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      使用高分辨率全裸片圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行檢驗(yàn)的制作方法

      文檔序號(hào):11142537閱讀:來源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種用于相對(duì)于所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像確定檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的位置的計(jì)算機(jī)實(shí)施方法,其包括:

      使由檢驗(yàn)系統(tǒng)針對(duì)晶片上的對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)獲取的數(shù)據(jù)與關(guān)于預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的數(shù)據(jù)對(duì)準(zhǔn),其中所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述晶片的所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的裸片圖像空間中具有預(yù)定位置;

      基于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述預(yù)定位置而確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的位置;及

      基于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置而確定由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)針對(duì)所述晶片獲取的檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的位置,其中對(duì)準(zhǔn)所述數(shù)據(jù)、確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述位置及確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置是由計(jì)算機(jī)系統(tǒng)執(zhí)行。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像是所述裸片整體的所存儲(chǔ)高分辨率圖像。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:通過用基于電子束的成像系統(tǒng)掃描所述晶片或另一晶片上的裸片來獲取所述晶片的所述高分辨率裸片圖像,及將所述所獲取高分辨率裸片圖像存儲(chǔ)于存儲(chǔ)媒體中。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中關(guān)于所述晶片的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)不可供在所述方法中使用。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)而檢測(cè)所述晶片上的缺陷,其中在所述檢測(cè)之前并不知曉所述缺陷的位置。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中以子像素準(zhǔn)確度確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置。

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:基于所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像而識(shí)別待用于檢驗(yàn)所述晶片的一個(gè)或多個(gè)關(guān)注區(qū)域。

      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置而識(shí)別對(duì)應(yīng)于所述晶片上的關(guān)注區(qū)域的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)。

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:基于所述對(duì)準(zhǔn)而確定關(guān)于所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)與關(guān)于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)之間的偏移,其中使用所述偏移及所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置來執(zhí)行確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置。

      10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:從所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像產(chǎn)生上下文映射圖,其中所述上下文映射圖包括關(guān)于跨越所述裸片圖像空間的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性的值。

      11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:獲取關(guān)于所述晶片上的一個(gè)位置處的熱點(diǎn)的信息,基于關(guān)于所述熱點(diǎn)的所述信息而識(shí)別所述晶片上的所述熱點(diǎn)的其它位置,及基于所述一個(gè)位置及所述其它位置處的所述熱點(diǎn)而產(chǎn)生所述晶片的關(guān)注區(qū)域。

      12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)而檢測(cè)所述晶片上的缺陷,及基于對(duì)應(yīng)于所述缺陷中的至少一者的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置及上下文映射圖而對(duì)所述至少一個(gè)缺陷進(jìn)行分類,其中所述上下文映射圖包括關(guān)于跨越所述裸片圖像空間的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性的值。

      13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:從所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像產(chǎn)生上下文映射圖,其中所述上下文映射圖包括關(guān)于跨越所述裸片圖像空間的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性的值及關(guān)于所述值的上下文代碼;基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)而檢測(cè)所述晶片上的缺陷;及基于對(duì)應(yīng)于所述缺陷中的至少一者的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置及所述上下文映射圖而將所述上下文代碼中的一者指派到所述至少一個(gè)缺陷。

      14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:基于關(guān)于待由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)用于檢驗(yàn)所述晶片的一個(gè)或多個(gè)光學(xué)模式及像素大小的信息而選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中針對(duì)所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)所獲取的所述數(shù)據(jù)及所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)是在所述檢驗(yàn)系統(tǒng)上以兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式獲取。

      16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中用于所述兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式中的第一者的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)不同于用于所述兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式中的第二者的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中關(guān)于用于所述兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式中的第一者的所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)不同于關(guān)于用于所述兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式中的第二者的所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)。

      18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述方法是在檢驗(yàn)所述晶片期間執(zhí)行。

      19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中關(guān)于所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括經(jīng)掃描圖像,且其中關(guān)于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括來自所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的高分辨率圖像數(shù)據(jù)。

      20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中關(guān)于所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括經(jīng)掃描圖像,且其中關(guān)于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括圖像剪輯。

      21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:從所述晶片的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn),使得在所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者中存在至少一個(gè)預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      22.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述對(duì)準(zhǔn)是在對(duì)所述晶片的缺陷檢測(cè)之前執(zhí)行。

      23.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述方法的設(shè)置是在工具外執(zhí)行。

      24.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述方法的設(shè)置是在工具上執(zhí)行。

      25.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:通過將所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像劃分成對(duì)應(yīng)于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者的部分及搜索所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像以在所述多個(gè)掃描帶中的每一者中識(shí)別并選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)中的至少一者來選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      26.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:從所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像提取關(guān)于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的高分辨率裸片圖像剪輯,及將所述所提取圖像剪輯存儲(chǔ)于由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)用于檢驗(yàn)所述晶片的文件中。

      27.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:通過預(yù)處理所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像以選擇與所述檢驗(yàn)系統(tǒng)及由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)用于所述晶片的檢驗(yàn)過程兼容的預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)來選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      28.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:通過使用所述檢驗(yàn)系統(tǒng)掃描晶片上的裸片行并處理裸片的每一幀以識(shí)別獨(dú)特對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)來選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      29.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:使用所述檢驗(yàn)系統(tǒng)用于檢驗(yàn)的最佳成像模式掃描所述晶片以選擇適合預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn),及基于通過所述掃描產(chǎn)生的圖像及所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像而確定所述所選擇預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的位置。

      30.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)包括所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者中的一個(gè)以上對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      31.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)包括所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者中的一個(gè)以上對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)以校正縮放誤差。

      32.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中跨越所述晶片上的裸片以預(yù)定頻率選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      33.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)以預(yù)定最小間隔距離分布于所述晶片上的裸片上。

      34.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:使所述檢驗(yàn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)以在所述檢驗(yàn)系統(tǒng)中校正載臺(tái)位置準(zhǔn)確度、旋轉(zhuǎn)誤差、x及y平移誤差、縮放誤差或其某一組合。

      35.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:將所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)選擇為包含以組合方式提供用于所述確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述位置的足夠?qū)?zhǔn)信息的一組對(duì)準(zhǔn)特征。

      36.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述檢驗(yàn)系統(tǒng)經(jīng)配置以使用明視場(chǎng)模式來檢驗(yàn)所述晶片。

      37.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述檢驗(yàn)系統(tǒng)經(jīng)配置以使用暗視場(chǎng)模式來檢驗(yàn)所述晶片。

      38.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述檢驗(yàn)系統(tǒng)經(jīng)配置以使用電子束成像模式來檢驗(yàn)所述晶片。

      39.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置、所述裸片圖像空間中的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性及所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的一個(gè)或多個(gè)屬性而確定關(guān)于檢測(cè)所述晶片的不同部分上的缺陷的敏感度,其中所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述一個(gè)或多個(gè)屬性包括在所述不同部分中檢測(cè)到一個(gè)或多個(gè)缺陷的情況下的一個(gè)或多個(gè)圖像噪聲屬性,或其某一組合。

      40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的方法,其中基于先前在所述不同部分中所檢測(cè)的缺陷的合格率臨界性、先前在所述不同部分中所檢測(cè)的所述缺陷的故障概率或其某一組合而選擇所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的所述一個(gè)或多個(gè)屬性。

      41.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括:基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置及上下文映射圖而確定關(guān)于檢測(cè)所述晶片的不同部分上的缺陷的敏感度,其中所述上下文映射圖包括關(guān)于跨越所述裸片圖像空間的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性的值。

      42.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)包括關(guān)于所述晶片上的缺陷的數(shù)據(jù),所述方法進(jìn)一步包括:基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置而確定所述缺陷在所述裸片圖像空間中的位置,基于所述缺陷在所述裸片圖像空間中的所述位置及所述裸片圖像空間中的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性而確定所述缺陷是否是擾亂性缺陷,以及基于所述裸片圖像空間中的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的所述一個(gè)或多個(gè)屬性而確定未經(jīng)確定為擾亂性缺陷的所述缺陷是否是系統(tǒng)性或隨機(jī)缺陷。

      43.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中使用晶片級(jí)過程參數(shù)調(diào)制來處理所述晶片及額外晶片,且其中所述方法進(jìn)一步包括:通過將關(guān)于所述晶片及所述額外晶片上的裸片的檢驗(yàn)數(shù)據(jù)與共同標(biāo)準(zhǔn)參考裸片進(jìn)行比較來檢測(cè)所述晶片及所述額外晶片上的缺陷。

      44.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中經(jīng)對(duì)準(zhǔn)的關(guān)于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)針對(duì)所述晶片獲取的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者中的數(shù)據(jù),其中所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)包括所述多個(gè)掃描帶中的每一者中的至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn),其中確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述位置包括:基于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述預(yù)定位置而確定所述多個(gè)掃描帶中的每一者中的所述至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置,且其中確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置包括:基于所述多個(gè)掃描帶中的每一者中的所述至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置而確定所述多個(gè)掃描帶中的每一者中的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置。

      45.一種經(jīng)配置以相對(duì)于所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像確定檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的位置的系統(tǒng),其包括:

      存儲(chǔ)媒體,其包括晶片的所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像;及

      處理器,其耦合到所述存儲(chǔ)媒體,其中所述處理器經(jīng)配置以用于:

      使由檢驗(yàn)系統(tǒng)針對(duì)所述晶片上的對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)獲取的數(shù)據(jù)與關(guān)于預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的數(shù)據(jù)對(duì)準(zhǔn),其中所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述晶片的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的裸片圖像空間中具有預(yù)定位置;

      基于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述預(yù)定位置而確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的位置;及

      基于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置而確定由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)針對(duì)所述晶片獲取的檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的位置。

      46.一種經(jīng)配置以相對(duì)于所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像確定檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的位置的系統(tǒng),其包括:

      檢驗(yàn)系統(tǒng),其經(jīng)配置以獲取關(guān)于晶片上的對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的數(shù)據(jù)及關(guān)于所述晶片的檢驗(yàn)數(shù)據(jù);

      存儲(chǔ)媒體,其包括所述晶片的所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像;及

      處理器,其耦合到所述檢驗(yàn)系統(tǒng)及所述存儲(chǔ)媒體,其中所述處理器經(jīng)配置以用于:

      使由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)針對(duì)所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)獲取的所述數(shù)據(jù)與關(guān)于預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的數(shù)據(jù)對(duì)準(zhǔn),其中所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述晶片的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的裸片圖像空間中具有預(yù)定位置;

      基于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述預(yù)定位置而確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的位置;及

      基于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置而確定由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)針對(duì)所述晶片獲取的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的位置。

      47.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像是所述裸片整體的所存儲(chǔ)高分辨率圖像。

      48.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其進(jìn)一步包括基于電子束的成像系統(tǒng),所述基于電子束的成像系統(tǒng)經(jīng)配置以用于通過掃描所述晶片或另一晶片上的裸片來獲取所述晶片的所述高分辨率裸片圖像并將所述所獲取高分辨率裸片圖像存儲(chǔ)于所述存儲(chǔ)媒體中。

      49.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中關(guān)于所述晶片的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)不可供所述系統(tǒng)使用。

      50.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)而檢測(cè)所述晶片上的缺陷,且其中在所述檢測(cè)之前并不知曉所述缺陷的位置。

      51.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中以子像素準(zhǔn)確度確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置。

      52.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像而識(shí)別待用于檢驗(yàn)所述晶片的一個(gè)或多個(gè)關(guān)注區(qū)域。

      53.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置而識(shí)別對(duì)應(yīng)于所述晶片上的關(guān)注區(qū)域的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)。

      54.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述對(duì)準(zhǔn)而確定關(guān)于所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)與關(guān)于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)之間的偏移,且其中使用所述偏移及所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置來執(zhí)行確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置。

      55.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于從所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像產(chǎn)生上下文映射圖,且其中所述上下文映射圖包括關(guān)于跨越所述裸片圖像空間的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性的值。

      56.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于獲取關(guān)于所述晶片上的一個(gè)位置處的熱點(diǎn)的信息,基于關(guān)于所述熱點(diǎn)的所述信息而識(shí)別所述晶片上的所述熱點(diǎn)的其它位置,及基于所述一個(gè)位置及所述其它位置處的所述熱點(diǎn)而產(chǎn)生所述晶片的關(guān)注區(qū)域。

      57.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)而檢測(cè)所述晶片上的缺陷,及基于對(duì)應(yīng)于所述缺陷中的至少一者的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置及上下文映射圖而對(duì)所述至少一個(gè)缺陷進(jìn)行分類,且其中所述上下文映射圖包括關(guān)于跨越所述裸片圖像空間的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性的值。

      58.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于從所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像產(chǎn)生上下文映射圖,其中所述上下文映射圖包括關(guān)于跨越所述裸片圖像空間的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性的值及關(guān)于所述值的上下文代碼,且其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)而檢測(cè)所述晶片上的缺陷,及基于對(duì)應(yīng)于所述缺陷中的至少一者的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置及所述上下文映射圖而將所述上下文代碼中的一者指派到所述至少一個(gè)缺陷。

      59.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于關(guān)于待由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)用于檢驗(yàn)所述晶片的一個(gè)或多個(gè)光學(xué)模式及像素大小的信息而選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      60.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中針對(duì)所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)所獲取的所述數(shù)據(jù)及所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)是在所述檢驗(yàn)系統(tǒng)上以兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式獲取。

      61.根據(jù)權(quán)利要求60所述的系統(tǒng),其中用于所述兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式中的第一者的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)不同于用于所述兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式中的第二者的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      62.根據(jù)權(quán)利要求60所述的系統(tǒng),其中關(guān)于用于所述兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式中的第一者的所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)不同于關(guān)于用于所述兩個(gè)或兩個(gè)以上光學(xué)模式中的第二者的所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)。

      63.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于對(duì)準(zhǔn)關(guān)于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù),確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述位置,及在檢驗(yàn)所述晶片期間確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置。

      64.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中關(guān)于所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括經(jīng)掃描圖像,且其中關(guān)于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括來自所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的高分辨率圖像數(shù)據(jù)。

      65.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中關(guān)于所述晶片上的所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括經(jīng)掃描圖像,且其中關(guān)于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括圖像剪輯。

      66.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于從所述晶片的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn),使得在所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者中存在至少一個(gè)預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      67.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述對(duì)準(zhǔn)是在對(duì)所述晶片的缺陷檢測(cè)之前執(zhí)行。

      68.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中對(duì)準(zhǔn)關(guān)于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)、確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述位置及確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置的設(shè)置是在工具外執(zhí)行。

      69.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中對(duì)準(zhǔn)關(guān)于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)、確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述位置及確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置的設(shè)置是在工具上執(zhí)行。

      70.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于通過將所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像劃分成對(duì)應(yīng)于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者的部分及搜索所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像以在所述多個(gè)掃描帶中的每一者中識(shí)別并選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)中的至少一者來選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      71.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于從所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像提取關(guān)于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的高分辨率裸片圖像剪輯,及將所述所提取裸片圖像剪輯存儲(chǔ)于用于檢驗(yàn)所述晶片的文件中。

      72.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于通過預(yù)處理所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像以選擇與所述檢驗(yàn)系統(tǒng)及待用于所述晶片的檢驗(yàn)過程兼容的預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)來選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      73.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于通過使用所述檢驗(yàn)系統(tǒng)掃描晶片上的裸片行并處理裸片的每一幀以識(shí)別獨(dú)特對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)來選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      74.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于使用所述檢驗(yàn)系統(tǒng)用于檢驗(yàn)的最佳成像模式掃描所述晶片以選擇適合預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn),及基于通過所述掃描產(chǎn)生的圖像及所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像而確定所述所選擇預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的位置。

      75.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)包括所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者中的一個(gè)以上對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      76.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)包括所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者中的一個(gè)以上對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)以校正縮放誤差。

      77.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中跨越所述晶片上的裸片以預(yù)定頻率選擇所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)。

      78.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)以預(yù)定最小間隔距離分布于所述晶片上的裸片上。

      79.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于使所述檢驗(yàn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)以在所述檢驗(yàn)系統(tǒng)中校正載臺(tái)位置準(zhǔn)確度、旋轉(zhuǎn)誤差、x及y平移誤差、縮放誤差或其某一組合。

      80.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于將所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)選擇為包含以組合方式提供用于所述確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述位置的足夠?qū)?zhǔn)信息的一組對(duì)準(zhǔn)特征。

      81.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述檢驗(yàn)系統(tǒng)經(jīng)配置以使用明視場(chǎng)模式來檢驗(yàn)所述晶片。

      82.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述檢驗(yàn)系統(tǒng)經(jīng)配置以使用暗視場(chǎng)模式來檢驗(yàn)所述晶片。

      83.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述檢驗(yàn)系統(tǒng)經(jīng)配置以使用電子束成像模式來檢驗(yàn)所述晶片。

      84.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置、所述裸片圖像空間中的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性及所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的一個(gè)或多個(gè)屬性而確定關(guān)于檢測(cè)所述晶片的不同部分上的缺陷的敏感度,且其中所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述一個(gè)或多個(gè)屬性包括在所述不同部分中檢測(cè)到一個(gè)或多個(gè)缺陷的情況下的一個(gè)或多個(gè)圖像噪聲屬性,或其某一組合。

      85.根據(jù)權(quán)利要求84所述的系統(tǒng),其中基于先前在所述不同部分中所檢測(cè)的缺陷的合格率臨界性、先前在所述不同部分中所檢測(cè)的所述缺陷的故障概率或其某一組合而選擇所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的所述一個(gè)或多個(gè)屬性。

      86.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置及上下文映射圖而確定關(guān)于檢測(cè)所述晶片的不同部分上的缺陷的敏感度,且其中所述上下文映射圖包括關(guān)于跨越所述裸片圖像空間的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性的值。

      87.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)包括關(guān)于所述晶片上的缺陷的數(shù)據(jù),且其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于基于所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置而確定所述缺陷在所述裸片圖像空間中的位置,基于所述缺陷在所述裸片圖像空間中的所述位置及所述裸片圖像空間中的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的一個(gè)或多個(gè)屬性而確定所述缺陷是否是擾亂性缺陷,以及基于所述裸片圖像空間中的所述所存儲(chǔ)高分辨率裸片圖像的所述一個(gè)或多個(gè)屬性而確定未經(jīng)確定為擾亂性缺陷的所述缺陷是否是系統(tǒng)性或隨機(jī)缺陷。

      88.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中使用晶片級(jí)過程參數(shù)調(diào)制來處理所述晶片及額外晶片,且其中所述處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于通過將關(guān)于所述晶片及所述額外晶片上的裸片的檢驗(yàn)數(shù)據(jù)與共同標(biāo)準(zhǔn)參考裸片進(jìn)行比較來檢測(cè)所述晶片及所述額外晶片上的缺陷。

      89.根據(jù)權(quán)利要求46所述的系統(tǒng),其中經(jīng)對(duì)準(zhǔn)的關(guān)于所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述數(shù)據(jù)包括由所述檢驗(yàn)系統(tǒng)針對(duì)所述晶片獲取的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的多個(gè)掃描帶中的每一者中的數(shù)據(jù),其中所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)包括所述多個(gè)掃描帶中的每一者中的至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn),其中確定所述對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)的所述位置包括:基于所述預(yù)定對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述預(yù)定位置而確定所述多個(gè)掃描帶中的每一者中的所述至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置,且其中確定所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)的所述位置包括:基于所述多個(gè)掃描帶中的每一者中的所述至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)位點(diǎn)在所述裸片圖像空間中的所述位置而確定所述多個(gè)掃描帶中的每一者中的所述檢驗(yàn)數(shù)據(jù)在所述裸片圖像空間中的所述位置。

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