本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種柔性O(shè)LED顯示面板陽(yáng)極制備方法及顯示面板制備方法。

背景技術(shù)：

有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)，具有十分優(yōu)異的顯示性能，以及自發(fā)光、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、超輕薄、響應(yīng)速度快、寬視角、低功耗及可實(shí)現(xiàn)柔性顯示等特性。

OLED發(fā)光原理為有機(jī)半導(dǎo)體材料和發(fā)光材料在電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)下，通過(guò)載流子注入和復(fù)合導(dǎo)致發(fā)光的現(xiàn)象。具體的，OLED顯示器件通常采用ITO像素電極和金屬電極分別作為器件的陽(yáng)極和陰極，在一定電壓驅(qū)動(dòng)下，電子和空穴分別從陰極和陽(yáng)極注入到電子傳輸層和空穴傳輸層，電子和空穴分別經(jīng)過(guò)電子傳輸層和空穴傳輸層遷移到發(fā)光層，并在發(fā)光層中相遇，形成激子并使發(fā)光分子激發(fā)，后者經(jīng)過(guò)輻射弛豫而發(fā)出可見(jiàn)光。

柔性顯示屏為未來(lái)各種智能顯示屏幕的發(fā)展趨勢(shì)。而柔性顯示屏制備過(guò)程中最為關(guān)鍵技術(shù)之一是具有柔性可撓曲的顯示板生產(chǎn)，柔性顯示板應(yīng)該具備反復(fù)彎曲或折疊而不破裂、耐腐蝕、與制程溫度兼容、良好的阻水、氧能力的特點(diǎn)，柔性顯示面板內(nèi)的應(yīng)力應(yīng)勁量低且不會(huì)導(dǎo)致翹曲，從而保證整個(gè)顯示屏幕的制程精度，同時(shí)還需柔性顯示面 板制程時(shí)間不宜太長(zhǎng)，避免提高其生產(chǎn)成本。

如圖1所示，目前OLED顯示面板中，OLED顯示面板多采用ITO材料形成金屬陽(yáng)極層，ITO材料具有較好的功函數(shù)(功函數(shù)越高，光學(xué)性能越好)，但是ITO材料本身應(yīng)力較大，在柔性顯示面板經(jīng)多次彎折后，易出現(xiàn)斷裂，斷裂區(qū)域的導(dǎo)電性較低，在正常使用過(guò)程中，斷裂區(qū)域不能正常進(jìn)行發(fā)光，從而進(jìn)一步影響整體OLED顯示面板的顯示效果，造成光學(xué)性能退化，以及顯示缺陷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種OLED顯示面板陽(yáng)極的制備方法、柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法。旨在降低OLED顯示面板陽(yáng)極于基板彎折狀態(tài)下引起的光學(xué)性能退化，于柔性O(shè)LED顯示面板的透明導(dǎo)電薄膜層出現(xiàn)裂紋時(shí)，保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層斷裂區(qū)域正常顯示，降低光學(xué)不良率，從而提升整體視覺(jué)感受。

為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下：

一種OLED顯示面板陽(yáng)極的制備方法，其中，具體包括：

于TFT層之上形成金屬拉伸保護(hù)層；

于所述金屬拉伸保護(hù)層的上表面制備透明導(dǎo)電薄膜層及有機(jī)自發(fā)光層，其中，所述透明導(dǎo)電薄膜層與所述金屬保護(hù)拉伸層形成所述OLED顯示面板陽(yáng)極。

優(yōu)選地，上述的一種OLED顯示面板陽(yáng)極的制備方法，其中，所述金屬拉伸保護(hù)層的延展性高于所述透明導(dǎo)電薄膜層的延展性。

優(yōu)選地，上述的一種OLED顯示面板陽(yáng)極的制備方法，所述金屬拉伸保護(hù)層的材質(zhì)為銅、鈦或金。

一種柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法，其中，包括，

提供一基板；

制備絕緣層覆蓋所述基板的表面后，于所述絕緣層之上形成緩沖層；

于所述緩沖層之上制備TFT層；

于所述TFT層之上形成金屬拉伸保護(hù)層；

于所述金屬拉伸保護(hù)層的上表面沉積透明導(dǎo)電薄膜層及有機(jī)自發(fā)光層；

其中，所述金屬拉伸保護(hù)層的熱膨脹系數(shù)趨近于所述絕緣層的熱膨脹系數(shù)。

優(yōu)選地，上述的一種柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法，其中，所述絕緣層為聚酰亞胺薄膜層，所述聚酰亞胺薄膜層的厚度為10um～20um。

優(yōu)選地，上述的柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法，其中，所述絕緣層的熱膨脹系數(shù)為15*10^-6m/℃。

優(yōu)選地，上述的柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法，其中，所述基板的熱膨脹系數(shù)小于所述絕緣層的熱膨脹系數(shù)。

優(yōu)選地，上述的柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法，其中，所述TFT層包括像素電路。

優(yōu)選地，上述的柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法，其中，所述金屬拉伸保護(hù)層的材質(zhì)為銅、或鈦、或金。

優(yōu)選地，上述的柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法，其中，所述金屬拉伸保護(hù)層的預(yù)定厚度為10nm～20nm。

一種OLED顯示面板，其中，包括：

基板；

陽(yáng)極層，包括一金屬拉伸保護(hù)層和一透明導(dǎo)電薄膜層，所述金屬拉伸保護(hù)層形成于所述基底電路層上，所述透明導(dǎo)電薄膜層形成于所述金屬拉伸保護(hù)層之上；

有機(jī)發(fā)光層，形成于所述陽(yáng)極層的透明導(dǎo)電薄膜層上；以及

陰極層，形成于所述有機(jī)發(fā)光層上。

優(yōu)選地，上述的OLED顯示面板，其中，所述基底電路層至少包括一緩沖層以及形成于所述緩沖層上的TFT層。

優(yōu)選地，上述的OLED顯示面板，其中，所述TFT層中包括像素電路。

優(yōu)選地，上述的OLED顯示面板，其中，所述金屬拉伸保護(hù)層的延展性高于所述透明導(dǎo)電薄膜層的延展性。

優(yōu)選地，上述的OLED顯示面板，其中，所述金屬拉伸保護(hù)層的材質(zhì)為銅、鈦或金，厚度為10nm～20nm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是：

在透明導(dǎo)電薄膜層下沉積一預(yù)定厚度的金屬拉伸保護(hù)層，于OLED顯示面板彎折狀態(tài)下，延緩OLED顯示面板內(nèi)部的透明導(dǎo)電 薄膜層的斷裂，增加整體顯示面板在彎折環(huán)境下的使用壽命，于柔性O(shè)LED顯示面板的透明導(dǎo)電薄膜層出現(xiàn)裂紋時(shí)，金屬拉伸保護(hù)層位于透明導(dǎo)電薄膜層下端，金屬拉伸保護(hù)層因具有良好的導(dǎo)電性，斷裂區(qū)域的透明導(dǎo)電薄膜層可借助于金屬拉伸保護(hù)層實(shí)現(xiàn)其電導(dǎo)通性，保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層斷裂區(qū)域正常顯示，降低光學(xué)不良率(顯示缺陷)，從而提升整體視覺(jué)感受。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有的OLED顯示面板產(chǎn)生斷裂后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明中一種柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法的流程示意圖；

圖3a～3d為本發(fā)明中一種OLED顯示面板一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明中一種OLED顯示面板的有機(jī)自發(fā)光層的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明，但不作為本發(fā)明的限定。

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普 通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

需要說(shuō)明的是，在不沖突的情況下，本發(fā)明中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明，但不作為本發(fā)明的限定。

一種OLED顯示面板陽(yáng)極的制備方法，其中，具體包括：

于TFT層之上形成金屬拉伸保護(hù)層；

于上述金屬拉伸保護(hù)層的上表面制備透明導(dǎo)電薄膜層及有機(jī)自發(fā)光層，其中，上述透明導(dǎo)電薄膜層與上述金屬保護(hù)拉伸層形成上述OLED顯示面板陽(yáng)極。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的OLED顯示面板陽(yáng)極的制備方法，其中，上述金屬拉伸保護(hù)層的延展性高于上述透明導(dǎo)電薄膜層的延展性。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的OLED顯示面板陽(yáng)極的制備方法，其中，上述金屬拉伸保護(hù)層的材質(zhì)為銅、鈦或金。

本發(fā)明中，在透明導(dǎo)電薄膜層下端沉積金屬拉伸保護(hù)層，于OLED顯示面板彎折狀態(tài)下，延緩OLED顯示面板內(nèi)部的透明導(dǎo)電薄膜層的斷裂，增加整體顯示面板在彎折環(huán)境下的使用壽命，于柔性O(shè)LED顯示面板的透明導(dǎo)電薄膜層出現(xiàn)裂紋時(shí)，保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層斷裂區(qū)域正常顯示，降低光學(xué)不良率，從而提升整體視覺(jué)感受。

如圖2、圖3a～3d所示，一種柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法， 其中，包括，

提供一基板。

制備絕緣層1覆蓋上述基板的表面后，于一絕緣層1襯底上制備一緩沖層2。

于上述緩沖層2上端制備形成TFT層。

于上述TFT層4表面沉積金屬拉伸保護(hù)層3；進(jìn)一步地，上述金屬拉伸保護(hù)層3的厚度為10nm～20nm。

于上述金屬拉伸保護(hù)層3上端依次沉積透明導(dǎo)電薄膜層5及有機(jī)自發(fā)光層、像素定義層6，以及與上述像素定義層6匹配的間隔層7，藉以完成柔性O(shè)LED顯示面板，進(jìn)一步地，上述金屬拉伸保護(hù)層3的熱膨脹系數(shù)匹配上述絕緣層1的熱膨脹系數(shù)。

上述的一種柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法，其主要目的：在透明導(dǎo)電薄膜層5下沉積金屬拉伸保護(hù)層3，于OLED顯示面板彎折狀態(tài)下，延緩OLED顯示面板內(nèi)部的透明導(dǎo)電薄膜層5的斷裂，增加整體顯示面板在彎折環(huán)境下的使用壽命，于柔性O(shè)LED顯示面板的透明導(dǎo)電薄膜層5出現(xiàn)裂紋時(shí)，因金屬拉伸保護(hù)層3位于透明導(dǎo)電薄膜層5下端，且金屬拉伸保護(hù)具有良好的導(dǎo)電性，斷裂區(qū)域的透明導(dǎo)電薄膜層5可借助于金屬拉伸保護(hù)層3實(shí)現(xiàn)其電導(dǎo)通性，保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層5斷裂區(qū)域正常顯示，降低光學(xué)不良率(顯示缺陷)，從而提升整體視覺(jué)感受。

其中，上述金屬拉伸保護(hù)層3的熱膨脹系數(shù)匹配上述絕緣層1的熱膨脹系數(shù)。金屬拉伸保護(hù)層3的熱膨脹系數(shù)與絕緣層1的熱膨脹 系數(shù)相匹配(即金屬拉伸保護(hù)層3的熱膨脹系數(shù)與絕緣層1的熱膨脹系數(shù)大致相同)，在彎折狀態(tài)下，金屬拉伸保護(hù)層3與絕緣層1的相對(duì)位移較小，即當(dāng)絕緣層1發(fā)生形變狀態(tài)下，金屬拉伸保護(hù)層3也相應(yīng)的發(fā)生形變，金屬拉伸保護(hù)層3釋放絕緣層1的部分彎折應(yīng)力，使得施加在透明導(dǎo)電薄膜層5的彎折應(yīng)力大大減小，避免透明導(dǎo)電薄膜層5產(chǎn)生皺褶、斷裂，進(jìn)而保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層5良好的導(dǎo)電性能。

進(jìn)一步地，上述絕緣層為聚酰亞胺薄膜層，上述聚酰亞胺薄膜層的厚度為10um～20um。

通過(guò)厚度為10um～20um的聚酰亞胺薄膜層形成上述絕緣層1，聚酰亞胺薄膜層的抗彎強(qiáng)度可達(dá)到345MPa，抗彎模量達(dá)到20GPa，且具有較高的拉伸強(qiáng)度。用以于基板彎折狀態(tài)下，配合基板做相應(yīng)的彎曲，且保證其絕緣性。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的OLED顯示面板的制備方法，其中，上述絕緣層1的熱膨脹系數(shù)匹配上述金屬拉伸保護(hù)層3的熱膨脹系數(shù)。進(jìn)一步地，上述金屬拉伸保護(hù)層3的材質(zhì)為銅、或鈦、或金。其中銅的熱膨脹系數(shù)為16.5*10^-6m/℃，鈦的熱膨脹系數(shù)為10.8*10^-6m/℃，金的熱膨脹系數(shù)為14.2*10^-6m/℃。進(jìn)一步地，上述絕緣層1的熱膨脹系數(shù)為15*10^-6m/℃。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的OLED顯示面板的制備方法，其中，上述基板的熱膨脹系數(shù)小于上述絕緣層1的熱膨脹系數(shù)。通常選擇熱膨脹系數(shù)為5*10^-6m/℃的基板。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的OLED顯示面板的制備方法，其中，上述TFT層4包括像素電路。

如圖4所示，如圖所示，有機(jī)自發(fā)發(fā)光層的具體制作工藝是：

于上述緩沖層表面的分別形成重度摻雜區(qū)41和輕度摻雜區(qū)42；

于上述重度摻雜區(qū)41和輕度摻雜區(qū)42表面采用化學(xué)氣相沉積方式沉積第一柵絕緣層(GI1)43；

于上述第一柵絕緣層(GI1)43表面采用物理氣相沉積方式沉積第一柵極層(GL1)44；

于上述第一柵極層(GL1)44表面采用化學(xué)氣相沉積方式沉積第二柵絕緣層(GI2)45；

于上述第二柵絕緣層(GI2)45表面采用物理氣相沉積方式沉積第二柵極層(GL2)46；

于上述第二柵極層(GL2)46表面采用化學(xué)氣相沉積方式沉積層間絕緣層(ILD layer)47；

于上述層間絕緣層(ILD layer)47表面采用物理氣相沉積方式沉積數(shù)據(jù)線層(DL layer)48；

于上述數(shù)據(jù)線層(DL layer)48表面采用化學(xué)氣相沉積方式沉積鈍化層(BP layer)49；

于上述鈍化層(BP layer)49表面進(jìn)行曝光處理以形成平坦化層PL layer。

其中，第一柵絕緣層(GI1)43、第一柵極層(GL1)44、第二柵絕緣層(GI2)45、第二柵極層(GL2)46、層間絕緣層(ILD layer) 47、數(shù)據(jù)線層(DL layer)48形成上述TFT器件。第一柵極層(GL1)44、第二柵絕緣層(GI2)45、第二柵極層(GL2)46、層間絕緣層(ILD layer)47、數(shù)據(jù)線層(DL layer)48、鈍化層(BP layer)49形成上述像素電路。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案中，于上述金屬拉伸保護(hù)層上端依次沉積透明導(dǎo)電薄膜層、像素定義層，以及與上述像素定義層匹配的間隔層，藉以完成OLED顯示面板，具體包括：

于上述金屬拉伸保護(hù)層表面采用物理氣相沉積方式沉積上述透明導(dǎo)電薄膜層；

于上述透明導(dǎo)電薄膜層表面進(jìn)行曝光處理形成像素定義層；

于上述像素定義層表面進(jìn)行曝光處理形成上述間隔層。

采用上述的柔性O(shè)LED顯示面板的制備方法形成的柔性O(shè)LED顯示面板，其中，上述柔性O(shè)LED顯示面板，包括TFT層4、透明導(dǎo)電薄膜層5，于上述TFT層4與上述透明導(dǎo)電薄膜層之間設(shè)置有金屬拉伸保護(hù)層。于OLED顯示面板彎折狀態(tài)下，延緩OLED顯示面板內(nèi)部的透明導(dǎo)電薄膜層5的斷裂，增加整體顯示面板在彎折環(huán)境下的使用壽命，于柔性O(shè)LED顯示面板的透明導(dǎo)電薄膜層5出現(xiàn)裂紋時(shí)，保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層5斷裂區(qū)域正常顯示，降低光學(xué)不良率，從而提升整體視覺(jué)感受。

本發(fā)明同時(shí)提供一種OLED顯示面板，其中，包括：

基板；所述基板至少包括一緩沖層以及形成于所述緩沖層上的TFT層。進(jìn)一步地，所述TFT層中包括像素電路。

陽(yáng)極層，包括一金屬拉伸保護(hù)層和一透明導(dǎo)電薄膜層，所述金屬拉伸保護(hù)層形成于所述基底電路層上，所述透明導(dǎo)電薄膜層形成于所述金屬拉伸保護(hù)層之上；進(jìn)一步地，所述金屬拉伸保護(hù)層的延展性高于所述透明導(dǎo)電薄膜層的延展性。

有機(jī)發(fā)光層，形成于所述陽(yáng)極層的透明導(dǎo)電薄膜層上。

陰極層，形成于所述有機(jī)發(fā)光層上。

上述的OLED顯示面板，在透明導(dǎo)電薄膜層下端沉積金屬拉伸保護(hù)層，于OLED顯示面板彎折狀態(tài)下，延緩OLED顯示面板內(nèi)部的透明導(dǎo)電薄膜層的斷裂，增加整體顯示面板在彎折環(huán)境下的使用壽命，于柔性O(shè)LED顯示面板的透明導(dǎo)電薄膜層出現(xiàn)裂紋時(shí)，保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層斷裂區(qū)域正常顯示，降低光學(xué)不良率，從而提升整體視覺(jué)感受。

關(guān)于上述的一種OLED顯示面板，進(jìn)一步列舉一具體實(shí)施方式：如圖3a～3d、圖4所示，一種OLED顯示面板的結(jié)構(gòu)為：

提供一基板；

于上述基板表面形成上述絕緣層。進(jìn)一步地，上述絕緣層為聚酰亞胺薄膜層，上述聚酰亞胺薄膜層的厚度為10um～20um。

于上述緩沖層表面的分別形成重度摻雜區(qū)41和輕度摻雜區(qū)42；

于上述重度摻雜區(qū)41和輕度摻雜區(qū)42表面沉積第一柵絕緣層(GI1)43；

于上述第一柵絕緣層(GI1)43表面沉積第一柵極層(GL1)44；

于上述第一柵極層(GL1)44表面沉積第二柵絕緣層(GI2)45；

于上述第二柵絕緣層(GI2)45表面沉積第二柵極層(GL2)46；

于上述第二柵極層(GL2)46表面沉積層間絕緣層(ILD layer)47；

于上述層間絕緣層(ILD layer)47表面沉積數(shù)據(jù)線層(DL layer)48；

于上述數(shù)據(jù)線層(DL layer)48表面采用沉積鈍化層(BP layer)49；

于上述鈍化層(BP layer)49表面曝光形成平坦化層PL layer。

于上述有機(jī)自發(fā)光層4表面沉積金屬拉伸保護(hù)層；進(jìn)一步地，上述金屬拉伸保護(hù)層的厚度為10nm～20nm，所述金屬拉伸保護(hù)層的材質(zhì)為銅、鈦或金。

于上述金屬拉伸保護(hù)層表面沉積上述透明導(dǎo)電薄膜層；

于上述透明導(dǎo)電薄膜層表面曝光處理形成像素定義層；

于上述像素定義層表面進(jìn)行曝光處理形成上述間隔層。

上述的柔性O(shè)LED顯示面板，在透明導(dǎo)電薄膜層下端沉積金屬拉伸保護(hù)層，于OLED顯示面板彎折狀態(tài)下，延緩OLED顯示面板內(nèi)部的透明導(dǎo)電薄膜層的斷裂，增加整體顯示面板在彎折環(huán)境下的使用壽命，于柔性O(shè)LED顯示面板的透明導(dǎo)電薄膜層出現(xiàn)裂紋時(shí)，保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層斷裂區(qū)域正常顯示，降低光學(xué)不良率，從而提升整體視覺(jué)感受。

同時(shí)提供一種柔性O(shè)LED顯示裝置，其中，包括柔性O(shè)LED顯示面板，上述柔性O(shè)LED顯示面板采用上述任一項(xiàng)上述柔性O(shè)LED 顯示面板的制備方法制作形成。

一種柔性O(shè)LED顯示裝置，其中，包括上述的柔性O(shè)LED顯示面板。OLED顯示面板在透明導(dǎo)電薄膜層下沉積一預(yù)定厚度的金屬拉伸保護(hù)層，于OLED顯示面板彎折狀態(tài)下，延緩OLED顯示面板內(nèi)部的透明導(dǎo)電薄膜層的斷裂，增加整體顯示面板在彎折環(huán)境下的使用壽命，于柔性O(shè)LED顯示面板的透明導(dǎo)電薄膜層出現(xiàn)裂紋時(shí)，金屬拉伸保護(hù)層位于透明導(dǎo)電薄膜層下端，金屬拉伸保護(hù)層因具有良好的導(dǎo)電性，斷裂區(qū)域的透明導(dǎo)電薄膜層可借助于金屬導(dǎo)電薄膜層實(shí)現(xiàn)其電導(dǎo)通性，保護(hù)透明導(dǎo)電薄膜層斷裂區(qū)域正常顯示，降低光學(xué)不良率(顯示缺陷)，從而提升整體視覺(jué)感受。

一種柔性O(shè)LED顯示裝置的工作原理與上述柔性O(shè)LED顯示面板的工作原理相似，此處不做贅述。

以上上述僅為本發(fā)明較佳的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的實(shí)施方式及保護(hù)范圍，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，應(yīng)當(dāng)能夠意識(shí)到凡運(yùn)用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及圖示內(nèi)容所作出的等同替換和顯而易見(jiàn)的變化所得到的方案，均應(yīng)當(dāng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。