1.一種用于形成氧化硅層的組合物，其特征在于，包含：
含硅聚合物；以及
包含至少兩種溶劑的混合溶劑，
其中，所述混合溶劑在25℃下的表面張力是5毫牛/米至35毫牛/米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于形成氧化硅層的組合物，其特征在于，所述混合溶劑在25℃下的表面張力是15毫牛/米至35毫牛/米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于形成氧化硅層的組合物，其特征在于，所述混合溶劑包含選自苯、甲苯、二甲苯、乙苯、二乙苯、三甲苯、三乙苯、環(huán)己烷、環(huán)己烯、十氫萘、二戊烯、戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、乙基環(huán)己烷、甲基環(huán)己烷、環(huán)己烷、環(huán)己烯、對(duì)薄荷烷、二丙醚、二丁醚、苯甲醚、乙酸丁酯、乙酸戊酯、甲基異丁基酮、對(duì)甲基苯甲醚、四甲苯以及其組合中的至少兩個(gè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于形成氧化硅層的組合物，其特征在于，所述含硅聚合物包括聚硅氮烷、聚硅氧氮烷或其組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于形成氧化硅層的組合物，其特征在于，所述含硅聚合物的重量平均分子量是1,000克/摩爾至160,000克/摩爾。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于形成氧化硅層的組合物，其特征在于，所述含硅聚合物是以所述用于形成氧化硅層的組合物的總量計(jì)0.1重量％至30重量％的量被包含。
7.一種制造氧化硅層的方法，其特征在于，包括：
將根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于形成氧化硅層的組合物涂布在襯底上；
干燥涂有所述用于形成氧化硅層的組合物的所述襯底；以及
在150℃或大于150℃下在包含惰性氣體的氣氛下固化所得物。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造氧化硅層的方法，其特征在于，所述用于形成氧化硅層的組合物使用旋涂方法涂布。
9.一種根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法提供的氧化硅層。
10.一種電子裝置，其特征在于，包含根據(jù)權(quán)利要求9所述的氧化硅層。