R2代表二價(jià)取代基；R3代表取代基；當(dāng)存在多個(gè)R1、R2或R3時(shí)，R1、R2或R3可以與其它各R1、R2或R3相同或不同；l代表1或更大的整數(shù)；并且m代表0至4的整數(shù))。5.如上述1至4中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中所述由式(1)或(2)代表的非共振雙光子吸收聚合物化合物是包含由下式(3)表示的結(jié)構(gòu)的化合物：[化學(xué)式4]式(3)(其中Y代表Hammettσ-p值(σp值)為0以上的取代基；n代表1至4的整數(shù)；R1代表氫原子或取代基；R2代表二價(jià)取代基；R3代表取代基；當(dāng)存在多個(gè)R1、R2或R3時(shí)，R1、R2或R3可以與其它各R1、R2或R3相同或不同；l代表1或更大的整數(shù)；并且m代表0至4的整數(shù))。6.如上述1至5中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中所述由式(1)、(2)或(3)代表的非共振雙光子吸收聚合物化合物是包含由下式(4)表示的結(jié)構(gòu)的化合物：[化學(xué)式5]式(4)(其中Y代表Hammettσ-p值(σp值)為0以上的取代基；n代表1至4的整數(shù)；R1代表氫原子或取代基；R2代表二價(jià)取代基；R3代表取代基；當(dāng)存在多個(gè)R1、R2或R3時(shí)，R1、R2或R3可以與其它各R1、R2或R3相同或不同；l代表1或更大的整數(shù)；并且m代表0至4的整數(shù))。7.如上述1至6中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中所述非共振雙光子吸收記錄材料包含以下聚合物化合物，該聚合物化合物包含由式(1)至(4)中至少一者代表的非共振雙光子吸收聚合物化合物作為共聚物組分。8.如上述1至7中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中形成記錄層的所述非共振雙光子吸收記錄材料至少包含(a)上述1至7中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收聚合物化合物和(b)能夠改變雙光子記錄前后反射光強(qiáng)度的材料。9.如上述1至7中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中形成記錄層的所述非共振雙光子吸收記錄材料至少包含(a)上述1至7中所述的非共振雙光子吸收聚合物化合物和(b)能夠改變雙光子記錄前后的折射率的材料。10.如上述1至7中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中形成記錄層的所述非共振雙光子吸收記錄材料包含上述1至7中所述的非共振雙光子吸收聚合物化合物，并且上述1至7中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收聚合物化合物能夠改變雙光子記錄前后的反射光強(qiáng)度。11.如上述1至7中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收記錄材料，其中形成記錄層的所述非共振雙光子吸收記錄材料包含上述1至7中所述的非共振雙光子吸收聚合物化合物，并且上述1至7中任意一項(xiàng)所述的非共振雙光子吸收聚合物化合物能夠改變雙光子記錄前后的折射率。12.一種光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其具有包含上述1至7中任意一項(xiàng)所述的記錄材料的記錄層。13.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述記錄層的厚度為50nm至5μm。14.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)記錄介質(zhì)具有與所述記錄層相鄰的中間層，從而將所述記錄層物理分離，并形成能夠通過膨脹來形成記錄標(biāo)記的界面。15.如上述14所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述記錄層和所述中間層之間的折射率差為0.01至0.5。16.如上述14所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述中間層的厚度為2μm至20μm。17.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)具有基板。18.如上述17所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述基板的厚度為0.02mm至2mm。19.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)具有導(dǎo)向?qū)?，該?dǎo)向?qū)佑糜谠谟涗浧陂g通過跟蹤伺服進(jìn)行徑向位置控制。20.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)具有位于相對(duì)于記錄層的光入射側(cè)表面?zhèn)鹊母采w層。21.如上述20所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述覆蓋層的厚度為0.01mm至0.2mm。22.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)具有反射層。23.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)具有間隔層。24.如上述23所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述間隔層的厚度為5μm至100μm。25.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)執(zhí)行標(biāo)記。26.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)具有位于光入射側(cè)表面上的硬涂層。27.如上述12所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)容納在盒中。28.如上述13至27中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)。29.一種在上述28所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)上記錄/再現(xiàn)的方法，其中所述光學(xué)信息記錄介質(zhì)的表面上的記錄激光的峰值功率為1W至100W，該光學(xué)信息記錄介質(zhì)的表面上的記錄激光的平均功率為100mW或更低，并且所述記錄激光的脈沖寬度和振蕩周期的乘積為0.001至0.1。30.一種在上述28所述的光學(xué)信息記錄介質(zhì)上記錄/再現(xiàn)的方法，包括在再現(xiàn)信息時(shí)使用共焦光學(xué)系統(tǒng)。31.一種由下式(5)表示的化合物：[化學(xué)式6]式(5)(其中R4、R5和R6各自代表氫原子或取代基，并且R4、R5和R6可以彼此相同或不同)。32.一種由下式(6)表示的化合物：[化學(xué)式7]式(6)(其中R7、R8和R9各自代表氫原子或取代基，并且R7、R8和R9可以彼此相同或不同)。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)根據(jù)本發(fā)明雙光子吸收記錄材料的構(gòu)造，能夠進(jìn)行非共振雙光子吸收記錄，并且與此同時(shí)，記錄后的耐濕/熱性高。附圖簡要說明[圖1]圖1為示出了用于本發(fā)明的雙光子吸收記錄材料的記錄/再現(xiàn)的記錄/再現(xiàn)裝置的一個(gè)實(shí)例的輪廓圖。[圖2]圖2為示出了使用本發(fā)明的雙光子吸收記錄材料的光學(xué)信息記錄介質(zhì)的一個(gè)實(shí)例的概略圖。具體實(shí)施方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的雙光子吸收記錄材料。<非共振雙光子吸收聚合物化合物>下面描述用于本發(fā)明的非共振雙光子吸收記錄材料中的(a)非共振雙光子吸收聚合物化合物。對(duì)非共振雙光子吸收聚合物化合物的主鏈沒有特別限制，但其具體的例子包括聚苯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酯、聚氨酯、聚醚、聚酰亞胺。其中，優(yōu)選聚苯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯和聚氨酯，并且最優(yōu)選聚丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸酯。非共振雙光子吸收聚合物化合物的重均分子量優(yōu)選為1,000至1,000,000，更優(yōu)選為10,000至700,000，并且最優(yōu)選為30,000至500,000。對(duì)非共振雙光子吸收聚合物化合物的分子量分布(重均分子量÷數(shù)均分子量，Mw/Mn)沒有特別限制，但優(yōu)選為5.0以下，更優(yōu)選為3.0以下，并且最優(yōu)選為2.0以下。非共振雙光子吸收聚合物化合物優(yōu)選為這樣的聚合物化合物，該聚合物化合物含有由后述的式(1)至(4)中至少任意一個(gè)表示的非共振雙光子吸收聚合物化合物、以及除該非共振雙光子吸收聚合物化合物以外的一種單體作為共聚物組分。在共聚物的情況下，對(duì)非共振雙光子吸收聚合物化合物的組成比例沒有特別的限制，但雙光子吸收化合物的比例優(yōu)選為1摩爾%至80摩爾%，更優(yōu)選為3摩爾%至50摩爾%，并且最優(yōu)選為8摩爾%至30摩爾%。對(duì)非共振雙光子吸收聚合物化合物的共聚組分的數(shù)目沒有特別限制，但優(yōu)選為10以下，更優(yōu)選為5以下，并且最優(yōu)選為3以下。非共振雙光子吸收聚合物化合物的共聚物構(gòu)型可以為嵌段共聚物、無規(guī)共聚物和接枝共聚物中的任意一種。在合成本發(fā)明的非共振雙光子吸收聚合物化合物的聚合反應(yīng)中，其反應(yīng)類型優(yōu)選為自由基聚合、陽離子聚合、陰離子聚合和縮聚中的任意一種，更優(yōu)選為自由基聚合或陽離子聚合，并且最優(yōu)選為自由基聚合。此時(shí)，對(duì)于包含在具有聚合性基團(tuán)的染料或包含在不具有染料部分的聚合性化合物中的聚合性基團(tuán)，當(dāng)該聚合是自由基聚合時(shí)，該聚合性基團(tuán)為烯鍵不飽和基團(tuán)部分，如丙烯?；⒓谆；⒈揭蚁┗鸵蚁┗?，優(yōu)選為丙烯?；蚣谆；?，并且當(dāng)該聚合為陽離子聚合或陰離子聚合時(shí)，該可聚合基團(tuán)為環(huán)氧乙烷環(huán)、氧雜環(huán)丁烷環(huán)、乙烯醚基和N-乙烯基咔唑部分中的任意一種，優(yōu)選環(huán)氧乙烷環(huán)或氧雜環(huán)丁烷環(huán)。合成本發(fā)明的非共振雙光子吸收聚合物化合物時(shí)使用的溶劑(例如）包括：二氯乙烷、環(huán)己酮、甲基乙基酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲二醇乙醚乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、丙二醇甲醚醋酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲亞砜、甲苯、四氫呋喃、乙酸乙酯、乳酸甲酯、以及乳酸乙酯。這些溶劑可以單獨(dú)使用，或者兩種或更多種混合使用。對(duì)可用作非共振雙光子吸收聚合物化合物的共聚組分的單體沒有特別限制，但具體包括下列化合物：均具有脂族羥基的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，如丙烯酸-2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯、丙烯酸-3-羥丙酯、丙烯酸-4-羥丁酯、甲基丙烯酸-2-羥乙酯、甲基丙烯酸-2-羥丙酯、甲基丙烯酸-3-羥丙酯和甲基丙烯酸-4-羥丁酯；丙烯酸烷基酯，如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸-2-乙基已酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸芐酯、丙烯酸-2-氯乙酯、丙烯酸縮水甘油酯、3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲基丙烯酸酯、丙烯酸乙烯酯、丙烯酸-2-苯基乙烯酯、丙烯酸-1-丙烯酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸-2-烯丙氧基乙酯和丙烯酸炔丙酯；甲基丙烯酸烷基酯，如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸-2-氯乙酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸-2-苯基乙烯酯、甲基丙烯酸1-丙烯酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸-2-烯丙氧基乙酯和甲基丙烯酸酯炔丙酯；丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺，如丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羥甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-己基甲基丙烯酰胺、N-環(huán)己基丙烯酰胺、N-羥乙基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-硝基苯基丙烯酰胺、N-乙基-N-苯基丙烯酰胺、乙烯基丙烯酰胺、乙烯基甲基丙烯酰胺、N,N-二烯丙基丙烯酰胺、N,N-二烯丙基甲基丙烯酰胺、烯丙基丙烯酰胺和烯丙基甲基丙烯酰胺；乙烯基醚類，如乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羥乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、辛基乙烯基醚和苯基乙烯基醚；乙烯酯類，如乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯；苯乙烯類，如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯和對(duì)乙酰氧基苯乙烯；乙烯基酮類，如甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮和苯基乙烯基酮；烯烴，如乙烯、丙烯、異丁烯、丁二烯和異戊二烯；N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯腈、甲基丙烯腈等；不飽和酰亞胺，如馬來酰亞胺、N-丙烯?；０?、N-乙?；谆０贰-丙?；谆０泛蚇-(對(duì)氯苯甲?；?甲基丙烯酰胺；以及雜原子連在α-位的甲基丙烯酸類單體，如日本專利文獻(xiàn)JP-A-2002-309057和JP-A-2002-311569中描述的化合物。其它例子包括非鹵素類脂肪族化合物。具體地，單官能型的例子包括不飽和酸化合物，如(甲基)丙烯酸、衣康酸和馬來酸；烷氧基亞烷基二醇(甲基)丙烯酸酯型，如甲氧基二乙(丙)二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙(丙)二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基四乙(丙)二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙(丙)二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基二乙(丙)二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基三乙(丙)二醇(甲基)丙烯酸酯和乙氧基聚乙(丙)二醇(甲基)丙烯酸酯；脂環(huán)族(甲基)丙烯酸酯型，如環(huán)己基(甲基)丙烯酸酯、四氫呋喃基(甲基)丙烯酸酯、異冰片基(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊基(甲基)丙烯酸酯、三環(huán)戊基(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊二烯基(甲基)丙烯酸酯和蒎烷基(甲基)丙烯酸酯；胺型(甲基)丙烯酸酯，如N,N-二甲氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二乙氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺和雙丙酮(甲基)丙烯酰胺；以及含官能團(tuán)的(甲基)丙烯酸酯，如烯丙基(甲基)丙烯酸酯和縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯。其次，多官能型的例子包括烷基型(甲基)丙烯酸酯，如1,3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙(丙烯酰氧基新戊二醇)己二酸酯、雙(甲基丙烯酰氧基新戊二醇)己二酸酯、表氯醇改性的1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯(KayaradR-167，日本化藥株式會(huì)社制)、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯和己內(nèi)酯改性的羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯(KayaradHX系列，日本化藥株式會(huì)社制)；亞烷基二醇類(甲基)丙烯酸酯，如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性的乙二醇二(甲基)丙烯酸酯(DenacolDA(M)-811，由長瀨產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造)、表氯醇改性的乙二醇二(甲基)丙烯酸酯(DenacolDA(M)-851，由長瀨產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造)、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯和表氯醇改性的丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(DA(M)-911，由長瀨產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造)；三羥甲基丙烷型(甲基)丙烯酸酯，如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性的三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯(KayaradR-604，由日本化藥株式會(huì)社制造)、環(huán)氧乙烷改性的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(SartomerSR-454)、環(huán)氧丙烷改性的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(TPA-310，由日本化藥株式會(huì)社制造)和表氯醇改性的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(DA(M)-321，由長瀨產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造)；季戊四醇型(甲基)丙烯酸酯，如季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性的季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯(AronixM-233，由東亞合成化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單羥基五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性的二季戊四醇的聚(甲基)丙烯酸酯(例如，KayaradD-310、320和330，由日本化藥株式會(huì)社制造)和己內(nèi)酯改性的二季戊四醇的聚(甲基)丙烯酸酯(例如，KayaradDPCA-20、30、60和120，由日本化藥株式會(huì)社制造)；丙三醇型(甲基)丙烯酸酯，如丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性的丙三醇三(甲基)丙烯酸酯(DenacolDA(M)-314，由長瀨產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造)和三丙三醇二(甲基)丙烯酸酯；脂環(huán)族(甲基)丙烯酸酯，如二環(huán)戊基二(甲基)丙烯酸酯、三環(huán)戊基二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)己基二(甲基)丙烯酸酯和甲氧基化環(huán)己基二(甲基)丙烯酸酯(CAM-200，由三洋國策紙漿株式會(huì)社制造)；以及異氰脲酸酯型(甲基)丙烯酸酯，如三(丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯(ARONIXM-315由東亞合成化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)、三(甲基丙烯酰氧基)異氰脲酸酯、己內(nèi)酯改性的三(丙烯酰氧基乙基)異氰尿酸酯和己內(nèi)酯改性的三(甲基丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯。下面描述在僅由脂肪族基團(tuán)組成并具有聚合性烯屬不飽和基團(tuán)的化合物中，(例如)分子中還含有硫原子的化合物。單官能型的例子包括烷氧基亞烷基二醇硫代(甲基)丙烯酸酯型,如甲氧基二乙(丙)二醇硫代(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙(丙)二醇硫代(甲基)丙烯酸酯、甲氧基四乙(丙)二醇硫代(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙(丙)二醇硫代(甲基)丙烯酸酯、乙氧基二乙(丙)二醇硫代(甲基)丙烯酸酯、乙氧基三乙(丙)二醇硫代(甲基)丙烯酸酯和乙氧基聚乙(丙)二醇硫代(甲基)丙烯酸酯；以及脂環(huán)族硫代(甲基)丙烯酸酯型，如環(huán)己基硫代(甲基)丙烯酸酯、四氫呋喃基硫代(甲基)丙烯酸酯、異冰片基硫代(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊基硫代(甲基)丙烯酸酯、三環(huán)戊基硫代(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊二烯基硫代(甲基)丙烯酸酯和蒎烷基硫代(甲基)丙烯酸酯。多官能型的例子包括烷基型硫代(甲基)丙烯酸酯，如1,3-丙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、雙(硫代丙烯酰氧基新戊二醇)己二酸酯、雙(硫代甲基丙烯酰氧基新戊二醇)己二酸酯、表氯醇改性的1,6-己二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯和己內(nèi)酯改性的羥基特戊酸新戊二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯；亞烷基二醇型硫代(甲基)丙烯酸酯，如乙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性的乙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性的二乙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二硫代(甲基)丙烯酸和表氯醇改性的丙二醇二硫代(甲基)丙烯酸酯；三羥甲基丙烷型硫代(甲基)丙烯酸酯，如三羥甲基丙烷三硫代(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷三硫代(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性的三羥甲基丙烷二硫代(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性的三羥甲基丙烷三硫代(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性的三羥甲基丙烷三硫代(甲基)丙烯酸酯和表氯醇改性的三羥甲基丙烷三硫代(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇型硫代(甲基)丙烯酸酯，如季戊四醇三硫代(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四硫代(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性的季戊四醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六硫代(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單羥基五硫代(甲基)丙烯酸酯、烷基改性的二季戊四醇多硫代(甲基)丙烯酸酯和己內(nèi)酯改性的二季戊四醇多硫代(甲基)丙烯酸酯；丙三醇型硫代(甲基)丙烯酸酯，如丙三醇二硫代(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性的丙三醇三硫代(甲基)丙烯酸酯和三丙三醇二硫代(甲基)丙烯酸酯；脂環(huán)族硫代(甲基)丙烯酸酯，如二環(huán)戊基二硫代(甲基)丙烯酸酯、三環(huán)戊基二硫代(甲基)丙烯酸酯、環(huán)己基二硫代(甲基)丙烯酸酯、甲氧基化環(huán)己基二硫代(甲基)丙烯酸酯；以及異氰脲酸酯型硫代(甲基)丙烯酸酯，如三(硫代丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯、三(硫代甲基丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯、己內(nèi)酯改性的三(硫代丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯和己內(nèi)酯改性的三(硫代甲基丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯。這些化合物可以單獨(dú)使用一種，或者多種混合使用。在含有烯屬不飽和基團(tuán)的化合物中，分子中具有芳環(huán)或(和)鹵素原子的化合物的例子包括：苯乙烯類，如苯乙烯、α-甲基苯乙烯和4-甲氧基(或乙氧基)苯乙烯；二或聚(甲基)丙烯酸酯化合物，如苯基(甲基)丙烯酸酯、4-苯基乙基(甲基)丙烯酸酯、4-甲氧羰基苯基(甲基)丙烯酸酯、4-乙氧基羰基苯基(甲基)丙烯酸酯、4-丁氧基羰基(甲基)丙烯酸酯、4-叔丁基苯基(甲基)丙烯酸酯、芐基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基羥丙基(甲基)丙烯酸酯、4-苯氧基乙基(甲基)丙烯酸、4-苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、4-苯氧基四乙二醇(甲基)丙烯酸酯、4-苯氧基六乙二醇(甲基)丙烯酸酯、EO改性的苯氧基化磷酸(甲基)丙烯酸酯、EO改性的鄰苯二甲酸(甲基)丙烯酸酯、4-聯(lián)苯基(甲基)丙烯酸酯和芳族多羥基化合物(例如，對(duì)苯二酚、間苯二酚、鄰苯二酚、連苯三酚)；含芳基的(甲基)丙烯酸酯化合物，如雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙(丙)烷改性的雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙(丙)烷改性的雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙(丙)烷改性的雙酚S二(甲基)丙烯酸酯和表氯醇改性的鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯；均含有鹵素原子取代的芳香族基團(tuán)的苯乙烯和(甲基)丙烯酸酯化合物，其中鹵素原子具有氯或更大的原子量，如對(duì)氯苯乙烯、對(duì)溴苯乙烯、對(duì)氯苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、對(duì)溴苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、三氯苯酚環(huán)氧乙(丙)烷改性的(甲基)丙烯酸酯、三溴苯酚環(huán)氧乙(丙)烷改性的(甲基)丙烯酸酯、四氯雙酚A環(huán)氧乙(丙)烷改性的二(甲基)丙烯酸酯、四溴雙酚A環(huán)氧乙(丙)烷改性的二(甲基)丙烯酸酯、四氯雙酚S環(huán)氧乙(丙)烷改性的二(甲基)丙烯酸酯和四溴雙酚S環(huán)氧乙(丙)烷改性的二(甲基)丙烯酸酯；含有雜芳基的乙烯基化合物，如N-乙烯基咔唑和3-甲基(或乙基)-N-乙烯基咔唑；以及鹵素原子取代的(甲基)丙烯酸酯化合物，如3-氯-2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、3-溴-2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、2,3-二氯丙基(甲基)丙烯酸酯和2,3-二溴丙基(甲基)丙烯酸酯。分子中含有芳環(huán)或(和)鹵素原子并且分子中還含有硫原子的化合物的例子包括二硫代或多硫代(甲基)丙烯酸酯化合物，如苯基硫代(甲基)丙烯酸酯、4-苯乙基硫代(甲基)丙烯酸酯、4-甲氧羰基苯基硫代(甲基)丙烯酸酯、4-乙氧基羰基苯基硫代(甲基)丙烯酸酯、4-丁氧基羰基苯基硫代(甲基)丙烯酸酯、4-叔丁基苯基硫代(甲基)丙烯酸酯、芐基硫代(甲基)丙烯酸酯、4-苯氧基二乙二醇硫代(甲基)丙烯酸酯、4-苯氧基四乙二醇硫代(甲基)丙烯酸酯、4-苯氧基六乙二醇硫代(甲基)丙烯酸酯、4-聯(lián)苯基硫代(甲基)丙烯酸酯和芳香族多羥基化合物(例如，對(duì)苯二酚、間苯二酚、鄰苯二酚、連苯三酚)；含芳基的硫代(甲基)丙烯酸酯化合物，如雙酚A二硫代(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙(丙)烷改性的雙酚A二硫代(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二硫代(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙(丙)烷改性的雙酚F二硫代(甲基)丙烯酸酯、雙酚S二硫代(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙(丙)烷改性的雙酚S二硫代(甲基)丙烯酸酯和表氯醇改性鄰苯二甲酸二硫代(甲基)丙烯酸酯；含有鹵素原子取代的芳香族基團(tuán)的硫代(甲基)丙烯酸酯化合物，其中鹵素原子具有氯或更大的原子量，如三氯苯酚環(huán)氧乙(丙)烷改性的硫代(甲基)丙烯酸酯、三溴苯酚環(huán)氧乙(丙)烷改性的硫代(甲基)丙烯酸酯、四氯雙酚A環(huán)氧乙(丙)烷改性的二硫代(甲基)丙烯酸酯、四溴雙酚A環(huán)氧乙(丙)烷改性的二硫代(甲基)丙烯酸酯、四氯雙酚S環(huán)氧乙(丙)烷改性的二硫代(甲基)丙烯酸酯和四溴雙酚S環(huán)氧乙(丙)烷改性的二硫代(甲基)丙烯酸酯；以及鹵素原子取代的硫代(甲基)丙烯酸酯化合物，如3-氯-2-羥丙基硫代(甲基)丙烯酸酯、3-溴-2-羥丙基硫代(甲基)丙烯酸酯、2,3-二氯丙基硫代(甲基)丙烯酸酯和2,3-二溴丙基硫代(甲基)丙烯酸酯。具有烯屬不飽和鍵的化合物的其它例子包括通過σ鍵開環(huán)斷裂進(jìn)行聚合的可加成聚合化合物。在K.J.Ivin和T.Saegusa(編輯)的Elsevier,紐約(1984年)第一章“GeneralThermodynamicsandMechanisticAspectsofRing-OpeningPolymerization（開環(huán)聚合的一般熱動(dòng)力學(xué)和機(jī)械方面）”第1至82頁和第二章“RingOpeningPolymerizationviaCarbon-CarbonSigmabondCleavage（通過碳-碳σ鍵斷裂進(jìn)行的開環(huán)聚合）”第83至119頁；W.J.Bailey等人,J.Macromol.Sci.-Chem.,第A21卷,第1611至1639頁(1984年)；以及I.Cho和K.-D.Ahn,J.Polym.Sci.,Polym.Lett.Ed.,第15卷,第751至753頁(1977年)中描述了這樣的化合物。其具體例子包括乙烯基環(huán)丙烷，如1,1-二氰基-2-乙烯基環(huán)丙烷、1,1-二氯-2-乙烯基環(huán)丙烷、2-乙烯基環(huán)丙烷-1,1-二羧酸二乙酯(EVCD)、1-乙?；?2-乙烯基-1-環(huán)丙烷羧酸乙酯(EAVC)和1-苯甲?；?2-乙烯基-1-環(huán)丙烷羧酸乙酯(EBVC)。這些化合物可以單獨(dú)使用，多種混合使用，或者與上述(甲基)丙烯酸酯化合物或乙烯基化合物混合使用。此外，不飽和羧酸和脂肪族多元胺化合物的酰胺單體的具體例子包括亞甲基雙丙烯酰胺、亞甲基雙甲基丙烯酰胺、1,6-六亞甲基雙丙烯酰胺、1,6-六亞甲基雙甲基丙烯酰胺、二乙烯三胺三丙烯酰胺、苯二甲基雙丙烯酰胺、苯二甲基雙甲基丙烯酰胺、N-苯基甲基丙烯酰胺和雙丙酮丙烯酰胺。其它例子包括日本專利文獻(xiàn)JP-B-48-41708(本文使用的術(shù)語“JP-B”意為“已審查的日本專利公開”)中描述的每分子具有2個(gè)或更多個(gè)異氰酸酯基團(tuán)的聚異氰酸酯化合物，以及每分子具有2個(gè)或更多個(gè)聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物，其中加入了由式CH2=C(R)COOCH2CH(R')OH(其中R和R'各自獨(dú)立地代表氫原子或甲基)表示的含羥基的乙烯基單體。此外，可以使用日本專利文獻(xiàn)JP-A-51-37193中描述的聚氨酯丙烯酸酯，日本專利文獻(xiàn)JP-A-48-64183、JP-B-49-43191和JP-B-52-30490中描述的聚酯丙烯酸酯，以及多官能的環(huán)氧樹脂的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸等。此外，可以使用在NipponSecchakuKyokaishi(JournaloftheAdhesionSocietyofJapan),第20卷,第7期,第300至308頁中描述的那些光固化性單體或低聚物。此外，含磷單體的例子包括單(2-丙烯酰氧基乙基)酸式磷酸鹽(商品名：LightEsterPA，由共榮社化學(xué)株式會(huì)社制造)和單(2-甲基丙烯酰氧乙基)酸式磷酸鹽(商品名：LightEsterPM，由共榮社化學(xué)株式會(huì)社制造)，也包括作為環(huán)氧丙烯酸酯類單體的RipoxyVR-60(商品名，由昭和高分子株式會(huì)社制造)和RipoxyVR-90(商品名，由昭和高分子株式會(huì)社制造)。此外，可以使用NKEsterM-230G(商品名，由新中村化學(xué)株式會(huì)社制造)和NKEster23G(商品名，由新中村化學(xué)株式會(huì)社制造)。其它例子包括三丙烯酸酯(商品名：AronixM-315，由東亞合成化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造；商品名：AronixM-325，由東亞合成化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)、2,2'-雙(4-丙烯酰氧基·二乙氧基苯基)丙烷(商品名：NKEsterA-BPE-4，由新中村化學(xué)株式會(huì)社制造)、和四羥甲基甲烷四丙烯酸酯(商品名：NKEsterA-TMMT，由新中村化學(xué)株式會(huì)社制造)。從熱性能和機(jī)械性能的角度考慮，聚合性聚氨酯丙烯酸酯樹脂優(yōu)選為TSR-1920B、TSR-1938(由帝人株式會(huì)社制造)和SCR-500(由日本合成橡膠株式會(huì)社制造)。用于本發(fā)明的陽離子聚合性化合物是在由雙光子吸收化合物和陽離子聚合引發(fā)劑產(chǎn)生的酸的作用下引發(fā)聚合的化合物，并且其例子包括J.V.Crivello,Chemtech.,第624頁(1980年10月)、日本專利文獻(xiàn)JP-A-62-149784以及NipponSecchakuKyokaishi(JournaloftheAdhesionSocietyofJapan),第26卷,第5期,第179至187頁(1990年)中描述的化合物。用于本發(fā)明的陽離子聚合性化合物優(yōu)選為分子內(nèi)含有至少一個(gè)環(huán)氧乙烷環(huán)、氧雜環(huán)丁烷環(huán)或乙烯基醚部分的化合物，更優(yōu)選為具有環(huán)氧乙烷環(huán)部分的化合物。具體地，陽離子聚合性化合物包括以下陽離子聚合性單體和由該陽離子聚合性單體構(gòu)成的預(yù)聚物(例如，二聚物、低聚物)。具有環(huán)氧乙烷環(huán)的陽離子聚合性單體的具體例子包括以下化合物，如丙三醇二縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚、雙丙三醇三縮水甘油醚、雙丙三醇聚縮水甘油醚、季戊四醇聚縮水甘油醚、1,4-雙(2,3-環(huán)氧丙氧基全氟異丙基)環(huán)己烷、山梨糖醇四縮水甘油醚、三羥甲基丙烷二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷單縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、間苯二酚二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、乙二醇單縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、丙二醇單縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、新戊二醇單縮水甘油醚、苯基縮水甘油醚、對(duì)叔丁基苯基縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、二溴苯基縮水甘油醚、二溴新戊二醇二縮水甘油醚、1,2,7,8-二環(huán)氧辛烷、1,6-二羥甲基全氟己烷二縮水甘油醚、4,4'-雙(2,3-環(huán)氧丙氧基全氟異丙基)二苯醚、二氧化乙烯基環(huán)己烯、3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲基-3',4'-環(huán)氧環(huán)己烷羧酸酯、3,4-環(huán)氧環(huán)己基環(huán)氧乙烷、雙(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)己二酸酯、雙(3,4-環(huán)氧-6-甲基環(huán)己基甲基)己二酸酯、2,2-雙[4-(2,3-環(huán)氧丙氧基)環(huán)己基]丙烷、2,2-雙[4-(2,3-環(huán)氧丙氧基)環(huán)己基]六氟丙烷、1,2,5,6-二環(huán)氧-4,7-亞甲基全氫茚、2-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)-3',4'-環(huán)氧基-1,3-二噁烷-5-螺環(huán)己烷、1,2-亞乙二氧基-雙(3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲烷)、4',5'-環(huán)氧-2'-甲基環(huán)己基甲基-4,5-環(huán)氧-2-甲基環(huán)己烷羧酸酯、乙二醇-雙(3,4-環(huán)氧環(huán)己烷羧酸酯)、雙(3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲基)己二酸酯、二(2,3-環(huán)氧環(huán)戊基)醚、乙烯基縮水甘油醚、烯丙基縮水甘油醚、2-乙基己基縮水甘油醚、氧化苯乙烯、對(duì)溴苯乙烯氧化物、雙酚-A-二縮水甘油醚、四溴雙酚-A-二縮水甘油醚、雙酚-F-二縮水甘油醚。此外，可使用HS-681(由旭電化工業(yè)株式會(huì)社制造)、SOMOS8100(由DMS-SOMOS公司制造)、SCR-8100系列(由日本合成橡膠株式會(huì)社制造.)、SL-7540(由Vantico公司制造)和SCR-701(由D-MEC株式會(huì)社和日本合成橡膠株式會(huì)社制造)作為聚合性環(huán)氧類樹脂。具有氧雜環(huán)丁烷環(huán)的陽離子聚合性單體的具體例子包括上述作為含有環(huán)氧乙烷環(huán)的陽離子聚合性單體的具體例子的那些化合物，其中用氧雜環(huán)丁烷環(huán)取代環(huán)氧乙烷環(huán)。具有乙烯基醚基團(tuán)部分的陽離子聚合性單體的具體例子包括以下化合物，如乙烯基-2-氯乙基醚、乙烯基正丁基醚、乙烯基叔丁基醚、乙二醇二乙烯基醚、乙二醇單乙烯基醚、丙二醇二乙烯基醚、丙二醇單乙烯基醚、新戊二醇二乙烯基醚、新戊二醇單乙烯基醚、丙三醇二乙烯基醚、丙三醇三乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚、三羥甲基乙烷三乙烯基醚、三羥甲基丙烷單乙烯基醚、三羥甲基丙烷二乙烯基醚、三羥甲基丙烷三乙烯基醚、二甘油三乙烯基醚、山梨糖醇四乙烯基醚、烯丙基乙烯基醚、2,2-雙(4-環(huán)己醇)丙烷二乙烯基醚、2,2-雙(4-環(huán)己醇)三氟丙烷二乙烯基醚、1,4-環(huán)己烷二甲醇二乙烯基醚、4-乙烯基醚苯乙烯、對(duì)苯二酚二乙烯基醚、苯基乙烯基醚、雙酚A二乙烯基醚、四溴雙酚A二乙烯基醚、雙酚F二乙烯基醚、苯氧基亞乙基乙烯基醚和對(duì)溴苯氧基亞乙基乙烯基醚。特別地，用于本發(fā)明的非共振雙光子吸收記錄材料的(a)非共振雙光子吸收聚合物化合物優(yōu)選為具有由下式(1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物。[化學(xué)式8]式(1)(其中X和Y代表Hammettσ-p值(σp值)均為0以上的取代基且可以彼此相同或不同；n代表1至4的整數(shù)；R1代表氫原子或取代基；R2代表二價(jià)取代基；R3代表取代基；當(dāng)存在多個(gè)R1、R2或R3時(shí)，R1、R2或R3可以與其它各R1、R2或R3相同或不同；l代表1或更大的整數(shù)；并且m代表0至4的整數(shù))。在式(1)中，Y代表Hammett方程中σp值取正值的所謂的吸電子基團(tuán)，并且優(yōu)選為，例如，三氟甲基、雜環(huán)基、鹵素原子、氰基、硝基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺?；?、氨甲?；Ⅴ；?、酰氧基或烷氧羰基，更優(yōu)選為三氟甲基、氰基、?；ⅤＱ趸蛲檠豸驶?，還更優(yōu)選為三氟甲基、氰基或苯甲?；?，并且最優(yōu)選為三氟甲基。這些取代基中，烷基磺?；⒎蓟酋；被酋；?、氨甲酰基、?；?、酰氧基和烷氧羰基還可含有用來賦予在溶劑中的溶解性或其它各種用途的取代基，并且該取代基優(yōu)選的例子包括烷基、烷氧基、烷氧基烷基和芳氧基。X與Y相似，其為具有兩個(gè)鍵合位點(diǎn)的取代基(連接基團(tuán))，并且其例子包括三氟亞甲基、雜環(huán)基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺?；奔柞；?、?；?、酰氧基和烷氧羰基。X優(yōu)選為?；ⅤＱ趸蛲檠豸驶?，且最優(yōu)選苯甲?；＿@些取代基中，烷基磺?；?、芳基磺?；?、氨磺?；?、氨甲?；?、酰基、酰氧基和烷氧羰基還可含有用來賦予在溶劑中的溶解性或其它各種用途的取代基，并且該取代基優(yōu)選的例子包括烷基、烷氧基、烷氧基烷基和芳氧基。n代表1至4的整數(shù)，并且優(yōu)選為2或3，最優(yōu)選2。如果n變?yōu)?或更大，則線性吸收將會(huì)出現(xiàn)在長波長側(cè)，并且無法利用波長區(qū)域短于700nm的記錄光來進(jìn)行非共振雙光子吸收記錄。此外，m代表0至4的整數(shù)。R1代表氫原子或取代基，并且優(yōu)選為氫原子、烷基、烷氧基、芳基、烷氧基烷基或芳氧基，更優(yōu)選氫原子、烷基、烷氧基或芳基，并且最優(yōu)選氫原子或烷基。R2代表二價(jià)取代基(連接基團(tuán))，并且優(yōu)選為羰基、氧基、亞烷基、亞芳基或通過組合這些基團(tuán)而形成的基團(tuán)，更優(yōu)選為酯鍵(由羰基和氧基組成的基團(tuán))、氧化烯基團(tuán)(由亞烷基和氧基組成的基團(tuán))、亞芳基、或者通過組合這些基團(tuán)形成的基團(tuán)。這樣的基團(tuán)還可含有用來賦予在溶劑中的溶解性或其它各種用途的取代基，并且該取代基優(yōu)選的例子包括羥基、烷基、烷氧基、烷氧基烷基和芳氧基。R3代表取代基，并且對(duì)該取代基沒有特別限制。其具體例子包括烷基、烷氧基、烷氧基烷基和芳氧基。在具有由式(1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物中，X和Y優(yōu)選為Hammett方程中σp值取正值的所謂的吸電子基團(tuán)，并且對(duì)其描述如下。根據(jù)T.Kogej等，Chem.Phys.Lett.,第298卷第1期（1998年），有機(jī)化合物的雙光子吸收效率，即雙光子吸收截面積δ與三階分子極化率（二階超極化率）γ的虛部具有以下關(guān)系。[數(shù)學(xué)式1]數(shù)學(xué)公式(1)：其中c：光速，ν：頻率，n：折射率，ε0：真空介電常數(shù)，ω：光子的振動(dòng)數(shù)，以及Im：虛部。γ的虛部(Imγ)與Mge、Mge’、Δμge、Ege以及Γ之間的關(guān)系如下，其中Mge：|g>和|e>之間的偶極矩，Mge’：|g>和|e’>之間的偶極矩，Δμge：|g>和|e>之間的偶極矩差，Ege：躍遷能量，以及Γ：阻尼系數(shù)。[數(shù)學(xué)式2]數(shù)學(xué)公式(2)：其中P代表交換算符。從而，計(jì)算數(shù)學(xué)公式(2)的值時(shí)，可以預(yù)測化合物的雙光子吸收截面積。因此，采用B3LYP泛函并以6-31G*作為基函數(shù)，通過DFT方法計(jì)算基態(tài)的最穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，并且基于結(jié)果計(jì)算Mge、Mee’和Ege，由此可以計(jì)算Imγ的值。例如，假設(shè)通過計(jì)算四聯(lián)苯化合物而得到的Imγ最大值是1，則對(duì)于具有所謂的吸電子基團(tuán)（其Hammett方程中的σp值取正值）作為其他取代基的分子，其Imγ最大值的相對(duì)值變大，其中所述的四聯(lián)苯化合物為具有式(1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物，其中X和Y被作為給電子基團(tuán)的甲氧基取代。關(guān)于具有由式(1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物，在其中甲氧基作為給電子基團(tuán)取代于X和Y上的四聯(lián)苯化合物的情況下，Imγ較小，并且在其中吸電子取代基同時(shí)取代于X和Y上的分子的情況下，Imγ通常大大增加。如上所述，雙光子吸收截面積δ理論上與三階超極化率γ的虛部，即Imγ成正比，并且從其計(jì)算判斷，優(yōu)選吸電子取代基同時(shí)取代于X和Y上的結(jié)構(gòu)。具有由式(1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物優(yōu)選為具有由下式(2)表示的結(jié)構(gòu)的化合物：[化學(xué)式9]式(2)在式(2)中，X、Y、n、R1、R2、R3、l和m與式(1)中所指定的相同。在具有由式(1)或(2)表示的結(jié)構(gòu)的化合物中，X和Y可以彼此相同或不同，但優(yōu)選為不同，這是因?yàn)殡p光子吸收截面積趨于變大。此外，具有由式(2)表示的結(jié)構(gòu)的化合物優(yōu)選為具有由下式(3)表示的結(jié)構(gòu)的化合物：[化學(xué)式10]式(3)在式(3)中，Y、n、R1、R2、R3、l和m與化學(xué)式(1)和(2)中所指定的相同。此外，具有由式(3)表示的結(jié)構(gòu)的化合物優(yōu)選為具有由下式(4)表示的結(jié)構(gòu)的化合物：[化學(xué)式11]式(4)在式(4)中，Y、n、R1、R2、R3、l和m與式(1)至(3)中所指定的相同。本發(fā)明中的非共振雙光子吸收聚合物化合物優(yōu)選為由下式(5)表示的化合物：[化學(xué)式12]式(5)(其中R4、R5和R6各自代表氫原子或取代基，并且R4、R5和R6可以彼此相同或不同)。R4、R5和R6各自獨(dú)立代表氫原子或取代基，并且優(yōu)選為氫原子、烷基、烷氧基、芳基、烷氧基烷基或芳氧基，更優(yōu)選氫原子、烷基、烷氧基或芳基，并且最優(yōu)選氫原子或烷基。本發(fā)明中的非共振雙光子吸收聚合物化合物也優(yōu)選為由下式(6)表示的化合物：[化學(xué)式13]式(6)(其中R7、R8和R9各自代表氫原子或取代基，并且R7、R8和R9可以彼此相同或不同)。R7、R8和R9各自獨(dú)立代表氫原子或取代基，并且優(yōu)選為氫原子、烷基、烷氧基、芳基、烷氧基烷基或芳氧基，更優(yōu)選氫原子、烷基、烷氧基或芳基，并且最優(yōu)選氫原子或烷基。對(duì)本發(fā)明的化合物的具體例子沒有特別限定，但包括以下化合物。[化學(xué)式14][化學(xué)式15][化學(xué)式16][化學(xué)式17][化學(xué)式18][化學(xué)式19][化學(xué)式20][化學(xué)式21][化學(xué)式22][化學(xué)式23][化學(xué)式24][化學(xué)式25][化學(xué)式26][化學(xué)式27][化學(xué)式28][化學(xué)式29][化學(xué)式30][化學(xué)式31][化學(xué)式32][化學(xué)式33][化學(xué)式34][化學(xué)式35][化學(xué)式36][化學(xué)式37][化學(xué)式38][化學(xué)式39][化學(xué)式40][化學(xué)式41][化學(xué)式42][化學(xué)式43][化學(xué)式44][化學(xué)式45][化學(xué)式46][化學(xué)式47][化學(xué)式48][化學(xué)式49][化學(xué)式50][化學(xué)式51][化學(xué)式52]<折射率或反射光強(qiáng)度發(fā)生改變的記錄組分>下面描述用于本發(fā)明非共振雙光子吸收記錄材料中的反射光強(qiáng)度或折射率改變的記錄組分。在本發(fā)明的非共振雙光子吸收記錄材料中，形成記錄層的非共振雙光子吸收記錄材料優(yōu)選地至少包含(a)非共振雙光子吸收聚合物化合物和(b)能夠改變雙光子記錄前后的反射光強(qiáng)度或折射率的材料，并且更優(yōu)選的是，在形成記錄層的非共振雙光子吸收記錄材料中，所述非共振雙光子吸收聚合物化合物是能夠改變雙光子記錄前后的反射光強(qiáng)度或折射率的材料。(粘合劑)本發(fā)明的非共振雙光子吸收記錄材料中，還可使用粘合劑。對(duì)用于本發(fā)明聚合物組合物中的粘合劑沒有特別限定，可以是有機(jī)聚合物化合物或無機(jī)聚合物化合物。有機(jī)聚合物化合物優(yōu)選為溶劑可溶性熱塑性聚合物，并且可以單獨(dú)使用一種化合物或幾種化合物組合使用。與分散在聚合物組合物中的各種組分（如雙光子吸收聚合物化合物）之間具有良好相容性的熱塑性聚合物是優(yōu)選的。其具體例子包括日本專利文獻(xiàn)JP-A-2005-320502的0022段中描述的化合物（例如，丙烯酸酯、α-烷基丙烯酸酯、酸性聚合物、共聚體、聚乙烯酯、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、飽和或不飽和聚氨酯、丁二烯或異戊二烯的聚合物或共聚物、聚乙二醇的高分子量的聚環(huán)氧乙烷、環(huán)氧化合物、纖維素酯、纖維素醚、聚碳酸酯、降冰片烯類聚合物、聚乙烯醇縮醛、聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮)；還包括在上述專利文獻(xiàn)的同一段落中描述的聚苯乙烯聚合物或其共聚物、由聚亞甲基二醇和芳酸化合物的共聚酯反應(yīng)產(chǎn)物得到的聚合物或其混合物、聚-N-乙烯基咔唑或其共聚物、以及含咔唑的聚合物。此外，具體優(yōu)選例子包括如上專利0023至0024段中描述的含氟原子的聚合物。其中，更優(yōu)選丙烯酸酯、α-烷基丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚烷基苯乙烯和聚苯乙烯共聚物，并且從提高檢測靈敏度的觀點(diǎn)來看，又更優(yōu)選為丙烯酸酯、α-烷基丙烯酸酯、聚苯乙烯和聚苯乙烯共聚物。關(guān)于其具體的例子，丙烯酸酯和α-烷基丙烯酸酯的例子包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酸酯、以及(甲基)丙烯酸環(huán)己酯；含苯環(huán)的(甲基)丙烯酸酯的例子包括(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、以及壬基酚環(huán)氧乙烷加合物(甲基)丙烯酸酯。尤其優(yōu)選的含苯環(huán)的(甲基)丙烯酸酯為(甲基)丙烯酸芐酯和(甲基)丙烯酸苯氧乙酯。這些單體可以單獨(dú)使用，也可以兩種或多種組合使用。在(甲基)丙烯酸酯類共聚物中，可以將能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯、含苯環(huán)的(甲基)丙烯酸酯或含氮的自由基聚合性單體共聚的其它共聚性單體進(jìn)行共聚，并且所述其它共聚性單體的例子包括：烷基乙烯基醚，如烯丙基縮水甘油醚、甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚、正丁基乙烯基醚、2-乙基己基乙烯基醚、正辛基乙烯基醚、十二烷基乙烯基醚、十六烷基乙烯基醚和十八烷基乙烯基醚；(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯，如(甲基)丙烯酸甲氧乙酯和(甲基)丙烯酸丁氧乙酯；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯；醋酸乙烯酯；丙酸乙烯酯；(無水)馬來酸；丙烯腈；和偏二氯乙烯。也可將具有親水極性基團(tuán)的化合物共聚，并且極性基團(tuán)的例子包括-SO3M、-PO(OM)2和-COOM（其中M代表氫原子、堿金屬或銨）。聚烷基苯乙烯化合物的例子包括聚甲基苯乙烯、聚乙基苯乙烯、聚丙基苯乙烯、聚丁基苯乙烯、聚異丁基苯乙烯、聚戊基苯乙烯、己基聚苯乙烯（hexylpolystyrene）、聚辛基苯乙烯、聚-2-乙基己基苯乙烯、聚十二烷基苯乙烯、聚十八烷基苯乙烯、和聚環(huán)己基苯乙烯；并且含苯環(huán)的(甲基)丙烯酸酯的例子包括聚芐基苯乙烯、聚苯氧基乙基苯乙烯、聚苯氧基聚乙二醇苯乙烯、和聚壬基酚苯乙烯。烷基的位置優(yōu)選為α位或?qū)ξ??？梢詥为?dú)使用這些單體中的一種，或者使用兩種或多種的組合。在聚苯乙烯共聚物中，可以將能夠與共軛二烯烴化合物、烷基苯乙烯、具有苯環(huán)的苯乙烯或含氮的自由基聚合性單體共聚的其它共聚性單體進(jìn)行共聚，并且所述其它共聚性單體的例子包括乙炔、丁二烯、丙烯腈、偏二氯乙烯、聚乙烯、烯丙基縮水甘油醚、甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚、正丁基乙烯基醚、2-乙基己基乙烯基醚、正辛基乙烯基醚、十二烷基乙烯基醚、十六烷基乙烯基醚、以及十八烷基乙烯基醚。與染料單體的聚合物組合使用的粘合劑通常用于增強(qiáng)聚合前組合物的成膜性、膜厚的均勻性、或儲(chǔ)存期間的穩(wěn)定性。粘合劑優(yōu)選為溶劑可溶性熱塑性聚合物，并且這些聚合物可以單獨(dú)使用或相互之間組合使用。與染料單體的聚合物組合使用的粘合劑優(yōu)選具有與聚合性化合物不同的折射率，并且聚合性化合物可具有更大的折射率、或者粘合劑可具有更大的折射率，但優(yōu)選聚合性化合物的折射率大于粘合劑的折射率。為此，優(yōu)選的是，聚合性化合物和粘合劑中的其中一者包含至少一個(gè)芳基、芳香族雜環(huán)基、氯原子、溴原子、碘原子或硫原子，并且另一者不含這種基團(tuán)或原子。更優(yōu)選地，聚合性化合物包含至少一個(gè)芳基、芳香族雜環(huán)基、氯原子、溴原子、碘原子或硫原子，并且粘合劑不含這種基團(tuán)或原子。下面描述當(dāng)聚合性化合物的折射率大于粘合劑的折射率時(shí)粘合劑的優(yōu)選例子。低折射率粘合劑的具體優(yōu)選例子包括丙烯酸酯、α-烷基丙烯酸酯、酸性聚合物、共聚體(例如，聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、以及甲基丙烯酸甲酯和另一種(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物)、聚乙烯酯(例如，聚乙酸乙烯酯、聚乙酸/丙烯酸乙烯酯、聚乙酸/甲基丙烯酸乙烯酯、可水解的聚乙酸乙烯酯)、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、飽和或不飽和聚氨酯、丁二烯或異戊二烯的聚合物或共聚物、平均分子量基本為4,000至1,000,000的聚乙二醇的高分子量的聚環(huán)氧乙烷、環(huán)氧化產(chǎn)物(例如，具有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基團(tuán)的環(huán)氧化產(chǎn)物)、聚酰胺(例如，N-甲氧基甲基聚己二酰己二胺)、纖維素酯(例如，醋酸纖維素、醋酸琥珀酸纖維素、醋酸丁酸纖維素)、纖維素醚(例如，甲基纖維素，乙基纖維素，乙基芐基纖維素)、聚碳酸酯、聚乙烯醇縮醛(例如，聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮甲醛)、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、美國專利3,458,311和4,273,857中公開的含酸聚合物和共聚物、以及美國專利4,293,635中公開的兩性聚合物粘合劑。更優(yōu)選的例子包括醋酸丁酸纖維素聚合物、醋酸乳酸纖維素聚合物、包含聚甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸與甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸的共聚物的丙烯酸聚合物或共聚體、甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸或甲基丙烯酸的C2-C4烷基酯/丙烯酸或甲基丙烯酸的三元共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇縮乙醛、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮甲醛、及其混合物。含氟原子的聚合物也優(yōu)選作為低折射率粘合劑。含氟原子的聚合物優(yōu)選為這樣的有機(jī)溶劑溶解性聚合物，該聚合物包含氟代烯烴作為主要組分，并包含選自烷基乙烯基醚、脂環(huán)族乙烯基醚、羥基乙烯基醚、烯烴、鹵代烯烴、不飽和羧酸或其酯、以及羧酸乙烯基酯中的一種或兩種或多種不飽和單體作為共聚組分。優(yōu)選的是，該聚合物的質(zhì)均分子量為5,000至200,000，并且氟原子的含量為5質(zhì)量%至70質(zhì)量%。用于含氟原子的聚合物中的氟代烯烴的例子包括四氟乙烯、三氟氯乙烯、氟乙烯和偏二氟乙烯。作為其它共聚組分的烷基乙烯基醚的例子包括乙基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚和正丁基乙烯基醚。脂環(huán)族乙烯基醚的例子包括環(huán)己基乙烯基醚及其衍生物。羥基乙烯基醚的例子包括羥基丁基乙烯基醚。烯烴和鹵代烯烴的例子包括乙烯、丙烯、異丁烯、氯乙烯和偏二氯乙烯。羧酸乙烯酯的例子包括乙酸乙烯酯和正丁酸乙烯酯。不飽和羧酸或其酯的例子包括：不飽和羧酸，如(甲基)丙烯酸和丁烯酸；(甲基)丙烯酸的C1-C18烷基酯，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯和(甲基)丙烯酸月桂酯；(甲基)丙烯酸的C2-C8羥基烷基酯，如(甲基)丙烯酸羥乙酯和(甲基)丙烯酸羥丙酯；(甲基)丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯；以及(甲基)丙烯酸N,N-二乙氨基乙酯。這些自由基可聚合單體可以單獨(dú)使用，或者可以兩種或多種組合使用。此外，如果需要的話，部分單體可以被其他的自由基聚合性單體替代，例如，諸如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯和(甲基)丙烯腈的乙烯基化合物。此外，也可以使用其它單體衍生物，諸如含羧酸基團(tuán)的氟代烯烴和含縮水甘油基的乙烯基醚。上述含氟原子的聚合物的具體例子包括具有羥基并且可溶于有機(jī)溶劑的“Lumifron”系列(例如，LumifronLF200，重均分子量：約50,000，由AsahiGlass株式會(huì)社生產(chǎn))。此外，有機(jī)溶劑溶解性含氟原子的聚合物也可以從DaikinKogyo株式會(huì)社、CentralGlass株式會(huì)社、Penwalt株式會(huì)社等商購，并且這些也可以使用。這些粘合劑中的許多種會(huì)形成非三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)。下面對(duì)具有可形成三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的粘合劑進(jìn)行說明。(形成三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的粘合劑)許多上述粘合劑會(huì)形成非三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)，但在本發(fā)明的光學(xué)記錄材料中，也可以使用形成三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的粘合劑。從增強(qiáng)涂布性、膜強(qiáng)度和記錄性能的角度看，形成三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的粘合劑是優(yōu)選的。順便提及的是，“形成三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的粘合劑”被稱為“基質(zhì)”。所述基質(zhì)包含用于形成三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的組分，并且用于本發(fā)明中的該組分可包含熱交聯(lián)化合物。作為交聯(lián)化合物，可以使用熱交聯(lián)化合物和通過使用催化劑等并用光照射該化合物而固化的光固化性化合物，并且優(yōu)選熱交聯(lián)化合物。對(duì)用于本發(fā)明中的熱交聯(lián)基質(zhì)沒有特別限制，并且可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，但其例子包括由異氰酸酯化合物和醇化合物形成的聚氨酯樹脂、由環(huán)氧乙烷化合物形成的環(huán)氧化合物、以及通過聚合三聚氰胺化合物、甲醛化合物、不飽和羧酸（如(甲基)丙烯酸或衣康酸）的酯化合物、或酰胺化合物得到的聚合物。尤其是，由異氰酸酯化合物和醇化合物形成的聚氨酯基質(zhì)是優(yōu)選的，并且考慮到記錄的保存性，由多官能異氰酸酯和多官能醇形成的聚氨酯基質(zhì)最為優(yōu)選。下面描述能夠形成聚氨酯基質(zhì)的多官能異氰酸酯和多官能醇的具體例子。多官能異氰酸酯的具體例子包括雙環(huán)己基甲烷二異氰酸酯、己二異氰酸酯、亞苯基-1,3-二異氰酸酯、亞苯基-1,4-二異氰酸酯、1-甲氧基亞苯基-2,4-二異氰酸酯、1-甲基亞苯基-2,4-二異氰酸酯、甲苯-2,4-二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、間苯二甲基異氰酸酯、對(duì)苯二甲基異氰酸酯、亞聯(lián)苯基-4,4'-二異氰酸酯、3,3'-二甲氧基亞聯(lián)苯基-4,4'-二異氰酸酯、3,3'-二甲基亞聯(lián)苯基-4,4'-二異氰酸酯、二苯基甲烷-2,4'-二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯、3,3'-二甲氧基二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯、3,3'-二甲基二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、1,3-亞環(huán)丁基二異氰酸酯、1,3-亞環(huán)戊基二異氰酸酯、1,3-亞環(huán)己基二異氰酸酯、1,4-亞環(huán)己基二異氰酸酯、1-甲基亞環(huán)己基-2,4-二異氰酸酯、1-甲基亞環(huán)己基-2,6-二異氰酸酯、1-異氰酰-3，3，5-三甲基-5-異氰酰甲基環(huán)己烷、1,3-二(異氰酸甲基)環(huán)己烷、1,4-二(異氰酸甲基)環(huán)己烷、異佛爾酮二異氰酸酯、二環(huán)己基甲烷-2,4'-二異氰酸酯、二環(huán)己基甲烷-4,4'-二異氰酸酯、亞乙基二異氰酸酯、四亞甲基-1,4-二異氰酸酯、六亞甲基-1,6-二異氰酸酯、十二亞甲基-1,12-二異氰酸酯、苯基-1,3,5-三異氰酸酯、二苯基甲烷-2,4,4'-三異氰酸酯、二苯基甲烷-2,5,4'-三異氰酸酯、三苯基甲烷-2,4',4”-三異氰酸酯、三苯基甲烷-4,4',4”-三異氰酸酯、二苯基甲烷-2,4,2',4'-四異氰酸酯、二苯基甲烷-2,5,2',5'-四異氰酸酯、環(huán)己烷-1,3,5-三異氰酸酯、環(huán)己烷-1,3,5-三(異氰酸甲酯)、3,5-二甲基環(huán)己烷-1,3,5-三(異氰酸甲酯)、1,3,5-三甲基環(huán)己烷-1,3,5-三(異氰酸甲酯)、二環(huán)己基甲烷-2,4,2'-三異氰酸酯、二環(huán)己基甲烷-2,4,4'-三異氰酸酯、賴氨酸二異氰酸甲酯、以及通過使化學(xué)計(jì)量過量的該有機(jī)異氰酸酯化合物與含活性氫的多官能化合物反應(yīng)而得到的在兩末端均具有異氰酸酯的預(yù)聚物。其中，優(yōu)選雙環(huán)己基甲烷二異氰酸酯和六亞甲基二異氰酸酯。這些可以單獨(dú)使用或兩種或多種組合使用。多官能醇可以是單獨(dú)的多官能醇或者和其它多官能醇的混合物。多官能醇的例子包括乙二醇類，諸如乙二醇、三乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、聚丙二醇和新戊二醇；二醇類，諸如丁二醇、戊二醇、己二醇、庚二醇和1,4-丁二醇；雙酚類、或者用聚氧乙烯鏈或聚氧丙烯鏈修飾這類多官能醇得到的化合物；丙三醇；三羥甲基丙烷；以及三醇類，諸如丁三醇、戊三醇、己三醇和癸三醇，或用聚氧乙烯鏈或聚氧丙烯鏈修飾這類多官能醇得到的化合物。在使用上述染料單體的光學(xué)記錄組合物中，基質(zhì)形成組分的含量優(yōu)選為10質(zhì)量%至95質(zhì)量%，更優(yōu)選為35質(zhì)量%至90質(zhì)量%。通過參照構(gòu)成光學(xué)記錄介質(zhì)的各元件來詳細(xì)描述光學(xué)信息介質(zhì)及其制造方法。[基板]本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)優(yōu)選具有基板。作為本發(fā)明的記錄介質(zhì)中使用的基板，可以任意選擇并使用由作為常規(guī)的光學(xué)信息記錄介質(zhì)基板材料的各種材料制成的基板。將圓盤狀的基板優(yōu)選用作所述基板?；宀牧系木唧w例子包括玻璃、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂、聚氯乙烯和氯乙烯共聚物等氯乙烯類樹脂、環(huán)氧樹脂、無定形聚烯烴、聚酯、以及鋁等金屬。如果需要的話，這些材料可以組合使用。在這些材料中，鑒于耐濕性、尺寸穩(wěn)定性、低成本等，優(yōu)選熱塑性樹脂，如無定形聚烯烴和聚碳酸酯，更優(yōu)選聚碳酸酯。使用這類樹脂時(shí)，可通過注塑成型來制造基板。此外，也可以通過使樹脂成形為膜狀并將該膜沖壓為圓盤狀來生產(chǎn)基板。基板的厚度通常優(yōu)選為0.02mm至2mm，更優(yōu)選為0.6mm至2mm，又更優(yōu)選為0.7mm至1.5mm，還更優(yōu)選為0.9mm至1.2mm。此外，可將兩種記錄介質(zhì)層壓在一起以形成可雙面記錄的介質(zhì)。這種情況下，一個(gè)基板的厚度為0.2mm至0.7mm，優(yōu)選為0.3mm至0.6mm，更優(yōu)選為0.4mm至0.5mm。此外，為了能夠進(jìn)行高速記錄/再現(xiàn)并增加單位體積的記錄容量，基板的厚度可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于普通光盤厚度，從而賦予柔韌性。這種情況下，該基板的厚度為0.02mm至0.4mm，優(yōu)選為0.05mm至0.35mm，更優(yōu)選為0.1mm至0.3mm。在基板的中央，通常設(shè)置有用于夾住基板的孔。此外，可以設(shè)置輪轂（hub）以代替孔。[導(dǎo)向?qū)?guidelayer)]可設(shè)置同心或螺旋的導(dǎo)向?qū)?，以便在光學(xué)介質(zhì)記錄時(shí)通過跟蹤伺服系統(tǒng)進(jìn)行徑向位置的控制。導(dǎo)向?qū)油ǔ＞哂羞B續(xù)或間斷的凹凸結(jié)構(gòu)，并且在常規(guī)的光盤中，凹槽連續(xù)地形成，其由圓盤狀介質(zhì)的內(nèi)圓周以螺旋的方式連續(xù)形成至外圓周。凹槽深度的優(yōu)選范圍由用于跟蹤的激光波長決定。采用推挽式的跟蹤系統(tǒng)時(shí)，假設(shè)用于跟蹤的激光波長為λ且凹槽內(nèi)的折射率為n，當(dāng)凹槽厚度為(λ/8n)時(shí)，由凹槽獲得的跟蹤信號(hào)為最大，并且當(dāng)凹槽深度為0和(λ/4n)時(shí)，跟蹤信號(hào)變?yōu)?。因此，凹槽深度d在0<d<λ/(4n)的范圍內(nèi)。凹槽深度d優(yōu)選在λ/(12n)<d<λ/(6n)的范圍內(nèi)，更優(yōu)選地d=λ/(8n)。導(dǎo)向槽的寬度可以根據(jù)磁跡間距設(shè)定，通常，可通過將該寬度設(shè)定為磁跡間距的大約一半來獲得高強(qiáng)度推挽信號(hào)。在導(dǎo)向?qū)又?，可以設(shè)置在記錄期間能夠產(chǎn)生用于旋轉(zhuǎn)同步的時(shí)鐘信號(hào)的結(jié)構(gòu)。通常，采用使凹槽以任意頻率彎曲的擺動(dòng)凹槽系統(tǒng)。通過參照從擺動(dòng)凹槽獲得的周期信號(hào)波動(dòng)可將記錄裝置控制到指定的記錄線速度。此外，在導(dǎo)向?qū)又锌梢蕴峁┑刂沸畔?。在擺動(dòng)凹槽系統(tǒng)的情況下，可以使用組合了相對(duì)于載頻的大小頻率從而賦予任意址信息的頻率調(diào)制系統(tǒng)、通過改變擺動(dòng)相以賦予地址信息的相位調(diào)制系統(tǒng)、疊加地址信息的系統(tǒng)等。此外，可以使用在凹槽旁邊提供標(biāo)記并通過其位置形成地址信息的所謂岸臺(tái)預(yù)制凹坑系統(tǒng)。此外，也可以通過使用與地址信息相同的方法將記錄/再現(xiàn)控制所需的信息（如記錄功率、相應(yīng)線速度和信號(hào)極性的校正）預(yù)先記錄在導(dǎo)向信息中。導(dǎo)向?qū)釉O(shè)置處的深度方向上的位置可以是任何位置，只要該位置是可通過跟蹤激光再現(xiàn)的位置即可，并且在基板表面上設(shè)置導(dǎo)向?qū)訒r(shí)，可以通過在基板成型時(shí)壓制金屬壓模從而同時(shí)進(jìn)行基板成型和導(dǎo)向?qū)有纬桑渲薪饘賶耗Ｖ锌逃袑?dǎo)向?qū)拥膸缀涡螤?。此外，可以通過在成型的基板上涂布紫外線固化性樹脂等、壓制壓模、然后固化樹脂而形成導(dǎo)向?qū)?。在?dǎo)向?qū)颖辉O(shè)置為與各記錄層相鄰、被設(shè)置為記錄層之間的中間層、或被設(shè)計(jì)為與覆蓋層相鄰的情況下，也能夠以同樣的方式形成導(dǎo)向?qū)?。也可以將金屬壓模加熱到不低于用于提供?dǎo)向?qū)拥臉渲瑢拥能浕瘻囟鹊臏囟?，然后進(jìn)行壓制以將圖案轉(zhuǎn)移。[反射層]反射層可以設(shè)置為與導(dǎo)向?qū)踊蛴涗泴酉噜?，以便增大反射信?hào)強(qiáng)度。用于反射層的材料可選自于能夠在讀出波長處提供所需反射率的材料種類，并且可以使用（例如）諸如Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn和Bi之類的金屬，以及半金屬。這些材料中，優(yōu)選Ag、Au和Al，因?yàn)榭色@得高的反射率。這些材料可以單獨(dú)使用，或者可以多種混合使用。此外，為了改良可以添加少量的添加元素。也能夠通過使用高折射率或低折射率材料作為反射層，從而產(chǎn)生與相鄰層間的折射率差，由此來產(chǎn)生反射光。高折射率材料的例子包括二氧化鈦(TiO2)、二氧化鈰(CeO2)、二氧化鋯(ZrO2)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化鉭(Ta2O5)、氧化鎢(WO3)、氧化鋅(ZnO)和氧化銦(In2O3)。低折射率材料的例子包括氟化鋁(AlF3)、氟化鈣(CaF2)、氟化鋰(LiF)、氟化鎂(MgF2)和氟化鈉(NaF)。這些材料可以單獨(dú)使用，或者可以多種混合使用。通過濺射、沉積、離子鍍、分子束外延或其它方法將這樣的無機(jī)化合物成膜，從而能夠形成反射層。當(dāng)記錄/讀取激光與跟蹤激光之間波長不同時(shí)，也可以通過使用波長選擇性反射層材料來建立對(duì)跟蹤激光的高反射率和對(duì)記錄/讀取激光的低反射率，從而減少不必要的反射光。具體地，在使用405nm波長的光作為記錄/讀取激光以及660nm波長的光作為跟蹤激光的情況下，當(dāng)將在長于500nm的波長處表現(xiàn)出高反射率、并在短于500nm的波長處反射率突然下降的Au用作反射層時(shí)，跟蹤激光的光被強(qiáng)烈地反射以降低記錄/讀取光的反射率，由此能夠減少由于記錄/讀取光的反射而導(dǎo)致的雜光（straylight）。[中間層]在相鄰記錄層之間設(shè)置有中間層，其用于將記錄層物理分離，并產(chǎn)生能夠通過膨脹而形成記錄標(biāo)記的界面。在記錄層和中間層之間發(fā)生界面反射主要?dú)w因于這兩個(gè)層之間的折射率不同，因此需要在記錄層和中間層之間形成折射率差。當(dāng)在多層結(jié)構(gòu)中，中間層位于記錄層的兩側(cè)時(shí)，可以這樣形成記錄層，以使該記錄層與兩個(gè)中間層的折射率差相同，并且使得由記錄層的頂部和底部發(fā)生界面反射；或者可以這樣形成記錄層，使得在位于記錄層兩側(cè)的中間層中，一側(cè)的中間層的折射率與記錄層的折射率相同，并且另一側(cè)的中間層的折射率與記錄層的折射率不同，從而使得僅由記錄層一側(cè)的界面產(chǎn)生反射光。在這種情況下，與從記錄層兩側(cè)的界面產(chǎn)生反射光的情況相比，由于光的干涉，能夠在波動(dòng)中減少記錄層的反射率。此外，這種情況下，位于記錄層的頂部和底部的中間層可以由不同的材料形成。記錄層和中間層之間的折射率差通常為0.01至0.5，優(yōu)選為0.04至0.4，更優(yōu)選為0.08至0.25。如果折射率差太小，則不會(huì)獲得所需的反射光，反之如果折射率太大，則使用的材料受限。如果中間層的厚度過小，則會(huì)存在相鄰記錄層相互之間的光分離困難，或者例如，由于受到熱效應(yīng)而發(fā)生所謂層間串?dāng)_的問題；而如果中間層厚度過大，則記錄層的數(shù)量很難增加。因此，中間層的厚度為2μm至20μm，優(yōu)選為4μm至15μm，更優(yōu)選為6μm至10μm。中間層優(yōu)選對(duì)記錄/讀取波長和跟蹤波長處的光透明。所述“透明”是指對(duì)用于記錄和讀取的光的透射率為80%或更高。各個(gè)中間層可以具有相同或不同的膜厚。考慮到與入射表面距離較小會(huì)使光學(xué)系統(tǒng)的像差較低，因此使靠近入射側(cè)的中間層更薄也是有效的。作為中間層的材料，可以使用熱塑性樹脂、熱固性樹脂、紫外線固化性樹脂、電子束固化性樹脂、自粘合劑等。紫外線固化性樹脂由聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚氨酯丙烯酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂、全氟聚醚等含氟聚合物、聚二甲基硅氧烷等硅類聚合物、或者與光聚合引發(fā)劑的混合物等組成。作為光聚合引發(fā)劑，可以使用已知引發(fā)劑，并且在光聚合引發(fā)劑中，自由基光引發(fā)劑的例子包括Darocur1173、Irgacure651、Irgacure184和Irgacure907（均由CibaSpecialtyChemicals公司生產(chǎn)）。光聚合引發(fā)劑的含量為（例如）占紫外線固化性樹脂試劑組合物的大約0.5質(zhì)量%至5質(zhì)量%（固體含量）。此外，如果需要的話，該組合物還可以包含非聚合性稀釋溶劑、光聚合引發(fā)助劑、有機(jī)填料、阻聚劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、消泡劑、流平劑、顏料、硅化合物等。非聚合性稀釋溶劑的例子包括異丙醇、正丁醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙基溶纖劑和甲苯。紫外線吸收劑的例子包括苯并三唑類化合物、二苯甲酮類化合物、草酸酰苯胺類化合物和氰基丙烯酸酯類化合物。紫外線固化性樹脂層可以由已知的成膜方法形成。例如，可以使用氣刮刀涂布、刮板涂布、棒式涂布、刮刀涂布、擠壓涂布、浸漬涂布、逆轉(zhuǎn)輥涂布、轉(zhuǎn)移輥涂布、凹版涂布、吻輥涂布、流延涂布、幕簾涂布、壓延涂布、擠出涂布、噴涂、旋涂、熱熔涂布、氣相沉積或擠出。作為用于自粘合層的自粘合劑，例如可以使用丙烯酸類、橡膠類或硅類自粘合劑?？紤]到透明度和耐久性，優(yōu)選丙烯酸類自粘合劑。可通過如下方式獲得丙烯酸類自粘合劑：使作為主要單體的低Tg單體（例如，丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯和丙烯酸2-乙基己酯）與多官能團(tuán)單體（例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸羥乙酯、丙烯酸羥乙酯、丙烯酰胺和丙烯腈）共聚而得到丙烯酸類共聚物，通過（例如）異氰酸酯類交聯(lián)劑、三聚氰胺類交聯(lián)劑、環(huán)氧樹脂類交聯(lián)劑或聚氨酯類交聯(lián)劑使該丙烯酸類共聚物交聯(lián)，由此可以得到丙烯酸類自粘合劑?？晒袒蛱砑悠渌夤袒缘途畚铩误w、聚合物引發(fā)劑、稀釋溶劑、增粘劑、抗氧化劑、敏化劑、交聯(lián)劑、紫外線吸收劑、阻聚劑、填料、熱塑性樹脂·染料·顏料等。將這樣的自粘合劑組合物涂布在隔離物上。作為隔離物，可以使用厚度為25μm至100μm的經(jīng)過防粘處理的塑料膜或紙，如聚酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚碳酸酯膜、聚苯乙烯膜和三乙?；w維素膜。在這些膜中，雙軸拉伸的聚酯膜是優(yōu)選的，這是因?yàn)槿菀撰@得更平滑的表面并且生產(chǎn)力優(yōu)異。與自粘合層接觸的隔離物表面經(jīng)過防粘劑的處理。防粘劑的例子包括有機(jī)硅樹脂、氟樹脂、聚乙烯醇樹脂和含烷基的樹脂的單體、改性產(chǎn)物和混合物等。其中，可以優(yōu)選使用易于輕松分離粘合劑層的有機(jī)硅樹脂，特別地，更優(yōu)選使用通過熱、紫外線、電子束等而得以固化的有機(jī)硅樹脂，這是因?yàn)橛袡C(jī)硅樹脂不容易轉(zhuǎn)移并附著到粘合劑層上。自粘合層可以通過已知的成膜方法涂布在隔離物上。例如，可以使用氣刮刀涂布、刮板涂布、棒式涂布、刮刀涂布、擠壓涂布、浸漬涂布、逆轉(zhuǎn)輥涂布、轉(zhuǎn)移輥涂布、凹版涂布、吻輥涂布、流延涂布、幕簾涂布、壓延涂布、擠出涂布、噴涂、旋涂或熱熔涂布。例如，通過活性能量射線照射將涂布的組合物干燥并固化，從而形成自粘合劑的中間層。也可以在未完全完成固化的狀態(tài)下使涂層堆疊在介質(zhì)上，并且在堆疊后通過加熱、用紫外線照射或其它方法完成固化。中間層可以在介質(zhì)上直接成膜，或在預(yù)先制備與記錄層的層壓結(jié)構(gòu)后堆疊在介質(zhì)上。在將自粘合層用于中間層的情況下，可通過（例如）日本專利文獻(xiàn)JP-A-209328和JP-A-2011-81860中所述的已知方法對(duì)記錄層和中間層進(jìn)行壓接，由此可以形成層壓材料。此外，也可以通過將層壓材料堆疊在另一個(gè)層壓材料上而形成包括兩個(gè)或多個(gè)記錄層和兩個(gè)或多個(gè)中間層的層壓材料。可以通過使自粘合層布置為朝向基板、導(dǎo)向?qū)?、反射層、覆蓋板、間隔層、或已經(jīng)形成的記錄層或中間層，然后由輥等進(jìn)行壓接，從而將該層壓材料堆疊在介質(zhì)上。[記錄層]本發(fā)明的記錄層中，當(dāng)用記錄光照射時(shí)，染料部分吸收記錄光而產(chǎn)生熱，并且聚合物部分由于熱而導(dǎo)致變形，從而在與相鄰層之間的界面上形成凸起的幾何形狀，由此記錄信息。為了獲得記錄/讀取所需的信號(hào)強(qiáng)度，幾何形狀的變化要求記錄層具有一定程度的厚度以實(shí)現(xiàn)膨脹，并且該厚度優(yōu)選為50nm至5μm，更優(yōu)選為100nm至3μm，又更優(yōu)選為200nm至2μm。在記錄層中，如果需要的話，可以添加添加劑，如粘合劑、抗褪色劑、發(fā)熱劑、增塑劑和折射率調(diào)節(jié)劑。粘合劑的例子包括：天然有機(jī)聚合物，如明膠、纖維素衍生物、葡聚糖、松香和橡膠；以及合成有機(jī)聚合物，包括聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯和聚異丁烯等烴類樹脂，聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚氯乙烯·聚乙酸乙烯酯共聚物等乙烯基類樹脂，聚丙烯酸甲酯和聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸類樹脂，聚乙烯醇，氯化聚乙烯，環(huán)氧樹脂，丁醛樹脂，橡膠衍生物和熱固性樹脂的初始縮合物，如酚醛樹脂?？雇噬珓┌ㄓ袡C(jī)氧化劑和單重態(tài)氧猝滅劑。作為用作抗褪色劑的有機(jī)氧化劑，優(yōu)選日本專利文獻(xiàn)JP-A-10-151861中描述的化合物。作為單重態(tài)氧猝滅劑，可以利用已知專利說明書等出版物中描述的化合物。其具體的例子包括日本專利文獻(xiàn)JP-A-58-175693、JP-A-59-81194、JP-A-60-18387、JP-A-60-19586、JP-A-60-19587、JP-A-60-35054、JP-A-60-36190、JP-A-60-36191、JP-A-60-44554、JP-A-60-44555、JP-A-60-44389、JP-A-60-44390、JP-A-60-54892、JP-A-60-47069、JP-A-63-209995、JP-A-4-25492、JP-B-1-38680、JP-B-6-26028、德國專利文獻(xiàn)No.50399、以及BulletinoftheChemicalSocietyofJapan,第1141頁,1992年10月。增塑劑的例子包括三甘醇二辛酸酯、三甘醇雙(2-乙基己酸)酯、四甘醇二庚酸酯、癸二酸二乙酯、辛二酸二丁酯、磷酸三(2-乙基己)酯、磷酸三甲苯酯和鄰苯二甲酸二丁酯。作為折射率調(diào)節(jié)劑，例如可以使用各種聚合物材料或透明無機(jī)材料（如SiO2和TiO2）的細(xì)顆粒。記錄層可以通過已知的成膜方法形成。例如，可以使用氣刮刀涂布、刮板涂布、棒式涂布、刮刀涂布、擠壓涂布、浸漬涂布、逆轉(zhuǎn)輥涂布、轉(zhuǎn)移輥涂布、凹版涂布、吻輥涂布、流延涂布、幕簾涂布、壓延涂布、擠出涂布、噴涂、旋涂、熱熔涂布、氣相沉積或擠出。使用溶劑涂布時(shí)，記錄層的組分溶解或分散在涂布溶劑中。可以通過考慮記錄層組分的溶解性、分解性、涂布適用性等來選擇涂布溶劑，并且例如，使用選自如下溶劑中的一者或多者的混合物：醇類溶劑，如甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、烯丙醇、糠醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑和四氟丙醇；脂肪族或脂環(huán)族烴類溶劑，如己烷、庚烷、辛烷、癸烷、環(huán)己烷、甲基環(huán)己烷、二甲基環(huán)己烷、三甲基環(huán)己烷和丙基環(huán)己烷；芳香烴類溶劑，如甲苯、二甲苯和苯；鹵代烴類溶劑，如四氯化碳和氯仿；醚類溶劑，如乙醚、二丁基醚、二異丙醚、二噁烷和四氫呋喃；酮類溶劑，如丙酮；酯類溶劑，如乙酸乙酯；以及水。將這類溶劑和記錄層的組分混合然后（例如）攪拌、用超聲波處理或加熱，從而制得涂布溶劑。使用的溶劑可以在干燥時(shí)通過蒸發(fā)除去?？梢允褂眉訜峄蚣訅哼M(jìn)行蒸發(fā)除去。記錄層可以直接在基板上形成，或在預(yù)先制備與中間層的層壓結(jié)構(gòu)后堆疊在基板上。在將自粘合層用于中間層的情況下，記錄層通過在隔離物或防粘添加層(releaseaddinglayer)上涂布而形成，并隨后通過（例如）在日本專利文獻(xiàn)JP-A-2005-209328和JP-A-2011-81860中描述的已知方法將其與中間層層壓，從而能夠形成記錄層和中間層的層壓材料。記錄層的數(shù)量可以是一層或者多層，并且可以通過堆疊其中插入有中間層的記錄層來增加層數(shù)。[間隔層（spacerlayer）]在導(dǎo)向?qū)又性O(shè)置有凹凸的幾何形狀，而導(dǎo)向?qū)由系姆瓷涔饩哂蓄l率分量并影響記錄/再現(xiàn)信號(hào)。因此，可以提供間隔層，用來在空間上將導(dǎo)向?qū)优c最靠近導(dǎo)向?qū)拥挠涗泴臃蛛x，并減少導(dǎo)向?qū)由戏瓷涔獾挠绊?。間隔層的厚度為5μm至100μm，優(yōu)選為10μm至50μm，更優(yōu)選為20μm至40μm。作為間隔層的材料，可以使用熱塑性樹脂、熱固性樹脂、紫外線固化性樹脂、電子束固化性樹脂、自粘合劑等。此外，該材料可以是與中間層相同的材料。[覆蓋層]從保護(hù)記錄層的角度看，可以在相對(duì)于記錄層的光入射表面?zhèn)仍O(shè)置覆蓋層。如果覆蓋層太薄，則會(huì)以高對(duì)比度檢測到覆蓋層表面上的表面劃痕或污染。另一方面，由于從入射表面到記錄層的距離增加，則光學(xué)系統(tǒng)的像差變得更高。因此，覆蓋層的厚度有一個(gè)適當(dāng)?shù)姆秶?。具體而言，覆蓋層的厚度通常為0.01mm至0.2mm，優(yōu)選為0.02mm至0.1mm，更優(yōu)選為0.03mm至0.07mm。作為形成覆蓋層的方法，例如，可以使用在表面上形成紫外線固化性樹脂組合物并固化該組合物的方法，以及通過粘合劑、自粘合劑等將膜附著的方法。紫外線固化性樹脂由聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚氨酯丙烯酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂、全氟聚醚等含氟聚合物、聚二甲基硅氧烷等硅類聚合物、或者與光聚合引發(fā)劑的混合物等組成。作為光聚合引發(fā)劑，可以使用已知引發(fā)劑，并且在光聚合引發(fā)劑中，自由基光引發(fā)劑的例子包括Darocur1173、Irgacure651、Irgacure184和Irgacure907（均由CibaSpecialtyChemicals公司生產(chǎn)）。光聚合引發(fā)劑的含量為（例如）占紫外線固化性樹脂試劑組合物的大約0.5質(zhì)量%至5質(zhì)量%（固體含量）。此外，如果需要的話，該組合物可以包含非聚合性稀釋溶劑、光聚合引發(fā)助劑、有機(jī)填料、阻聚劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、消泡劑、流平劑、顏料、硅化合物等。非聚合性稀釋溶劑的例子包括異丙醇、正丁醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙基溶纖劑和甲苯。紫外線吸收劑的例子包括苯并三唑類、二苯甲酮類、草酸酰苯胺類和氰基丙烯酸酯類化合物。此外，在紫外線固化性組合物中，為了改善各種性質(zhì)，可以根據(jù)需要混合熱聚合抑制劑、抗氧化劑（以受阻酚、受阻胺和亞磷酸鹽為代表）、增塑劑、硅烷偶聯(lián)劑（以環(huán)氧硅烷、巰基硅烷和(甲基)丙烯酰氧基硅烷為代表）等作為其他添加劑。對(duì)于這樣的添加劑，優(yōu)選選擇和使用對(duì)固化性組分具有優(yōu)秀的溶解性并且不會(huì)阻礙紫外透射的添加劑。在層壓膜的情況下，這種紫外線固化樹脂可以作為粘合劑使用。作為用于自粘合層的自粘合劑，例如可以使用丙烯酸類、橡膠類或硅類自粘合劑?？紤]到透明度和耐久性，優(yōu)選丙烯酸類自粘合劑?？赏ㄟ^如下方式獲得丙烯酸類自粘合劑：使作為主要單體的低Tg單體（例如，丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯和丙烯酸2-乙基己酯）與多官能團(tuán)單體（例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸羥乙酯、丙烯酸羥乙酯、丙烯酰胺和丙烯腈）共聚而得到丙烯酸類共聚物，通過（例如）異氰酸酯類交聯(lián)劑、三聚氰胺類交聯(lián)劑、環(huán)氧樹脂類交聯(lián)劑或聚氨酯類交聯(lián)劑使該丙烯酸類共聚物交聯(lián)，由此可以得到丙烯酸類自粘合劑。可固化或添加其它光固化性低聚物·單體、聚合物引發(fā)劑、稀釋溶劑、增粘劑、抗氧化劑、敏化劑、交聯(lián)劑、紫外線吸收劑、阻聚劑、填料、熱塑性樹脂·染料·顏料等。將這樣的自粘合劑組合物涂布在隔離物上。作為隔離物，可以使用厚度為25μm至100μm的經(jīng)過防粘處理的塑料膜或紙，如聚酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚碳酸酯膜、聚苯乙烯膜和三乙酰基纖維素膜。在這些膜中，雙軸拉伸的聚酯膜是優(yōu)選的，這是因?yàn)槿菀撰@得更平滑的表面并且生產(chǎn)力優(yōu)異。與自粘合層接觸的隔離物表面經(jīng)過防粘劑的處理。防粘劑的例子包括有機(jī)硅樹脂、氟樹脂、聚乙烯醇樹脂和含烷基的樹脂的單體、改性產(chǎn)物和混合物等。其中，可以優(yōu)選使用易于輕松分離粘合劑層的有機(jī)硅樹脂，特別地，更優(yōu)選使用通過熱、紫外線、電子束等而得以固化的有機(jī)硅樹脂，這是因?yàn)橛袡C(jī)硅樹脂不容易轉(zhuǎn)移并附著到粘合劑層上。自粘合層可以通過已知的成膜方法涂布在隔離物上。例如，可以使用氣刮刀涂布、刮板涂布、棒式涂布、刮刀涂布、擠壓涂布、浸漬涂布、逆轉(zhuǎn)輥涂布、轉(zhuǎn)移輥涂布、凹版涂布、吻輥涂布、流延涂布、幕簾涂布、壓延涂布、擠出涂布、噴涂、旋涂或熱熔涂布。例如，通過活性能量射線照射將涂布的組合物干燥并固化，從而形成自粘合層。此后，可以通過層壓機(jī)將膜材料堆疊在該自粘合層上，由此可以形成帶有自粘合層的覆蓋層。在層壓膜的情況下，對(duì)使用的膜沒有特別限制，只要其是透明材料即可，但優(yōu)選使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸類樹脂、聚氯乙烯和氯乙烯共聚物等氯乙烯類樹脂、環(huán)氧樹脂、無定形聚烯烴、聚酯、以及三乙酸纖維素。這些材料中，優(yōu)選使用聚碳酸酯、無定形聚烯烴或三乙酸纖維素。這里，所述“透明”是指對(duì)用于記錄和讀取的光的透射率為80%或更高。[硬涂層]為了防止與記錄/再現(xiàn)裝置的物鏡的接觸、由于操作導(dǎo)致的劃傷、或者諸如指紋之類的污染，可以在光入射表面上設(shè)置硬涂層。硬涂層可以預(yù)先在覆蓋層表面上形成，或者該層可以制備成紫外線固化性樹脂組合物的形式，然后在生產(chǎn)盤的過程中，通過利用旋涂等方式將組合物涂布到表面并隨后固化而形成。硬涂層通常由聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚氨酯丙烯酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂、全氟聚醚等含氟聚合物、聚二甲基硅氧烷等硅類聚合物、或者與SiO2細(xì)顆粒、光聚合引發(fā)劑等的混合物構(gòu)成。作為光聚合引發(fā)劑，可以使用已知引發(fā)劑，并且在光聚合引發(fā)劑中，自由基光引發(fā)劑的例子包括Darocur1173、Irgacure651、Irgacure184和Irgacure907（均由CibaSpecialtyChemicals公司生產(chǎn)）。光聚合引發(fā)劑的含量（例如）占硬涂層劑組合物的大約0.5質(zhì)量%至5質(zhì)量%（固體含量）。此外，如果需要的話，硬涂層劑組合物還可以根據(jù)需要包含非聚合性稀釋溶劑、光聚合引發(fā)助劑、有機(jī)填料、阻聚劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、消泡劑、流平劑、顏料、硅化合物等。非聚合性稀釋溶劑的例子包括異丙醇、正丁醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙基溶纖劑和甲苯。紫外線吸收劑的例子包括苯并三唑類化合物、二苯甲酮類化合物、草酸酰苯胺類化合物和氰基丙烯酸酯類化合物。作為硬涂材料，具體而言，也可以使用在日本專利文獻(xiàn)JP-A-2004-292430和JP-A-2005-112900中描述的化合物，以及市售品，例如，HC-3（由DIC株式會(huì)社生產(chǎn)）。硬涂層也可以起到上述覆蓋層的作用，在這種情況下，該層可以通過將硬涂層制成覆蓋層所需的厚度來形成。[記錄介質(zhì)的制備]根據(jù)需要將上述各構(gòu)成元件進(jìn)行組合并依次堆疊，由此可以制造本發(fā)明的光學(xué)信息記錄介質(zhì)。本發(fā)明的光學(xué)信息記錄介質(zhì)優(yōu)選具有由含有非共振雙光子吸收化合物的非共振雙光子吸收記錄材料構(gòu)成的記錄層，并且更優(yōu)選為具有基板、導(dǎo)向?qū)印⒎瓷鋵?、間隔層和層壓結(jié)構(gòu)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中由相對(duì)于入射光的背面?zhèn)绕?，所述層壓結(jié)構(gòu)依次由被夾在中間層之間的記錄層、以及位于入射光表面?zhèn)鹊母采w層和硬涂層組成。圖2示出本發(fā)明的光學(xué)信息記錄介質(zhì)的一個(gè)例子。圖2中所示的光學(xué)信息記錄介質(zhì)10依次具有位于基板上的導(dǎo)向?qū)?2、反射層、間隔層、中間層和記錄層11。記錄層具有被夾在中間層之間的構(gòu)造。此外，該介質(zhì)在入射光表面?zhèn)染哂懈采w層和硬涂層。[識(shí)別信息的形成]為了在各記錄介質(zhì)上提供識(shí)別信息等，可將利用條形碼等的標(biāo)記應(yīng)用于部分介質(zhì)。作為標(biāo)記方法，可以使用日本專利No.3,143,454和3,385,285中描述的、涉及通過將激光束照射至常規(guī)光盤中所用的反射層以進(jìn)行熱斷裂（thermalfracture）的方法，以及諸如對(duì)記錄層進(jìn)行激光照射或印刷的方法。[盒]為了保護(hù)記錄介質(zhì)遠(yuǎn)離因掉落或操作或賦予耐光性而導(dǎo)致的劃痕，可將記錄介質(zhì)封裝在盒中。這種情況下，可以使用常規(guī)光盤所使用的盒。下面描述記錄/再現(xiàn)裝置的構(gòu)造。如圖1所示，記錄/再現(xiàn)裝置1是在由主軸（spindle）50保持的光學(xué)信息記錄介質(zhì)10中進(jìn)行信息記錄·再現(xiàn)的裝置。記錄/再現(xiàn)裝置1具有面對(duì)光學(xué)信息記錄介質(zhì)10的物鏡21，并且在物鏡21的光軸上，自物鏡21起依次具有DBS(二色分光鏡)22、四分之一波片23a、用于校正像差的光束擴(kuò)展器24、PBS(偏振光束分束器)25a、二分之一波片26a、PBS25b、以及鏡子27。在通過鏡子27并與物鏡21的光軸方向交叉的方向上，依次布置有二分之一波片26b、準(zhǔn)直透鏡28、針孔29、聚光透鏡30、調(diào)制器31、以及記錄激光器32。此外，在PBS25b的反射方向上，依次布置有二分之一波片26c、準(zhǔn)直透鏡33、以及讀取激光器34，并且在PBS25a的反射方向上，布置有分束器35。在由分束器35分離的一個(gè)方向上，布置有聚光棱鏡36、針孔37、以及讀取光接收元件38，并且在另一個(gè)方向上，布置有聚光透鏡39、柱面透鏡40、以及讀取聚焦光接收元件41。在通過DBS22并與物鏡21的光軸方向交叉的方向上，布置有四分之一波片23b和PBS25c。在PBS25c的一側(cè)，在正交于物鏡21的光軸方向的方向上，依次布置有二分之一波片26d、準(zhǔn)直透鏡42、以及導(dǎo)向?qū)拥募す夤庠?3；并且在PBS25c的另一側(cè)，在平行于物鏡21的光軸方向的方向上，依次布置有聚光透鏡44、柱面透鏡45、以及導(dǎo)向光的光接收元件46。物鏡21是將導(dǎo)向光會(huì)聚在導(dǎo)向?qū)由?，并將記錄光和讀取光會(huì)聚在多個(gè)記錄層11中的一個(gè)透鏡上。物鏡21通過由控制單元60驅(qū)動(dòng)的透鏡致動(dòng)器47而在光軸方向上移動(dòng)，以將導(dǎo)向光聚焦在導(dǎo)向?qū)?2上，并將記錄光和讀取光聚焦在任意記錄層11上。同樣，物鏡21通過透鏡致動(dòng)器47在平行于光軸的方向上移動(dòng)，從而能夠控制記錄光和讀取光的磁跡位置。光束擴(kuò)展器24是這樣的光學(xué)元件，其通過控制單元60從而使入射到物鏡21上的光的會(huì)聚或發(fā)散狀態(tài)發(fā)生改變，并實(shí)現(xiàn)承擔(dān)記錄和再現(xiàn)任務(wù)的記錄層11的深度和球面像差的校準(zhǔn)功能。四分之一波片23a和23b是這樣的光學(xué)元件，其根據(jù)其旋轉(zhuǎn)方向從而將線偏振光轉(zhuǎn)化為圓偏振光并將圓偏振光轉(zhuǎn)化為線偏振光，并實(shí)現(xiàn)以下功能：使入射在光學(xué)信息記錄介質(zhì)10上的光的線偏振光方向與反射光的線偏振光方向相差90°。各二分之一波片26a、26b、26c和26d均為這樣的光學(xué)元件，其用以使入射在二分之一波片上的線偏振光的偏振方向旋轉(zhuǎn)，并可通過將偏振方向控制為預(yù)定方向從而控制通過PBS時(shí)的透射率。PBS25a和25b均為用于反射并分離特定偏振光的光學(xué)元件，并且其實(shí)現(xiàn)了以下功能：允許由記錄激光器32發(fā)射出的記錄光和由讀出激光器34發(fā)射出的讀出光從其中通過、并向光學(xué)信息記錄介質(zhì)10行進(jìn)，同時(shí)將從光學(xué)信息記錄介質(zhì)10返回的讀取光反射，以使其向分束器35行進(jìn)。類似地，PBS25c使來自于導(dǎo)向?qū)拥募す庠?3的光通過并向光學(xué)信息記錄介質(zhì)10行進(jìn)，并且反射反射光以使其向著導(dǎo)向光的光接收元件46行進(jìn)。分束器35是這樣的光學(xué)元件，不論光的偏振狀態(tài)如何，其均以預(yù)定的分束比分離光，并實(shí)現(xiàn)了以下功能：將被PBS25a導(dǎo)向的讀出光分配到讀取聚焦光接收元件41和讀取光接收元件38。DBS22是用于反射特定波長范圍的光并透過其他波長范圍的光的光學(xué)元件，并且使用了能夠透過記錄光和讀取光并將用于導(dǎo)向?qū)拥募す夥瓷涞姆止忡R。在本實(shí)施方案中，這樣放置該分光鏡，以使其引導(dǎo)用于導(dǎo)向?qū)拥募す鈴某蚬鈱W(xué)信息記錄介質(zhì)10的一側(cè)進(jìn)入。讀取激光器34是405nm-CW(連續(xù)波)激光器。讀取激光器34的光束優(yōu)選較窄，以使其與記錄光點(diǎn)大小相同或更小，因此，優(yōu)選使用能夠發(fā)射與記錄激光器32的波長相同或更短的光的激光器。通過控制單元60來控制讀取激光器34的輸出。導(dǎo)向?qū)佑眉す馄?3是650nm-CW激光器。來自導(dǎo)向?qū)佑眉す馄?3的光被物鏡21收集并會(huì)聚在光學(xué)信息記錄介質(zhì)10的導(dǎo)向?qū)?2上。通過使記錄光和讀取光彼此不同，從而可以用DBS22將導(dǎo)向?qū)佑眉す夥蛛x。通過控制單元60來控制導(dǎo)向?qū)佑眉す馄?3的輸出。記錄激光器32是405nm脈沖激光器。為了有效地引起記錄層11中的多光子吸收反應(yīng)，優(yōu)選使用峰值功率大于CW激光器的脈沖激光器作為記錄激光器32。通過控制單元60來控制記錄激光器32的輸出。在光學(xué)信息記錄介質(zhì)10的表面上，優(yōu)選的記錄激光器的峰值功率優(yōu)選為1W至100W。如果峰值功率小于1W，則記錄光點(diǎn)的光子密度降低，從而導(dǎo)致不會(huì)發(fā)生有效的多光子吸收反應(yīng)的問題，反之如果峰值功率超過100W，則記錄激光器的平均輸出變高，并引發(fā)用于記錄的記錄脈沖激光器尺寸增大的問題。因此，在光學(xué)信息記錄介質(zhì)上，記錄激光器的平均輸出功率優(yōu)選100mW或更低。脈沖激光器的平均輸出功率由峰值功率、脈沖寬度和振蕩周期的乘積決定。優(yōu)選的峰值功率為1W至100W，因此為了實(shí)現(xiàn)100mW或更低的平均功率，脈沖寬度和振蕩周期的乘積優(yōu)選為0.001至0.1。優(yōu)選的記錄激光器的脈沖振蕩周期優(yōu)選為50MHz或更高，以確保充分的記錄速度。當(dāng)更優(yōu)選為500MHz的振蕩周期被選作充分的振蕩周期時(shí)，峰值功率為1W至100W時(shí)的脈沖寬度可以分別選在200psec至2psec以下的范圍內(nèi)，以得到100mW或更低的平均功率。調(diào)制器31是這樣一種器件，其用于從由記錄激光器32發(fā)射出的脈沖激光中移除部分脈沖光，從而暫時(shí)調(diào)制脈沖激光并編碼信息。作為調(diào)制器31，可以使用聲光調(diào)制器(AOM)、Mach-Zehnder(MZ)光調(diào)制器和其他電光調(diào)制器(EOM)。當(dāng)將這類聲光調(diào)制器或電光調(diào)制器用作調(diào)制器31時(shí)，與使用機(jī)械快門相比，能夠以極高的速度進(jìn)行光的開關(guān)?？刂茊卧?0將根據(jù)被記錄的信息而編碼的信號(hào)輸出至調(diào)制器31，由此控制調(diào)制器31的操作。用于導(dǎo)向光的各光接收元件46和41都應(yīng)用了象限光電探測器等，其為通過象散方法等獲得聚焦控制信號(hào)的元件。具體而言，控制單元60控制光束擴(kuò)展器24或透鏡致動(dòng)器47，以將由穿過聚光透鏡39和44以及柱面透鏡40和45而產(chǎn)生的象散最小化，由此就能進(jìn)行聚焦。讀取光接收元件38是用于接收包括再現(xiàn)信息的讀取光的元件，并且由讀取光接收元件38檢測到的信號(hào)被輸出到控制單元60，然后被解調(diào)到控制單元60的信息中。被讀取聚焦光接收元件41接收的光已經(jīng)通過了柱面透鏡40，因此當(dāng)將光量分布輸出到控制單元60時(shí)，記錄光和讀取光的聚焦伺服控制量能夠通過控制單元60中的象散方法獲得。針孔板37布置在由聚光透鏡36會(huì)聚的光的焦點(diǎn)附近，其構(gòu)成了共焦光學(xué)系統(tǒng)，由此可通過僅使來自于光學(xué)信息記錄介質(zhì)10的預(yù)定深度位置的反射光穿過從而截?cái)嗖恍枰墓??？刂茊卧?0通過被導(dǎo)向光接收元件46檢測到的用于導(dǎo)向?qū)拥募す獾南笊砜刂仆哥R致動(dòng)器47，并控制在物鏡21的光軸方向上的位置，以將導(dǎo)向光的焦點(diǎn)位置調(diào)整到導(dǎo)向?qū)由系奈恢?。此外，該單元通過利用由導(dǎo)向光接收元件46檢測的差分信號(hào)的推挽法(DPP法)或者通過利用差分相位信號(hào)的差分相位檢測(DPD法)，從而控制與物鏡21光軸的方向正交的位置并調(diào)整磁跡位置，從而控制透鏡致動(dòng)器47。此外，該單元通過由讀取聚焦光接收元件38檢測到的讀取光的象散來控制光束擴(kuò)展器24，從而控制記錄/讀取光的焦點(diǎn)位置，以使其聚焦在預(yù)定的記錄11上。除了上述構(gòu)造之外，記錄/再現(xiàn)裝置1具有與以往公知的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置相同的構(gòu)造。例如，該裝置具有如下的致動(dòng)器，其使記錄光、讀出光和光學(xué)信息記錄介質(zhì)10在記錄層11的平面方向內(nèi)彼此相對(duì)移動(dòng)，以便在光學(xué)信息記錄介質(zhì)10的記錄層11的平面內(nèi)記錄多個(gè)記錄光點(diǎn)。下面描述用這樣構(gòu)造的記錄/再現(xiàn)裝置1的記錄/再現(xiàn)方法。在記錄/再現(xiàn)裝置1中，信息記錄時(shí)，脈沖激光從記錄激光器32發(fā)出，并且通過調(diào)制器31除去一部分脈沖光從而將信息編碼在脈沖激光上。經(jīng)過信息編碼的光通過PBS25b、二分之一波片26a和PBS25a，被光束擴(kuò)展器24會(huì)聚以控制發(fā)散狀態(tài)，然后通過四分之一波片23a和DBS22，并通過物鏡21會(huì)聚在預(yù)定的記錄層11上。與照射脈沖激光的同時(shí)，讀取激光器34發(fā)射CW激光，并且類似于記錄激光，該CW激光被PBS25b反射然后被物鏡21會(huì)聚。從光學(xué)信息記錄介質(zhì)10返回的CW激光通過物鏡21、DBS22、四分之一波片23a和光束擴(kuò)展器24，被PBS25a反射，并通過聚光透鏡36和針孔板37進(jìn)入讀取光接收元件38。基于由導(dǎo)向光接收元件46和讀取聚焦光接收元件41接收到的信號(hào)，控制單元60計(jì)算導(dǎo)向光、記錄光束和讀取光的焦點(diǎn)位置，并驅(qū)動(dòng)透鏡致動(dòng)器47和光束擴(kuò)展器24，從而控制物鏡的位置并控制記錄光和讀取光聚焦于預(yù)定的記錄層11上。因此，根據(jù)光強(qiáng)度(在雙光子吸收反應(yīng)的情況下，與光強(qiáng)度的平方成比例)，越靠近焦點(diǎn)（焦點(diǎn)處的光強(qiáng)大），光吸收反應(yīng)發(fā)生越頻繁，并且記錄層根據(jù)該反應(yīng)而變化。讀取信息時(shí)，該裝置停止記錄激光器32并驅(qū)動(dòng)讀取激光器34，從而用CW激光照射光學(xué)信息記錄介質(zhì)10。此時(shí)，與信息的記錄類似，從光學(xué)信息記錄介質(zhì)10返回的CW激光（讀取光）被PBS25a反射，并進(jìn)入讀取光接收元件38和讀取聚焦光接收元件41。以這種方式，控制單元60能夠解調(diào)由記錄部分的反射光強(qiáng)度和非記錄部分的反射光強(qiáng)度之間的差獲得的調(diào)制信息。即，信息能夠被讀取。在上文中，描述了本發(fā)明的實(shí)施方案，但本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方案，并且本發(fā)明可以通過在其中做適當(dāng)?shù)男薷膩韺?shí)施。<能夠改變雙光子記錄前后的反射光強(qiáng)度的材料>對(duì)于用于本發(fā)明非共振雙光子吸收記錄材料中的能夠改變雙光子記錄前后反射光強(qiáng)度的材料，其包括(例如)含有本發(fā)明的雙光子吸收聚合物化合物的聚合物化合物。該聚合物化合物優(yōu)選為在雙光子記錄波長處沒有線性吸收的化合物。對(duì)于該聚合物化合物，可以適當(dāng)使用與上述在雙光子吸收記錄材料中作為粘合劑的那些化合物相同的化合物。實(shí)施例下面基于實(shí)驗(yàn)結(jié)果描述本發(fā)明的具體實(shí)施例。當(dāng)然，本發(fā)明并不限于這些實(shí)施例。[實(shí)施例1]<化合物D-1的合成方法>化合物D-1通過如下所示的方法合成。[化學(xué)式53]<原料化合物1的合成>將27.0g(250mmol)的苯甲醚和42.9g(200mmol)的4-溴苯甲酰氯溶于500ml的二氯甲烷中，并在冷卻至5℃的內(nèi)部溫度后，分6份加入33.4g(250mmol)的氯化鋁，然后在氮?dú)鈿夥障聰嚢?小時(shí)。將反應(yīng)溶液倒入水中，然后用二氯甲烷萃取，并在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中蒸干，從而定量獲得白色化合物1。所得化合物1經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物2的合成>將140ml的氫溴酸和220ml的乙酸加入到35.0g(120mmol)的原料化合物1中，將混合物在110℃的內(nèi)部溫度下攪拌12.5小時(shí)。使其冷卻至室溫后，將反應(yīng)溶液倒入水中并在室溫下攪拌20分鐘。過濾沉淀物，然后用純水和5:1的己烷/乙酸乙酯洗滌并在減壓下干燥，從而定量得到白色化合物2。所得化合物2經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物3的合成>將9.74g(35.1mmol)的原料化合物2溶于70ml的四氫呋喃中，并在加入7.10g(70.2mmol)的三乙胺后，將混合物冷卻至5℃的內(nèi)部溫度。此后，一邊逐滴滴加3.67g(35.1mmol)的甲基丙烯酰氯，一邊將體系在氮?dú)鈿夥障聰嚢?小時(shí)。將反應(yīng)溶液倒入水中并在室溫下攪拌20分鐘。通過過濾分離沉積的沉淀物并在室溫下干燥，從而定量獲得白色化合物3。所得化合物3經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物4的合成>將350ml的1,2-二甲氧基乙烷和70ml的水加入到63.5g(214mmol)的5-溴-2-碘甲苯、44.7g(235mmol)的對(duì)三氟甲基苯硼酸、2.40g(10.7mmol)的乙酸鈀以及68.0g(642mmol)的碳酸鈉中，并將混合物在90℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?2小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用乙酸乙酯萃取反應(yīng)溶液，在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮并在硅膠柱(己烷)上提純，從而得到57.9g(產(chǎn)率：86%)白色化合物4。所得化合物4經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物5的合成>將400ml的二甲亞砜加入到57.9g(184mmol)的原料化合物4、56.1g(221mmol)的雙聯(lián)頻哪醇基二硼(bispinacolatodiboron)、4.25g(5.20mmol)的[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯化鈀(II)二氯甲烷加合物以及54.2g(552mmol)的乙酸鉀中，并將混合物在90℃的內(nèi)部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用乙酸乙酯萃取反應(yīng)溶液，在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮然后在硅膠柱(己烷:乙酸乙酯=10:1)上提純，從而得到57.5g(產(chǎn)率：86%)的白色化合物5。所得化合物5經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物6的合成>將170ml的甲苯和20ml的水加入到14.8g(42.9mmol)的原料化合物3、18.6g(51.5mmol)的原料化合物5、2.48g(2.15mmol)的四(三苯基膦)鈀、17.8g(129mmol)的碳酸鉀以及1mg的二丁基羥基甲苯中，并將混合物在90℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?2小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用乙酸乙酯萃取反應(yīng)溶液，在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮，在硅膠柱(乙酸乙酯:己烷=1:5)上提純，用乙酸乙酯/己烷重結(jié)晶，過濾分離并干燥，從而得到6.8g(產(chǎn)率：32%)的白色化合物6。所得化合物6經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。1HNMR(CDCl3)7.92(d,4H),7.76(dd,2H),7.71(d,2H),7.59-7.55(m,2H),7.50(d,2H),7.34(d,1H),7.29(dd,2H),6.41(s,1H),5.82(t,1H),2.37(s,3H)。<D-1的合成>將5g的四氫呋喃在70℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?。?小時(shí)內(nèi)，向其中逐滴加入溶于26.7g的四氫呋喃中的2.00g(4.00mmol)原料化合物6、11.6g(116mmol)的甲基丙烯酸甲酯和29.8mg(0.12mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，然后攪拌8小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用丙酮稀釋反應(yīng)溶液，用丙酮/己烷重結(jié)晶，過濾分離并干燥，從而得到4.77g的化合物D-1。由1HNMR證實(shí)所得聚合物的組成，并用GPC測量分子量(組成比例：原料化合物6/甲基丙烯酸甲酯=12/88(摩爾比)，Mw=367,000)。<D-3的合成>將3.99g的甲基乙基酮在70℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?。?小時(shí)內(nèi)向其中逐滴加入溶于35.9g的甲基乙基酮中的1.88g(3.76mmol)的原料化合物6、5.15g(36.2mmol)的甲基丙烯酸丁酯和49.7mg(0.20mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，然后攪拌4小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用丙酮稀釋反應(yīng)溶液，用水/甲醇重結(jié)晶，過濾分離并干燥，從而得到化合物D-3。由1HNMR證實(shí)所得聚合物的組成，并用GPC測量分子量(組成比例：原料化合物6/甲基丙烯酸丁酯=13.5/86.5(摩爾比)，Mw=32,000)。[實(shí)施例2]<比較化合物R-1的合成>[化學(xué)式54]比較化合物R-1<比較化合物R-1的合成>比較化合物R-1由以下方法合成。[化學(xué)式55]<原料化合物7的合成>將6.98g(37mmol)的對(duì)三氟甲基苯硼酸、9.92g(33mmol)的5-溴-2-碘甲苯和10.6g(100mmol)的碳酸鈉溶于190ml的乙二醇二甲醚-蒸餾水混合溶劑(14:5)中，并向其中加入0.37g(1.7mmol)的乙酸鈀和0.88g(3.3mmol)的三苯基膦。將該體系在氮?dú)饬髦屑訜?小時(shí)，使反應(yīng)溶液冷卻并加入蒸餾水和約600ml的乙酸乙酯萃取。除去水層以分離有機(jī)層，并用硫酸鎂干燥有機(jī)相。將通過過濾分離硫酸鎂后得到的濾液在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中蒸干，并在硅膠柱(乙酸乙酯:己烷=1:400)上提純，從而得到10.1g(產(chǎn)率：96%)的白色原料化合物7。所得化合物7經(jīng)1HNMR譜證實(shí)為目標(biāo)化合物。<原料化合物8的合成>將9.5g(30mmol)的原料化合物7、9.9g(39mmol)的雙聯(lián)頻哪醇基二硼、8.8g(90mmol)的乙酸鉀和0.73g(0.9mmol)的[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯化鈀懸浮在170ml的DMF中，并將該體系在80℃下和氮?dú)饬髦屑訜?小時(shí)。使反應(yīng)溶液冷卻并加入蒸餾水和乙酸乙酯萃取，除去水層以分離有機(jī)層。用硫酸鎂干燥有機(jī)相，并將通過過濾分離硫酸鎂后得到的濾液在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中蒸干，并在硅膠柱(乙酸乙酯:己烷=1:100→1:10)上提純，從而得到5.9g(產(chǎn)率：54%)的無色原料化合物8。所得化合物8經(jīng)1HNMR譜證實(shí)為目標(biāo)化合物。<R-1的合成>將0.8g(2.2mmol)的原料化合物5和0.52g(2.0mmol)的對(duì)溴二苯甲酮溶于35ml的乙二醇二甲醚-蒸餾水混合溶劑(6:1)中，向其中加入22.5mg(0.1mmol)的乙酸鈀、52.4mg(0.2mmol)的三苯基膦和0.64g(6mmol)的碳酸鉀。將混合物加熱回流2小時(shí)，然后使反應(yīng)溶液冷卻并加入蒸餾水和乙酸乙酯萃取。除去水層以分離有機(jī)層，并用硫酸鎂干燥有機(jī)相。將通過過濾分離硫酸鎂后得到的濾液在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中蒸干，從而獲得粗產(chǎn)物，并將該粗產(chǎn)物在硅膠柱(乙酸乙酯:己烷=1:100→1:5)上提純以得到0.71g(產(chǎn)率：77%)的白色晶體。所得化合物經(jīng)質(zhì)譜和1HNMR譜證實(shí)為目標(biāo)化合物R-1。1HNMR(CDCl3)2.37(s,3H),7.34(d,1H),7.48-7.55(m,7H),7.7-7.8(m,4H),7.85(m,2H),7.95(m,2H)<雙光子記錄材料的制備>(雙光子記錄材料1的制備)雙光子記錄材料1根據(jù)下列配方制備。聚合物雙光子吸收化合物：D-17質(zhì)量份涂布溶劑：甲基乙基酮93質(zhì)量份(雙光子記錄材料2的制備)制備雙光子記錄材料2，該雙光子記錄材料2使用R-1代替D-1作為雙光子吸收化合物，并使用了聚甲基丙烯酸甲酯。雙光子吸收化合物：R-13質(zhì)量份粘合劑：聚甲基丙烯酸甲酯6質(zhì)量份(由Aldrich制造，Mw=100,000)涂布溶劑：甲基乙基酮91質(zhì)量份<雙光子吸收記錄介質(zhì)5和6的制造>使用載玻片作為基板，通過旋涂將以上制備的雙光子吸收記錄材料1和2的各涂布溶液涂布在基板上，從而形成記錄層。此時(shí)，將轉(zhuǎn)速調(diào)整在300rpm至3,000rpm的范圍內(nèi)，使得記錄層具有1μm的厚度。作為覆蓋層，使用一面上有自粘合層(玻璃化轉(zhuǎn)變溫度：-52℃)的聚碳酸酯薄膜(TeijinPure-Ace，厚度：80μm)，并且將自粘合層和聚碳酸酯薄膜的總厚度設(shè)為100μm。將覆蓋層通過自粘合層放置在記錄層上，并且借助壓制部件對(duì)覆蓋層進(jìn)行壓接，從而使這些層被層壓在一起，由此制得由一層記錄層組成的雙光子吸收記錄介質(zhì)5和6。<雙光子記錄/再現(xiàn)的評(píng)價(jià)>對(duì)于雙光子記錄，使用了405nm的皮秒激光器((脈沖寬度：2ps，重復(fù)頻率：76MHz，峰值功率：66W(平均功率：5mW))。通過在405nm的半導(dǎo)體激光照射下讀出反射光信號(hào)，從而進(jìn)行記錄信號(hào)的讀取。<<雙光子記錄后通過濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)(Humidity-HeatStorageTest)進(jìn)行的記錄標(biāo)記的高度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用了雙光子吸收記錄介質(zhì)5和6的記錄層在雙光子吸收記錄之后的記錄部分，在60℃和90%RH下進(jìn)行濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)，其結(jié)果是，雙光子吸收記錄材料2的記錄標(biāo)記在2小時(shí)內(nèi)消失。另一方面，在300小時(shí)后，雙光子吸收記錄材料1的記錄標(biāo)記高度的減小量保持為10%。<<通過未記錄部分的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的反射光的強(qiáng)度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄材料1和2的記錄層在雙光子吸收記錄后的未記錄部分，進(jìn)行了300小時(shí)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)。假設(shè)試驗(yàn)前各反射光的強(qiáng)度為100，試驗(yàn)前后反射光強(qiáng)度的相對(duì)變化示于下表1中。[表1]表1：通過雙光子吸收記錄介質(zhì)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的評(píng)價(jià)從表1中可看出，與使用比較化合物R-1的雙光子吸收記錄材料相比，使用本發(fā)明的化合物D-1的雙光子吸收記錄材料具有更高的耐濕-熱性。[實(shí)施例3]<化合物D-21的合成方法>化合物D-21通過如下方法合成。[化學(xué)式56]<原料化合物9的合成>將9.74g(35.1mmol)的原料化合物2溶于70ml的四氫呋喃中，并在加入7.10g(70.2mmol)的三乙胺后，將混合物冷卻至5℃的內(nèi)部溫度。此后，體系在氮?dú)鈿夥障聰嚢?小時(shí)，同時(shí)逐滴滴加3.18g(35.1mmol)的甲基丙烯酰氯。將反應(yīng)溶液倒入水中并在室溫下攪拌20分鐘。通過過濾分離沉積的沉淀物并在室溫下干燥，從而定量獲得白色化合物9。所得化合物9經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物10的合成>將170ml的甲苯和20ml的水加入到14.2g(42.9mmol)的原料化合物9、18.6g(51.5mmol)的原料化合物5、2.48g(2.15mmol)的四(三苯基膦)鈀、17.8g(129mmol)的碳酸鉀以及1mg的二丁基羥基甲苯中，然后將混合物在90℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?2小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用乙酸乙酯萃取反應(yīng)溶液，在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮并在硅膠柱(乙酸乙酯:己烷=1:5)上提純，從而得到6.8g(產(chǎn)率：32%)的白色化合物10。所得化合物10經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<D-21的合成>將5g的四氫呋喃在70℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢琛Ｔ?小時(shí)內(nèi)，向其中加入溶于26.7g四氫呋喃中的1.95g(4.00mmol)的原料化合物10、9.98g(116mmol)的甲基丙烯酸甲酯和29.8mg(0.12mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，然后攪拌8小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用丙酮稀釋反應(yīng)溶液，用丙酮/己烷重結(jié)晶，過濾分離并干燥，從而得到4.33g的化合物D-21。由1HNMR證實(shí)所得聚合物的組成，并用GPC測量分子量(組成比例：原料化合物10/甲基丙烯酸甲酯=10/90(摩爾比)，Mw=34,000)。<雙光子吸收記錄介質(zhì)7和8的制造>基于雙光子吸收記錄介質(zhì)5的制造方法，使用聚合物雙光子吸收化合物D-21制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)7，其中化合物D-21由與D-1相同的方法合成；與雙光子吸收記錄介質(zhì)6類似，使用R-1和聚丙烯酸甲酯制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)8。<<雙光子記錄后通過濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的記錄標(biāo)記高度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄介質(zhì)7和8的記錄層在雙光子吸收記錄后的記錄部分，在60℃和90%RH下進(jìn)行濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)，其結(jié)果是，使用R-1的雙光子吸收記錄材料8的記錄標(biāo)記在2小時(shí)內(nèi)消失。另一方面，在300小時(shí)后，使用D-21的雙光子吸收記錄材料7的記錄標(biāo)記高度的降低量保持在14%。<<通過未記錄部分的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的反射光強(qiáng)度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄介質(zhì)7和8的記錄層在雙光子吸收記錄后的未記錄部分，進(jìn)行了300小時(shí)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)。假設(shè)試驗(yàn)前各反射光的強(qiáng)度為100，試驗(yàn)前后反射光強(qiáng)度的相對(duì)變化示于下表2中。[表2]表2：通過雙光子吸收記錄介質(zhì)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)的評(píng)價(jià)從表2中標(biāo)記高度變化的評(píng)價(jià)和結(jié)果可見，與使用比較化合物R-1的雙光子吸收記錄材料8相比，使用本發(fā)明的化合物D-21的雙光子吸收記錄材料7具有更高的耐濕-熱性。[實(shí)施例4]<化合物D-77的合成方法>化合物D-77通過如下方法合成。[化學(xué)式57]<原料化合物11的合成>將100ml的二氯甲烷加入到11.0g(25.0mmol)的4-溴苯甲酰氯和8.34g(31.3mmol)的氯化鋁中，然后將混合物在外部溫度為0℃的冰浴中和氮?dú)鈿夥障聰嚢?。?0分鐘內(nèi)向其中逐滴滴加12.9g(31.3mmol)的原料化合物S-1，然后攪拌該體系2小時(shí)。將反應(yīng)溶液逐滴滴加到200ml的冰水中，用乙酸乙酯萃取并在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮，從而獲得8.53g(產(chǎn)率：70%)的白色化合物11。所得化合物11經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物12的合成>將35ml的二甲氧基乙烷和7ml的水加入到2.74g(7.04mmol)的原料化合物11、2.80g(7.73mmol)的原料化合物5、407mg(0.35mmol)的四(三苯基膦)鈀、2.92g(21.1mmol)的碳酸鉀和7mg的二丁基羥基甲苯中，然后將混合物在90℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?2小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用乙酸乙酯萃取反應(yīng)溶液，在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮并在硅膠柱(乙酸乙酯:己烷=1:4)上提純，從而得到3.00g(產(chǎn)率：78%)的白色化合物12。所得化合物12經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。1HNMR(CDCl3)7.87(d,4H),7.72(m,4H),7.59-7.54(m,2H),7.50(d,2H),7.34(d,1H),7.01(d,2H),6.17(s,1H),5.61(s,1H),4.54(t,2H),4.32(t,2H),2.38(s,3H),1.97(s,3H)。<D-77的合成>將26g的丙二醇單甲醚乙酸酯加入2.45g(4.50mmol)的原料化合物12和4.06g(40.6mmol)的甲基丙烯酸甲酯中，然后將混合物在80℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?。向其中加入溶?ml丙二醇單甲醚乙酸酯中的104mg(0.40mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，然后攪拌2小時(shí)，加入溶于2ml丙二醇單甲醚乙酸酯中的51.8mg(0.20mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，然后攪拌2小時(shí)。隨后，加入溶于2ml丙二醇單甲醚乙酸酯中的51.8mg(0.20mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，并將混合物攪拌2小時(shí)。此后，將外部溫度升高到90℃，然后攪拌該體系1小時(shí)。使其冷卻至室溫后，將反應(yīng)溶液在攪拌下倒入甲醇中進(jìn)行結(jié)晶，然后過濾并減壓干燥以獲得5.13g的化合物。由1HNMR證實(shí)所得聚合物的組成，并用GPC測量分子量(組成比例：原料化合物12/甲基丙烯酸甲酯=8.6/91.4(摩爾比)，Mw=30,000)。<雙光子吸收記錄介質(zhì)9和10的制造>基于雙光子吸收記錄介質(zhì)5的制造方法，使用聚合物雙光子吸收化合物D-77制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)9，其中化合物D-77由與D-1相同的方法合成；與雙光子吸收記錄介質(zhì)6類似，使用R-1和聚丙烯酸甲酯制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)10。<<通過雙光子記錄后濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的記錄標(biāo)記高度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄介質(zhì)9和10的記錄層在雙光子吸收記錄后的記錄部分，在60℃和90%RH下進(jìn)行濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)，其結(jié)果是，使用R-1的雙光子吸收記錄材料10的記錄標(biāo)記在2小時(shí)內(nèi)消失。另一方面，使用D-77的雙光子吸收記錄材料9的記錄標(biāo)記高度的降低量在300小時(shí)后保持為26%。<<通過未記錄部分的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的反射光強(qiáng)度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄介質(zhì)9和10的記錄層在雙光子吸收記錄后的未記錄部分，進(jìn)行了300小時(shí)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)。假設(shè)試驗(yàn)前各反射光的強(qiáng)度為100，試驗(yàn)前后反射光強(qiáng)度的相對(duì)變化示于下表3中。[表3]表3：通過雙光子吸收記錄介質(zhì)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)的評(píng)價(jià)從表3中標(biāo)記高度變化的評(píng)價(jià)和結(jié)果可見，與使用比較化合物R-1的雙光子吸收記錄材料10相比，使用本發(fā)明的化合物D-77的雙光子吸收記錄材料9具有更高的耐濕-熱性。[實(shí)施例5]<化合物D-273的合成方法>化合物D-273通過如下方法合成。[化學(xué)式58]<原料化合物13的合成>將100ml的乙腈加入到8.00g(28.9mmol)的原料化合物2和7.99g(57.8mmol)的碳酸鉀中，然后將混合物在50℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?小時(shí)。此后，在逐滴滴加4.85g(31.8mmol)的4-氯甲基苯乙烯的同時(shí)，繼續(xù)攪拌該體系30小時(shí)。將反應(yīng)溶液倒入水中并在室溫下攪拌20分鐘。通過過濾分離沉積的沉淀物并在硅膠柱上提純，從而得到5.11g(產(chǎn)率：45%)的白色化合物13。所得化合物13經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物14的合成>將35ml的二甲氧基乙烷和7ml的水加入到3.00g(7.63mmol)的原料化合物13、3.04g(8.39mmol)的原料化合物5、439mg(0.38mmol)的四(三苯基膦)鈀、3.17g(22.9mmol)的碳酸鉀和7mg的二丁基羥基甲苯中，然后將混合物在90℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?2小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用乙酸乙酯萃取反應(yīng)溶液，在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮并在硅膠柱(乙酸乙酯:己烷=1:4)上提純，從而得到2.72g(產(chǎn)率：65%)的白色化合物14。所得化合物14經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<D-273的合成>將24.4g的丙二醇單甲醚乙酸酯加入到1.73g(3.15mmol)的原料化合物14和4.36g(41.9mmol)的苯乙烯中，然后將混合物在80℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?。向其中加入溶?ml丙二醇單甲醚乙酸酯的104mg(0.40mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，然后攪拌2小時(shí)后，加入溶于2ml丙二醇單甲醚乙酸酯的51.8mg(0.20mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，然后攪拌2小時(shí)。隨后加入溶于2ml丙二醇單甲醚乙酸酯的51.8mg(0.20mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，并將混合物攪拌2小時(shí)。此后，將外部溫度升高到90℃，然后攪拌該體系1小時(shí)。使其冷卻至室溫后，將反應(yīng)溶液在攪拌下倒入甲醇中進(jìn)行結(jié)晶，然后過濾并減壓干燥以獲得4.89g的化合物。由1HNMR證實(shí)所得聚合物的組成，并用GPC測量分子量(組成比例：原料化合物14/苯乙烯=9.5/90.5(摩爾比)，Mw=43,000)。<雙光子吸收記錄介質(zhì)11和12的制造>基于雙光子吸收記錄介質(zhì)5的制造方法，使用聚合物雙光子吸收化合物D-273制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)11，其中化合物D-273由與D-1相同的方法合成；與雙光子吸收記錄介質(zhì)6類似，用R-1和聚丙烯酸甲酯制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)12。<<通過雙光子記錄后濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的記錄標(biāo)記的高度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄介質(zhì)11和12的記錄層在雙光子吸收記錄后的記錄部分，在60℃和90%RH下進(jìn)行了濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)，其結(jié)果是，使用R-1的雙光子吸收記錄材料12的記錄標(biāo)記在27小時(shí)內(nèi)消失。另一方面，使用D-273的雙光子吸收記錄材料11的記錄標(biāo)記高度的降低量在300小時(shí)后保持為7%。<<通過未記錄部分的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的反射光的強(qiáng)度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用各個(gè)雙光子吸收記錄介質(zhì)11和12的記錄層在雙光子吸收記錄后的未記錄部分，進(jìn)行了300小時(shí)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)。假設(shè)試驗(yàn)前各反射光的強(qiáng)度為100，試驗(yàn)前后反射光強(qiáng)度的相對(duì)變化示于下表4中。[表4]表4：通過雙光子吸收記錄介質(zhì)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)的評(píng)價(jià)從表4中標(biāo)記高度變化的評(píng)價(jià)和結(jié)果可見，與使用比較化合物R-1的雙光子吸收記錄材料12相比，使用本發(fā)明化合物D-273的雙光子吸收記錄材料11具有更高的耐濕-熱性。[實(shí)施例6]<雙光子吸收記錄介質(zhì)13和14的制造>基于雙光子吸收記錄介質(zhì)5的制造方法，使用聚合物雙光子吸收化合物D-3制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)13，其中化合物D-3由與D-1相同的方法合成；與雙光子吸收記錄介質(zhì)6類似，使用R-1和聚丙烯酸甲酯制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)14。<<通過雙光子記錄后濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)的記錄標(biāo)記的高度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄介質(zhì)13和14的記錄層在雙光子吸收記錄后的記錄部分，在30℃和90%RH下進(jìn)行了濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)，其結(jié)果是，使用R-1的雙光子吸收記錄材料14的記錄標(biāo)記在27小時(shí)內(nèi)消失。另一方面，使用D-3的雙光子吸收記錄材料13的記錄標(biāo)記高度的降低量在300小時(shí)后保持為5%。<<通過未記錄部分的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的反射光強(qiáng)度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄介質(zhì)13和14的記錄層在雙光子吸收記錄后的未記錄部分，進(jìn)行了300小時(shí)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)。假設(shè)試驗(yàn)前各反射光的強(qiáng)度為100，試驗(yàn)前后反射光強(qiáng)度的相對(duì)變化示于下表5中。[表5]表5：通過雙光子吸收記錄介質(zhì)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)的評(píng)價(jià)從表5中標(biāo)記高度變化的評(píng)價(jià)和結(jié)果可見，與使用比較化合物R-1的雙光子吸收記錄材料14相比，使用本發(fā)明的化合物D-3的雙光子吸收記錄材料13具有更高的耐性耐熱性。[實(shí)施例7]<化合物D-106的合成方法>化合物D-106通過如下方法合成。[化學(xué)式59]<原料化合物15的合成>將97ml的1,2-二甲氧基乙烷和35ml的水加入到11.0g(30.4mmol)的原料化合物5、8.20g(29.0mmol)的4-碘溴苯、1.68g(1.45mmol)的四(三苯基膦)鈀和3.48g(87.0mmol)的氫氧化鈉中，然后將混合物在100℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?小時(shí)。使其冷卻至室溫后，將反應(yīng)溶液倒入水中，將產(chǎn)生的沉淀過濾并仍在下面的反應(yīng)中用作粗產(chǎn)物。<原料化合物16的合成>將90ml的甲苯加入到13.0g(33.2mmol)的原料化合物15、9.27g(36.5mmol)的雙聯(lián)頻哪醇基二硼、1.36g(1.66mmol)的[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯化鈀(II)二氯甲烷加合物和9.77g(99.6mmol)的乙酸鉀中，并將混合物在90℃的內(nèi)部溫度下攪拌6小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用乙酸乙酯萃取反應(yīng)溶液，在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮，然后在硅膠柱(己烷:乙酸乙酯=10:1)上提純，從而得到8.26g(兩步產(chǎn)率：65%)的白色化合物16。所得化合物16經(jīng)1HNMR譜證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。<原料化合物17的合成>將31ml的二甲氧基乙烷和6ml的純水加入到2.15g(6.22mmol)的原料化合物3、3.00g(6.84mmol)的原料化合物16、359mg(0.311mmol)的四(三苯基膦)鈀、2.58g(18.7mmol)的碳酸鉀和14mg的二丁基羥基甲苯中，然后將混合物在100℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?小時(shí)。使其冷卻至室溫后，將反應(yīng)溶液倒入水中并在室溫下攪拌20分鐘。過濾沉積的沉淀物，依次用己烷：乙酸乙酯=1:1、然后用甲醇洗滌，過濾并干燥，從而得到1.68g(產(chǎn)率：47%)的白色化合物。所得化合物經(jīng)1HNMR譜證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。1HNMR(CDC13):7.93-7.91(m,4H),7.79-7.77(m,6H),7.71(d,2H),7.59-7.55(m,2H),7.50(d,2H),7.33(d,1H),7.29(d,2H),6.41(s,1H),5.82(t,1H),2.37(s,3H),2.10(s,3H)。<D-106的合成>將24g的環(huán)己酮加入到1.81g(3.15mmol)的原料化合物和4.19g(41.9mmol)甲基丙烯酸甲酯中，然后將混合物在80℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢琛?0分鐘后，加入103.6mg(0.450mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，并將混合物攪拌2小時(shí)。此后，加入51.8mg(0.225mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，然后攪拌2小時(shí)。進(jìn)一步加入51.8mg(0.225mmol)的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，進(jìn)一步攪拌混合物2小時(shí)，并且最后將外部溫度升高到90℃攪拌2小時(shí)。使其冷卻至室溫后，將反應(yīng)溶液在攪拌下倒入甲醇中進(jìn)行結(jié)晶，然后過濾并減壓干燥，從而獲得4.16g的化合物。由1HNMR譜證實(shí)所得聚合物的組成，并用GPC測量分子量(組成比例：原料化合物1/甲基丙烯酸甲酯=8.6/91.4(摩爾比)，Mw=30,000)。<比較化合物R-2的合成>[化學(xué)式60]比較化合物R-2比較化合物R-2由以下方法合成。[化學(xué)式61]<R-2的合成>將60ml的甲苯和10ml的水加入到5.00g(14.8mmol)的4-苯甲?；?4'-溴聯(lián)苯、5.90g(16.3mmol)的原料化合物5、855mg(0.74mmol)的四(三苯基膦)鈀和6.14g(44.4mmol)的碳酸鉀中，然后將混合物在90℃的外部溫度和氮?dú)鈿夥障聰嚢?2小時(shí)。使其冷卻至室溫后，用乙酸乙酯萃取反應(yīng)溶液，在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀中濃縮并在硅膠柱(乙酸乙酯:己烷=1:4)上提純，從而得到5.47g(產(chǎn)率：75%)的的白色化合物R-2。所得化合物R-2經(jīng)1HNMR證實(shí)為目標(biāo)產(chǎn)物。1HNMR(CDCl3)7.93(d,2H),7.86(d,2H),7.80-7.69(m,8H),7.64-7.49(m,7H),7.33(d,1H),2.37(s,3H)。<雙光子吸收記錄介質(zhì)15和16的制造>基于雙光子吸收記錄介質(zhì)5的制造方法，使用雙光子吸收聚合物化合物D-106制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)15，其中化合物D-106由與D-1相同的方法合成；與雙光子吸收記錄介質(zhì)6類似，使用R-1和聚丙烯酸甲酯制造了雙光子吸收記錄介質(zhì)16。<<通過雙光子記錄后的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的記錄標(biāo)記高度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于分別使用雙光子吸收記錄介質(zhì)15和16的記錄層在雙光子吸收記錄后的記錄部分，在60℃和90%RH下進(jìn)行了濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)，其結(jié)果是，雙光子吸收記錄材料16的記錄標(biāo)記在2小時(shí)內(nèi)消失。另一方面，雙光子吸收記錄材料15的記錄標(biāo)記高度的降低量在300小時(shí)后保持為10%。<<通過未記錄部分的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的反射光強(qiáng)度變化的評(píng)價(jià)>>對(duì)于雙光子吸收記錄后分別使用雙光子吸收記錄材料15和16的記錄層中的未記錄部分，進(jìn)行了300小時(shí)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)。假設(shè)試驗(yàn)前各反射光的強(qiáng)度為100，試驗(yàn)前后反射光強(qiáng)度的相對(duì)變化示于下表6中。[表6]表6：通過雙光子吸收記錄介質(zhì)的濕熱儲(chǔ)存試驗(yàn)進(jìn)行的評(píng)價(jià)如表6中所見，與使用比較化合物R-2的雙光子吸收記錄材料16相比，使用本發(fā)明的化合物D-106的雙光子吸收記錄材料15具有更高的耐濕-熱性。工業(yè)適用性根據(jù)本發(fā)明，可提供一種能夠進(jìn)行非共振雙光子吸收記錄并具有高耐濕/熱性的雙光子吸收記錄材料。雖然本發(fā)明已參照其具體實(shí)施方案詳細(xì)地進(jìn)行了描述，但是對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是，可在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下做出各種變化和修改。本申請(qǐng)基于2011年5月13日提交的日本專利申請(qǐng)(專利申請(qǐng)第2011-108698號(hào))、2011年7月13日提交的日本專利申請(qǐng)(專利申請(qǐng)第2011-154893號(hào))和2012年5月10日提交的日本專利申請(qǐng)(專利申請(qǐng)第2012-108951號(hào))，其內(nèi)容以引入本文的方式作為參考。參考數(shù)字和符號(hào)的說明1記錄/再現(xiàn)裝置10光學(xué)信息記錄介質(zhì)