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      透明導電性膜及其制造方法與流程

      文檔序號:11407483閱讀:來源:國知局
      透明導電性膜及其制造方法與流程

      技術特征:
      1.一種透明導電性膜,其包含透明基體材料和層疊于所述透明基體材料的至少一面的透明導電膜,其中,所述透明導電膜位于所述透明導電性膜的最表層,在所述透明基體材料和所述透明導電膜之間從所述透明基體材料側起依次層疊低折射率層及高折射率層,所述高折射率層的折射率比所述低折射率層的折射率高,所述低折射率層是含有活性能量射線固化型化合物的材料的固化物,所述高折射率層是含有活性能量射線固化型化合物和金屬氧化物的固化物,且所述高折射率層的折射率為1.60以上且小于2.00,所述高折射率層的膜厚為40nm以上且小于130nm,所述透明導電性膜中所述透明導電膜的層疊部分和所述透明導電性膜中所述透明導電膜的非層疊部分的反射率之差及透射率之差的絕對值在700nm、550nm及400nm的各波長下為5以下。2.如權利要求1所述的透明導電性膜,其中,所述低折射率...
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