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      具有高速低電壓雙位存儲器的1t緊湊型rom單元的制作方法

      文檔序號:9688797閱讀:740來源:國知局
      具有高速低電壓雙位存儲器的1t緊湊型rom單元的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本文公開的各實施例總體上設(shè)及單晶體管只讀存儲器(ROM)位單元(bitcell)及 讀取其中存儲的數(shù)據(jù)的方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 掩模型只讀存儲器(ROM)是一種在制造過程中編碼數(shù)據(jù)的半導(dǎo)體存儲器件。已有 多種類型的制造工藝來編程掩模型ROM,例如擴散、金屬化、W及通孔工藝。在擴散工藝中, 掩模型ROM在擴散工藝期間被編程在半導(dǎo)體襯底中。在嵌入式金屬可編程ROM中,ROM數(shù) 據(jù)在金屬/金屬化工藝期間被編程。在通孔可編程ROM中,與嵌入式金屬可編程ROM類似, ROM數(shù)據(jù)代碼在通孔形成工藝期間被編程。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003] W下提出各實施例的簡要概述。在W下概述中有一些簡化和省略,其旨在突出和 介紹各實施例的一些方面,而非限制本發(fā)明的范圍?!揪唧w實施方式】足W使本領(lǐng)域技術(shù)人員 做出和使用W下部分的發(fā)明構(gòu)思。
      [0004] 根據(jù)一個實施例,提供了一種ROM存儲器件,包括多個行和列的存儲單元,每個存 儲單元包括位線對和用于在其中存儲兩位數(shù)據(jù)的晶體管;W及布置在位線對的相鄰對之間 的虛擬接地線,其中所述位線對和虛擬接地線讀取存儲單元中存儲的數(shù)據(jù)。 陽〇化]位線對的每一條位線可W兼用作虛擬接地線。所述虛擬接地線是專用虛擬接地 線。
      [0006] ROM存儲器件可W包括包含位線對的至少一列存儲單元。
      [0007] 所述位線對的第一位線可W接地,W從所述位線對的第二位線讀取數(shù)據(jù)。所述晶 體管可W是具有合適邏輯電平的NM0S或PM0S晶體管。
      [0008] ROM存儲器件可W包括用于控制所述位線對的極性的虛擬接地生成電路。
      [0009] ROM存儲器件可W包括具有預(yù)定數(shù)目輸入的列復(fù)用器,其中所述位線對和虛擬接 地線是所述列復(fù)用器的輸入。
      [0010] 列復(fù)用器中沒有接地或被讀取的輸入處于不必關(guān)注狀態(tài)。
      [0011] 可W通過控制所述虛擬接地線和所述位線對的第一位線的極性W讀取所述位線 對的第二位線上的數(shù)據(jù)位的值,來讀取存儲單元。
      [0012] ROM存儲器件可W包括用于控制所述第一位線的極性的虛擬接地生成電路。所述 虛擬接地線、第一位線和第二位線可W是針對具有預(yù)定數(shù)目輸入的列復(fù)用器的輸入。可W 從沒有被讀取或虛擬接地的多個預(yù)定輸入讀取多個不必關(guān)注值。
      [0013] 所述虛擬接地線和第二位線可W被控制為讀取第一位線上的數(shù)據(jù)位的值。
      [0014] 根據(jù)另一個實施例,ROM存儲器件可W包括多個列復(fù)用器,所述列復(fù)用器具有多個 行和多列存儲單元,所述存儲單元包括在其中存儲兩位數(shù)據(jù)的晶體管,多個位線對,每個位 線對包括分別在所述晶體管的一側(cè)上的第一位線和第二位線;W及布置在列復(fù)用器對之間 的附加位線。
      [0015] 多個位線可W用于讀取在所述晶體管中存儲的兩位。Ξ條位線虛擬接地W讀取存 儲在第四位線上的數(shù)據(jù)。從多條位線讀取的數(shù)據(jù)被復(fù)用W形成單個輸出位。列復(fù)用器中沒 有虛擬接地或被讀取的位線輸入保持在高阻抗?fàn)顟B(tài)。
      [0016] ROM存儲器件可W包括用于編程所述位線的值的虛擬接地生成電路。
      【附圖說明】
      [0017] 參考附圖,通過非限制示例更詳細(xì)地描述本發(fā)明的實施例,其中:
      [0018] 圖1示出了相關(guān)技術(shù)的源極連接的NOR型ROM單元的示意圖;
      [0019] 圖2示出了相關(guān)技術(shù)的源極和漏極連接的NOR型ROM單元的示意圖;
      [0020] 圖3示出了實施例的NM0S型NOR ROM單元的示意圖;
      [0021] 圖4示出了根據(jù)圖3的通孔連接的示意圖;
      [0022] 圖5示出了根據(jù)圖3的行-列配置的示意圖; 陽023] 圖6A和6B示出了根據(jù)圖3的不同讀配置的示意圖;
      [0024] 圖7示出了根據(jù)另一個實施例的使用位線的NOR型ROM單元的示意圖;
      [0025] 圖8示出了根據(jù)圖7的通孔連接的示意圖;
      [0026] 圖9示出了根據(jù)圖7的行-列配置的示意圖;
      [0027] 圖10A和10B示出了根據(jù)圖7的不同讀配置的示意圖;W及
      [002引圖11示出了根據(jù)本文所述實施例的將器件參數(shù)進行比較的五角形圖。
      【具體實施方式】
      [0029] 應(yīng)當(dāng)理解,附圖僅是示意性的且沒有按比例繪制。還應(yīng)當(dāng)理解,貫穿附圖中同的附 圖標(biāo)記用于指示相同或類似的部分。
      [0030] 說明書和附圖示出了本發(fā)明的原理。因而可W理解,本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠設(shè)計出 本文未明確描述或示出、但是體現(xiàn)本發(fā)明原理并包括在本發(fā)明范圍內(nèi)的各種裝置。此外,本 文列出的所有示例主要旨在表示示范目的,W幫助讀者理解發(fā)明人為推進技術(shù)而貢獻的發(fā) 明原理和發(fā)明構(gòu)思,并且應(yīng)被理解為不對具體列出的示例和條件進行限制。此外,除非另有 所指(例如,"否則"或"或者作為備選"),本文使用的術(shù)語"或"指代非排他性的或者(即, 和/或)。此外,本文描述的各實施例不必相互排斥,一些實施例可W與一個或更多個實施 例相組合W形成新的實施例。除非另有所指,本文使用的術(shù)語"上下文"和"上下文對象"被 理解為同義詞。
      [0031] 設(shè)計單個晶體管("1T") ROM位單元的目的在于,在平衡例如位單元密度、器件寬 度、存儲速度和讀電壓的同時,實現(xiàn)高質(zhì)量存儲器件。
      [0032] 為實現(xiàn)高密度ROM位單元陣列,將器件寬度保持較低,通常保持在工藝技術(shù)所支 持的最小級別。運種較小的寬度導(dǎo)致M0S晶體管伸展的增加,運對存儲器的性能(速度) 造成了不利影響。
      [0033] 相反,為實現(xiàn)較高的速度和較低的電壓操作(Vddmin),需要將器件寬度保持較大。 較大的寬度降低了 M0S晶體管的伸展,從而對存儲器的密度造成了不利影響。
      [0034] 獲得運樣一種單晶體管1T") ROM位單元將是有利的,其可W在不增加位單元密 度或器件寬度的同時存儲更多的數(shù)據(jù),并依然具有高速性能。
      [0035] 使用1T單元的ROM -次存儲一位數(shù)據(jù)。盡管使用最小特征尺寸往往是有益的,但 是較小的尺寸往往允許更多的變化(variation),例如可能限制低電壓操作的隨機滲雜波 動。
      [0036] 在相關(guān)技術(shù)中,高密度ROM位單元陣列具有相鄰位單元被形成為共享源極/漏極 連接并連接到相鄰位線或虛擬接地線的列。
      [0037] 圖1示出了相關(guān)技術(shù)的源極連接的NOR型ROM單元100的示意圖。該圖中示出了 4 X 2的陣列實現(xiàn),該陣列實現(xiàn)中,通過共享源極節(jié)點并將運些節(jié)點連接到接地,實現(xiàn)了良 好的單元密度。當(dāng)使特定位線(例如化1)充電時并且使能特定字線(例如WL2)時,位于 上述兩線相交處的特定晶體管將呈現(xiàn)由BL1處的漏極連接編碼的邏輯"0"。在運種裝置中, 當(dāng)漏極連接與BL1連接時,讀取邏輯0。當(dāng)沒有漏極/化連接時,漏極浮置,在化上讀取邏 輯1。
      [0038] 在該配置中,將NM0S寬度保持較低W實現(xiàn)良好的單元密度,但是器件呈現(xiàn)出較慢 的速度或較差的伸展,運對低電壓應(yīng)用不利。存在將接地和位線連接到位單元的各種方法。 接地線水平布置并連接每個源極/晶體管對的源極端子。因此,必須提供大量的接地線,并 且為對該裝置中的位單元編程,必須制造大量的連接。
      [0039] 在圖1示出的最小尺寸晶體管中,較小的器件寬度并不總是導(dǎo)致較快的器件速 度,因為器件寬度會導(dǎo)致設(shè)計的變化。當(dāng)具有較小尺寸時,任何參數(shù)(例如流經(jīng)器件的電 流)將導(dǎo)致較高變化性,運意味著無法使魯棒性最大化,運將妨礙器件性能。變化性與器件 面積的平方根成反比例。較大的器件意味著較小的變化性、容限(margin)降低、W及較高 的可靠性。 W40] 圖2示出了相關(guān)技術(shù)的源極和漏極連接的NOR型ROM單元200。如圖2所示,公開 了一種ROM陣列,其中位單元列(例如210和220)各自使用分離的虛擬接地線。每個1T 位單元存儲一位數(shù)據(jù)。M0S晶體管221-224布置在位單元列210中,且M0S晶體管225-228 布置在位單元列220中。
      [0041] 在圖2所示的裝置中,通過每一列中相鄰位單元共享源極或漏極(運里統(tǒng)稱為"漏 極")運一性質(zhì),在垂直方向?qū)崿F(xiàn)高密度單元。運些漏極連接將每列中的每個晶體管連接到 虛擬接地線或者與該特定列關(guān)聯(lián)的位線。虛擬接地線可W布置在位線對的相鄰對之間。
      [0042] 例如,列220中示出的兩個晶體管226和227共享到位線BL
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