本發(fā)明涉及一種工業(yè)用X射線(xiàn)檢查裝置或醫(yī)療用X射線(xiàn)檢查裝置、或者利用X射線(xiàn)的衍射或折射的各種X射線(xiàn)分析裝置或測(cè)定裝置等中所使用的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置，特別是涉及一種在真空容器內(nèi)使電子碰撞到靶材(target)而產(chǎn)生X射線(xiàn)的類(lèi)型的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置。

背景技術(shù)：

在真空容器內(nèi)使電子碰撞到靶材而產(chǎn)生X射線(xiàn)的類(lèi)型的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置，有如下兩種：使用向與電子的前進(jìn)方向不同的方向出射X射線(xiàn)的反射型靶材，及使用向與電子的前進(jìn)方向大致相同的方向出射X射線(xiàn)的透過(guò)型靶材。

這些之中，反射型靶材一般使用塊狀材料(bulk material)，且與用以將X射線(xiàn)從真空容器出射到外部的X射線(xiàn)照射窗隔開(kāi)一定程度的距離而配置于容器內(nèi)側(cè)，與此相對(duì)，因透過(guò)型靶材通常采用一體地積層形成于X射線(xiàn)照射窗的結(jié)構(gòu)，所以X射線(xiàn)焦點(diǎn)位于X射線(xiàn)照射窗的附近，因此具有能夠用于構(gòu)筑X射線(xiàn)透視像或斷層像的裝置中，且提高透視擴(kuò)大率的優(yōu)點(diǎn)。然而，相反地，因透過(guò)型靶材呈薄膜狀積層形成于X射線(xiàn)照射窗的單面，所以存在因電子照射引起的熱損傷而其壽命縮短的問(wèn)題。

為了提高這種透過(guò)型靶材的壽命，例如后述專(zhuān)利文獻(xiàn)1中，為了使靶材面上的電子的照射位置變化，而提出使靶材隨意地移動(dòng)的提案。該專(zhuān)利文獻(xiàn)1中揭示了如下技術(shù)：在使用開(kāi)放型的真空容器且具備透過(guò)型靶材的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置中，經(jīng)由O型環(huán)或真空波紋管(bellows)使靶材移動(dòng)。

所述提案中將使用橡膠制O型環(huán)的情況的構(gòu)成以示意性剖面圖而表示于圖8中。即，在所謂的開(kāi)放透過(guò)型的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置中，將一體地積層形成著靶材504的X射線(xiàn)照射窗505經(jīng)由O型環(huán)506安裝于真空容器501，且在例如相對(duì)于來(lái)自電子槍502的電子束B(niǎo)的軌道偏心的位置旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，由此使靶材504面上的電子束B(niǎo)的照射位置變化，所述開(kāi)放透過(guò)型的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置在真空容器501內(nèi)收容所謂的電子槍502，所述電子槍502具備電子源及用以使來(lái)自該電子源的電子加速及聚集的電極群，且構(gòu)成為能夠利用真空泵503將該真空容器501內(nèi)隨時(shí)抽成真空。

然而，在如所述那樣使用橡膠制O型環(huán)的情況下，因O型環(huán)所具有的氣體透過(guò)性或真空潤(rùn)滑油等的蒸發(fā)而真空度會(huì)逐漸惡化。因此，在如圖8那樣利用渦輪分子泵等真空泵一直進(jìn)行排氣的開(kāi)放型的裝置中有效，但無(wú)法應(yīng)用于如圖9所示的使用密封的真空容器的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置，即密閉型的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置中。即，圖9所示的密閉型的裝置中，一體地積層形成了靶材604的X射線(xiàn)照射窗605如果未利用熔接或焊接氣密地固定于收容了電子槍602的真空容器601則無(wú)法保持真空度。

這種密閉型的裝置中，能夠應(yīng)用經(jīng)由真空波紋管使真空容器的一部分隨靶材或X射線(xiàn)照射窗移動(dòng)的結(jié)構(gòu)?；趯D10的靶材附近主要部分放大的示意性剖視圖來(lái)說(shuō)明使用所述真空波紋管的情況下的構(gòu)成例。該例中，在收容電子槍(未圖示)并固定于裝置框架等的真空容器的本體部701的頂部形成貫通孔701a，利用熔接或焊接將真空波紋管702的一端部(下端部)氣密地固定于該貫通孔701a的周?chē)⑶覍⒃撜婵詹y管702的另一端部(上端部)同樣地氣密固定于形成在移動(dòng)部703的向下側(cè)開(kāi)放的凹部703a的周?chē)?/p>

積層形成著靶材704的X射線(xiàn)照射窗705以形成凹部703a的頂部分的方式固定于移動(dòng)部703。因此，真空容器的本體部701的壁體與真空波紋管702成為將真空容器的內(nèi)部與外部隔開(kāi)的壁體，它們的內(nèi)側(cè)區(qū)域V為真空狀態(tài)，所述真空波紋管702的下端部與該本體部701連通，上端部被X射線(xiàn)照射窗705封閉。

來(lái)自電子槍的電子束B(niǎo)從本體部701通過(guò)貫通孔701a且經(jīng)過(guò)真空波紋管702內(nèi)而照射到靶材704。由此，使真空波紋管702彎曲而使移動(dòng)部703移動(dòng)，由此能夠使電子束B(niǎo)朝向靶材704的照射位置變化。

此處，例如在將此種X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置用于X射線(xiàn)檢查裝置等的情況下，如果X射線(xiàn)焦點(diǎn)的空間座標(biāo)發(fā)生變化，則即便在同一部位配置樣品，透視區(qū)域也會(huì)發(fā)生變化，此外，需要進(jìn)行裝置系統(tǒng)的各種參數(shù)的重新構(gòu)成或裝置構(gòu)成零件的位置調(diào)整等各種重新調(diào)整，而欠優(yōu)選。

因此，圖10的構(gòu)成中，需要將移動(dòng)部703的移動(dòng)僅限制在與電子束B(niǎo)的照射方向正交的方向上，換句話(huà)說(shuō)，需要阻止靶材704的向相對(duì)于電子槍的接近或離開(kāi)方向的移動(dòng)或傾斜。因此，圖10中，在本體部701設(shè)置引導(dǎo)用的接觸構(gòu)件707等，移動(dòng)部703一邊與接觸構(gòu)件707滑動(dòng)接觸一邊移位。

[專(zhuān)利文獻(xiàn)]日本專(zhuān)利特開(kāi)2000-90862號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

且說(shuō)，圖10的構(gòu)成中，在真空波紋管702中，強(qiáng)的力會(huì)作用于因其內(nèi)側(cè)與外側(cè)的壓力差而收縮的方向，即朝向本體部701側(cè)的方向。因此，強(qiáng)的摩擦力作用于本體部701側(cè)的接觸構(gòu)件707與移動(dòng)部703之間的滑動(dòng)面而無(wú)法使移動(dòng)部703容易地移動(dòng)，從而實(shí)用上成為問(wèn)題。為了解決該問(wèn)題，也考慮對(duì)滑動(dòng)面涂潤(rùn)滑劑，但難以長(zhǎng)期地以相同的力使所述移動(dòng)部703移動(dòng)。

而且，如所述那樣，在能夠提高透視擴(kuò)大率的方面，使用了透過(guò)型靶材的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置比使用了反射型靶材的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置有利。然而，為此，需要在與X射線(xiàn)照射窗接近的位置配置被攝物，從而應(yīng)極力地避免在X射線(xiàn)照射窗的附近設(shè)置大型結(jié)構(gòu)體，并且也無(wú)法為了減小用以限制移動(dòng)部相對(duì)于真空容器的本體部的移位的引導(dǎo)機(jī)構(gòu)中的滑動(dòng)摩擦力而設(shè)置空間。

本發(fā)明鑒于這種實(shí)際情況而完成，其在于提供一種X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置，因?yàn)槭蔷o湊(compact)的機(jī)構(gòu)，而能夠以輕的力使保持靶材及X射線(xiàn)照射窗的移動(dòng)部相對(duì)于真空容器的本體部容易地移位，且能夠延長(zhǎng)靶材壽命而不破壞因使用透過(guò)型靶材而獲得的高透視擴(kuò)大率這樣的優(yōu)點(diǎn)。

為了解決所述課題，依據(jù)本發(fā)明提出的一種X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置，其包含一體地形成著靶材的X射線(xiàn)照射窗的真空容器內(nèi)配置著電子槍?zhuān)雇ㄟ^(guò)將來(lái)自該電子槍的電子束照射到所述靶材而產(chǎn)生的X射線(xiàn)，經(jīng)由所述X射線(xiàn)照射窗出射到外部，其中：所述真空容器包括：固定著所述電子槍的本體部、及能夠經(jīng)由真空波紋管相對(duì)于該本體部移動(dòng)且氣密地連結(jié)的移動(dòng)部，在該移動(dòng)部設(shè)置著一體地形成著所述靶材的X射線(xiàn)照射窗，并且在所述真空容器的外側(cè)設(shè)置著引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)在所述移動(dòng)部的移動(dòng)時(shí)為了將所述靶材的電子束照射面與電子槍的距離保持為固定而限制該移動(dòng)部的朝向相對(duì)于所述電子槍的接近/離開(kāi)方向的移動(dòng)及傾斜，該引導(dǎo)機(jī)構(gòu)包括：引導(dǎo)部，設(shè)置于所述本體部側(cè)且形成著沿著與所述電子束的中心軸正交的面的引導(dǎo)用平坦面；被引導(dǎo)部，設(shè)置于所述移動(dòng)部側(cè)且形成著與所述引導(dǎo)用平坦面相向的被引導(dǎo)用平坦面；以及至少三個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體，配置于所述引導(dǎo)用平坦面與被引導(dǎo)用平坦面間(發(fā)明1)。

此處，本發(fā)明中，可優(yōu)選地采用下述構(gòu)成：所述轉(zhuǎn)動(dòng)體為滾珠，在所述引導(dǎo)用平坦面或被引導(dǎo)用平坦面設(shè)置著限制機(jī)構(gòu)，所述限制機(jī)構(gòu)以各個(gè)滾珠不會(huì)脫離繞所述電子束的中心軸且針對(duì)各滾珠的每一個(gè)所設(shè)定的區(qū)域的方式，來(lái)限制各自的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍(發(fā)明2)。

作為所述限制機(jī)構(gòu)，可使用環(huán)狀構(gòu)件，所述環(huán)狀構(gòu)件在所述引導(dǎo)用平坦面或被引導(dǎo)用平坦面以包圍各個(gè)滾珠的方式固定(發(fā)明3)，或者，亦可為如下構(gòu)成：即，設(shè)置凹陷部，所述凹陷部在所述引導(dǎo)用平坦面或被引導(dǎo)用平坦面以收容各個(gè)滾珠的方式形成(發(fā)明4)，此外，還可設(shè)為如下構(gòu)成：即，具備槽及隔板，所述槽在所述引導(dǎo)用平坦面或被引導(dǎo)用平坦面繞所述電子束的中心軸呈環(huán)狀形成，所述隔板設(shè)置于該槽內(nèi)且限制各個(gè)滾珠在槽內(nèi)的朝向周向的移動(dòng)(發(fā)明5)。

而且，為了解決與所述相同的課題，發(fā)明6的發(fā)明是一種X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置，與所述同樣地在包括一體地形成著靶材的X射線(xiàn)照射窗的真空容器內(nèi)配置著電子槍?zhuān)雇ㄟ^(guò)將來(lái)自該電子槍的電子束照射到所述靶材而產(chǎn)生的X射線(xiàn)，經(jīng)由所述X射線(xiàn)照射窗出射到外部，所述X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置的特征在于：所述真空容器包括：固定著所述電子槍的本體部，及能夠經(jīng)由真空波紋管相對(duì)于該本體部移動(dòng)且氣密地連結(jié)的移動(dòng)部，在該移動(dòng)部設(shè)置著一體地形成著所述靶材的X射線(xiàn)照射窗，并且在所述真空容器的外側(cè)設(shè)置著引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)在所述移動(dòng)部的移動(dòng)時(shí)為了將所述靶材的電子束照射面與電子槍的距離保持為固定而限制該移動(dòng)部的朝向相對(duì)于所述電子槍的接近/離開(kāi)方向的移動(dòng)及傾斜，該引導(dǎo)機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于所述本體部側(cè)的引導(dǎo)部、及設(shè)置于所述移動(dòng)部側(cè)的被引導(dǎo)部，在這些中的其中一者形成著平坦面，在另一者形成著分別與該平坦面抵接的至少三個(gè)部位的凸曲面。該發(fā)明6的發(fā)明中的凸曲面的具體形狀不作特別限定，但例如優(yōu)選地采用球面(發(fā)明7)。

本發(fā)明通過(guò)如下方式來(lái)解決課題，即，使用真空波紋管將靶材能夠相對(duì)于電子槍移動(dòng)地加以保持，通過(guò)使用了轉(zhuǎn)動(dòng)體的滾動(dòng)接觸、或通過(guò)凸曲面與平坦面的接觸而減輕作用于引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的摩擦力，所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)為了將X射線(xiàn)焦點(diǎn)的位置保持為固定而用以限制靶材的移動(dòng)及姿勢(shì)。

即，經(jīng)由真空波紋管將設(shè)置著靶材與X射線(xiàn)照射窗的移動(dòng)部能夠移動(dòng)地連接于真空容器的本體部，由此，防止真空容器內(nèi)的真空度的惡化，并且在真空容器的外部設(shè)置用以限制靶材的移動(dòng)方向與傾斜的引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，而防止在靶材的移動(dòng)時(shí)X射線(xiàn)焦點(diǎn)移動(dòng)。而且，作用于引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的接觸部分的摩擦力，如發(fā)明1的發(fā)明般，能夠通過(guò)經(jīng)由轉(zhuǎn)動(dòng)體使接觸部分滾動(dòng)接觸而大幅減輕，所述摩擦力是由起因于真空容器內(nèi)外的壓力差的真空波紋管的收縮所致。

而且，發(fā)明6的發(fā)明中，能夠通過(guò)使引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的接觸部分進(jìn)行凸曲面與平坦面的接觸，來(lái)抑制平坦面彼此接觸時(shí)這樣的振鈴現(xiàn)象(ringing phenomena)等的產(chǎn)生，且雖并非為滾動(dòng)接觸但也能夠減輕摩擦力。

發(fā)明1的發(fā)明中，只要引導(dǎo)用平坦面與被引導(dǎo)用平坦面之間轉(zhuǎn)動(dòng)體的相互的位置不發(fā)生大幅偏離，如果轉(zhuǎn)動(dòng)體最低為三個(gè)，則能夠?qū)⒁苿?dòng)部不傾斜地加以支撐且使其移動(dòng)，而且，通過(guò)使用滾珠作為轉(zhuǎn)動(dòng)體，而能夠使移動(dòng)部沿著引導(dǎo)面向任意的方向移動(dòng)。

因此，如發(fā)明2的發(fā)明那樣，在引導(dǎo)用平坦面與被引導(dǎo)用平坦面之間設(shè)置三個(gè)以上的滾珠，并且設(shè)置限制機(jī)構(gòu)，所述限制機(jī)構(gòu)以所述各個(gè)滾珠的位置不會(huì)脫離繞電子束的中心軸設(shè)定的區(qū)域的方式，來(lái)限制各滾珠的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍，由此，即便在使移動(dòng)部反復(fù)移動(dòng)后各滾珠的相對(duì)位置稍微變化，也能夠?qū)⒏鳚L珠相互的位置的偏離限制在固定范圍內(nèi)。而且，該限制機(jī)構(gòu)在裝置的組裝時(shí)也發(fā)揮作用而容易操作滾珠。

限制各個(gè)滾珠的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍的限制機(jī)構(gòu)，也可設(shè)置于引導(dǎo)用平坦面?zhèn)扰c被引導(dǎo)用平坦面?zhèn)戎械娜我粋?cè)。而且，作為其具體的構(gòu)成，可采用如下結(jié)構(gòu)等：將以規(guī)定的能夠轉(zhuǎn)動(dòng)的區(qū)域包圍各個(gè)滾珠的周?chē)沫h(huán)固定于任一平坦面(發(fā)明3)，或者在任一平坦面形成能夠確保各個(gè)滾珠能夠分別進(jìn)行規(guī)定轉(zhuǎn)動(dòng)的區(qū)域的凹坑狀的凹陷部，且將各滾珠收容于該凹陷部?jī)?nèi)(發(fā)明4)，此外，在任一平坦面形成圓環(huán)狀的槽，設(shè)置將該槽內(nèi)在周向隔開(kāi)的隔板而限制各個(gè)滾珠的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍(發(fā)明5)。

在將引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的接觸部分設(shè)為凸曲面與平坦面的接觸的情況下，關(guān)于凸曲面，只要例如利用熔接或焊接等將滾珠固定于引導(dǎo)部或被引導(dǎo)部而形成球面，則其制作也變得容易。

[發(fā)明的效果]

根據(jù)本發(fā)明，維持高真空度的狀態(tài)，能夠以輕的力使靶材相對(duì)于電子束的照射位置容易地移動(dòng)，并且，無(wú)須為了獲得該作用效果而設(shè)置大型結(jié)構(gòu)體，因此也不會(huì)對(duì)透視擴(kuò)大率造成影響。因此，如果將本發(fā)明尤其應(yīng)用于具備使用了密閉型真空容器的透過(guò)型靶材的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置，則能夠提高所述效果。

附圖說(shuō)明

圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的靶材附近的示意性縱剖視圖。

圖2是圖1中的A-A線(xiàn)剖視圖。

圖3(a)、圖3(b)是表示本發(fā)明的另一實(shí)施方式中的滾珠附近的主要部分剖視圖。

圖4(a)、圖4(b)是表示本發(fā)明的又一實(shí)施方式中的滾珠附近的主要部分剖視圖。

圖5(a)、圖5(b)是表示能夠應(yīng)用于圖1的形態(tài)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)的一例的概念圖。

圖6是表示本發(fā)明的又一實(shí)施方式中的靶材附近的示意性縱剖視圖。

圖7是表示使引導(dǎo)機(jī)構(gòu)進(jìn)行凸曲面與平坦面的滑動(dòng)接觸的情況下的接觸部的結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖8是表示使用了開(kāi)放型的真空容器的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置的構(gòu)成例的示意性剖視圖。

圖9是使用了密閉型的真空容器的與圖8相同的示意性剖視圖。

圖10是表示使用真空波紋管使對(duì)靶材的電子束照射位置變化的情況下的靶材附近的主要部分構(gòu)成例的示意性剖視圖。

[主要元件符號(hào)說(shuō)明]

1：本體部 1a：貫通孔

2：真空波紋管 3：移動(dòng)部

3a：凹部 4、504、604：靶材

5、505、605：X射線(xiàn)照射窗 10：引導(dǎo)部

10a：引導(dǎo)用平坦面 11：環(huán)

12：滾珠(轉(zhuǎn)動(dòng)體) 13：被引導(dǎo)部

13a：被引導(dǎo)用平坦面 14：偏心環(huán)

21：滾珠 111：凹陷部

211：槽 211a：隔板

501、601：真空容器 502、602：電子槍

503：真空泵 B：電子束

具體實(shí)施方式

以下，一邊參照附圖一邊對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。

圖1是示意性地表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的靶材附近的縱剖面圖，圖2是圖1中的A-A線(xiàn)剖面圖。另外，圖1相當(dāng)于圖2中的a-b-c-d-e-f剖面。而且，該實(shí)施方式中的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置的基本構(gòu)成與所述圖9同樣地，使用密閉型真空容器與透過(guò)型靶材。

圖1所示的真空容器包含：收容固定著電子槍(未圖示)的本體部1，及經(jīng)由真空波紋管2而與該本體部1氣密地連結(jié)的移動(dòng)部3。即，在本體部1的頂部形成著貫通孔1a，在該貫通孔1a的周?chē)萌劢踊蚝附託饷艿毓潭ㄖ婵詹y管2的一端部。同樣地，真空波紋管2的另一端部氣密地固定于形成在移動(dòng)部3的凹部3a的周?chē)?/p>

積層形成著靶材4的X射線(xiàn)照射窗5以形成凹部3a的頂部的方式固定于移動(dòng)部3。由此，本體部1的壁體與真空波紋管2成為形成真空容器的壁體，且它們的內(nèi)側(cè)區(qū)域V為抽成真空的狀態(tài)，所述真空波紋管2的下端部氣密地與該本體部1連通，并且，上端部由X射線(xiàn)照射窗5封閉。

來(lái)自固定于本體部1側(cè)的電子槍的電子束B(niǎo)，從本體部1通過(guò)貫通孔1a并穿過(guò)真空波紋管2內(nèi)，而照射到靶材4。

在本體部1的上表面，以包圍真空波紋管2的外側(cè)的方式固定著圓環(huán)狀的引導(dǎo)部10，在該引導(dǎo)部10的上表面，形成著沿著與電子束B(niǎo)的中心軸正交的面的引導(dǎo)用平坦面10a。

另一方面，在移動(dòng)部3的下表面，以與引導(dǎo)用平坦面10a相向的方式形成著被引導(dǎo)用平坦面13a，該部分構(gòu)成被引導(dǎo)部13。而且，在引導(dǎo)用平坦面10a與被引導(dǎo)用平坦面13a之間介隔存在彼此相同尺寸的三個(gè)滾珠(鋼球)12。

各滾珠12如圖2所示，在固定于引導(dǎo)用平坦面10a的三個(gè)環(huán)11內(nèi)各配置一個(gè)，由此，各滾珠12的相互的位置關(guān)系被限制為將電子束B(niǎo)的中心軸的周?chē)笾?等分的位置，相互的位置關(guān)系未大幅偏離。即，各環(huán)11被固定于將以電子束B(niǎo)的中心軸為圓心的圓進(jìn)行3等分的位置，配置于該各環(huán)11內(nèi)的各滾珠12的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍被限定于該各環(huán)11的內(nèi)側(cè)。由此，當(dāng)如后述般使移動(dòng)部3反復(fù)移動(dòng)時(shí)，即便各自移動(dòng)時(shí)因各滾珠12的轉(zhuǎn)動(dòng)而各滾珠12的相互的位置關(guān)系發(fā)生稍微偏離，因環(huán)11的限制，各滾珠12的位置關(guān)系也不會(huì)大幅偏離。

而且，因環(huán)11的存在，裝置組裝時(shí)在引導(dǎo)用平坦面10a上各滾珠12的位置受到限制，從而也具有使?jié)L珠12操作變得容易的優(yōu)點(diǎn)。

以上的構(gòu)成中，成為如下?tīng)顟B(tài)，即，因真空容器的內(nèi)外的壓力差，真空波紋管2收縮，從而設(shè)置于移動(dòng)部3的被引導(dǎo)用平坦面13a被擠壓到各滾珠12。由此，移動(dòng)部3成為在其被引導(dǎo)用平坦面13a經(jīng)由相同尺寸的三個(gè)滾珠12支撐于引導(dǎo)用平坦面10a的狀態(tài)，而成為沿著與電子束B(niǎo)的中心軸正交的方向的姿勢(shì)。

為了使移動(dòng)部3移動(dòng)，從任意的水平方向施加力即可。此時(shí)，利用由真空容器內(nèi)外的壓力差引起的真空波紋管2的收縮，向下的強(qiáng)的力作用于移動(dòng)部3，在形成于移動(dòng)部3的下表面的被引導(dǎo)用平坦面13a與本體部1側(cè)的引導(dǎo)用平坦面10a之間，介隔存在相對(duì)于所述兩個(gè)平坦面滾動(dòng)接觸的滾珠12，因而，比起平坦面彼此面接觸的情況，其摩擦阻力得到大幅減輕，能夠以輕的力使其容易地移動(dòng)。

以上的實(shí)施方式中應(yīng)特別注意的方面為利用極其緊湊的構(gòu)成減輕了限制移動(dòng)部3的移動(dòng)的引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的摩擦阻力，因X射線(xiàn)照射窗5的X射線(xiàn)照射方向外側(cè)不存在結(jié)構(gòu)體或突起等，所以能夠應(yīng)用本發(fā)明，而不會(huì)對(duì)使用了透過(guò)型靶材的X射線(xiàn)產(chǎn)生裝置的優(yōu)點(diǎn)即高透視擴(kuò)大率進(jìn)行任何破壞。

此處，以上的例中表示使用三個(gè)滾珠作為轉(zhuǎn)動(dòng)體的例，只要轉(zhuǎn)動(dòng)體的個(gè)數(shù)為三個(gè)以上，則不作特別限定。

作為限制滾珠12的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍的機(jī)構(gòu)，除使用所述環(huán)11以外，也可采用圖3(a)、圖3(b)及圖4(a)、圖4(b)所示的構(gòu)成。圖3(a)、圖3(b)表示轉(zhuǎn)動(dòng)體(滾珠)附近的另一構(gòu)成例，圖3(a)是表示主要部分的縱剖視圖，圖3(b)是圖3(a)的B-B線(xiàn)剖視圖。圖3(a)、圖3(b)所示的構(gòu)成中，在引導(dǎo)構(gòu)件10的上表面形成多個(gè)凹陷部111，在該凹陷部111內(nèi)各配置一個(gè)滾珠12，將各滾珠12的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍限制于該凹陷部111的內(nèi)側(cè)。

而且，圖4(a)、圖4(b)是表示轉(zhuǎn)動(dòng)體(滾珠)附近的另一構(gòu)成例的圖，圖4(a)是表示主要部分的縱剖視圖，圖4(b)是圖4(a)的C-C線(xiàn)剖視圖。圖4(a)、圖4(b)所示的構(gòu)成中，在引導(dǎo)構(gòu)件10的上表面形成以電子束B(niǎo)的中心軸為圓心的圓環(huán)狀的槽211，且在該槽211內(nèi)配置多個(gè)滾珠12，并且利用固定于槽211內(nèi)的一組兩塊隔板211a來(lái)限制槽211內(nèi)的各個(gè)滾珠12的朝向周向的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍。

關(guān)于包含以上的環(huán)11或凹陷部111、或者槽211與隔板211a的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍的限制機(jī)構(gòu)，如所述各例中所示般，除設(shè)置于本體部1的引導(dǎo)部10側(cè)以外，即便設(shè)置于移動(dòng)部3的被引導(dǎo)部13側(cè)也能夠?qū)崿F(xiàn)同等的作用效果。

且說(shuō)，以上的實(shí)施方式中未對(duì)使移動(dòng)部3移動(dòng)的機(jī)構(gòu)作任何限定，將一例概念性地表示于圖5(a)、圖5(b)中。另外，圖5(b)表示使偏心環(huán)14從圖5(a)的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)180°后的狀態(tài)。

如圖5(a)、圖5(b)所示，能夠構(gòu)成為如下：在移動(dòng)部3的外側(cè)，配置內(nèi)周面相對(duì)于外周面偏心的偏心環(huán)14，以電子束B(niǎo)的中心軸為圓心使偏心環(huán)14以外周面為基準(zhǔn)轉(zhuǎn)動(dòng)，由此，其內(nèi)周面抵接于移動(dòng)部3的外周面而使該移動(dòng)部3的中心O相對(duì)于電子束B(niǎo)的中心軸偏心。

如根據(jù)圖5(a)、圖5(b)可知，能夠在與偏心環(huán)14的轉(zhuǎn)動(dòng)位置相應(yīng)的方向上使移動(dòng)部3從電子束B(niǎo)的中心軸偏心，進(jìn)而能使靶材4的電子束B(niǎo)的照射位置在距離移動(dòng)部3的中心O為規(guī)定距離的圓上跨及360°而變化。

此處，以上的實(shí)施方式中，表示了如下的例，即，將引導(dǎo)部10固定于真空容器的本體部1的上表面并豎起，且在引導(dǎo)部10的上表面形成引導(dǎo)用平坦面10a，但例如圖6所示，也可將本體部1的上表面直接作為引導(dǎo)用平坦面10a，另一方面，將被引導(dǎo)部13固定于移動(dòng)部3的下表面并使其面向下方，在該被引導(dǎo)部13的下表面形成被引導(dǎo)用平坦面13a，且在這些平坦面之間介隔存在多個(gè)滾珠12。該情況下，各滾珠12的轉(zhuǎn)動(dòng)范圍由環(huán)11等轉(zhuǎn)動(dòng)范圍的限制機(jī)構(gòu)所限制，所述環(huán)11設(shè)置于引導(dǎo)用平坦面10a或被引導(dǎo)用平坦面13a中的任一側(cè)。該情況下，也能夠?qū)崿F(xiàn)與所述例完全同等的作用效果。

而且，以上的實(shí)施方式中，表示了使用滾珠作為轉(zhuǎn)動(dòng)體的例，但本發(fā)明未必需要使用滾珠，也可使用其他轉(zhuǎn)動(dòng)體，例如圓筒形輥(cylindrical roller)等。然而，因圓筒形輥僅能夠朝一方向轉(zhuǎn)動(dòng)，所以移動(dòng)部的移動(dòng)被限制為一維方向。因此，在使用圓筒形輥的情況下，能夠采用如下構(gòu)成，即，在引導(dǎo)用平坦面或被引導(dǎo)用平坦面，隔著電子束的中心軸而在其兩側(cè)設(shè)置沿著圓筒形輥的轉(zhuǎn)動(dòng)方向的相互平行的引導(dǎo)槽等，在各個(gè)引導(dǎo)槽內(nèi)收容多個(gè)圓筒形輥而對(duì)各圓筒形輥的端面進(jìn)行引導(dǎo)，并且在其滾動(dòng)方向上設(shè)置隔板等，由此防止各個(gè)圓筒形輥的偏離。

此外，在引導(dǎo)用平坦面上，隔著電子束的中心軸而在其兩側(cè)平行地形成著剖面為V字形狀的槽(V形槽)，在該槽上載置滾珠的情況下也僅能夠朝一方向轉(zhuǎn)動(dòng)，從而發(fā)揮與所述圓筒形輥相同的作用效果。關(guān)于V形槽，就字面來(lái)說(shuō)并非指平坦面，載置于兩條V形槽上的滾珠所接觸的線(xiàn)狀位置(四條直線(xiàn))包含于一個(gè)平面內(nèi)，因而本說(shuō)明書(shū)中這種構(gòu)成也包含于本發(fā)明的引導(dǎo)用平坦面。

以上的各例表示使用轉(zhuǎn)動(dòng)體達(dá)成本發(fā)明的目的的例，但本發(fā)明不限于此，即便利用使平坦面與凸曲面接觸的構(gòu)成也能夠?qū)崿F(xiàn)依據(jù)所述各例的目的效果。該情況下的構(gòu)成中，代替例如圖1、圖2所示的實(shí)施方式中的滾珠12，在引導(dǎo)部10的上表面突出形成著多個(gè)凸曲面，使該各凸曲面與移動(dòng)部3側(cè)的被引導(dǎo)用平坦面13a抵接。另外，該情況下當(dāng)然不需要環(huán)11。

然而，因在構(gòu)件突出形成多個(gè)凸曲面并不容易，所以例如圖7所示，采用利用熔接或焊接等將滾珠(鋼球)21固定于引導(dǎo)部10的表面的方法即可，且使被引導(dǎo)用平坦面13a抵接于該各滾珠21的頂部即可。

根據(jù)所述構(gòu)成，由于引導(dǎo)部10與被引導(dǎo)部13(被引導(dǎo)用平坦面13a)滑動(dòng)接觸，所以比起使用所述轉(zhuǎn)動(dòng)體12而滾動(dòng)接觸的之前的各例，摩擦阻力的減輕效果稍低，但比起使平坦面彼此滑動(dòng)接觸的情況則能夠減輕摩擦阻力，而且，能夠防止平坦面彼此接觸時(shí)所產(chǎn)生的振鈴現(xiàn)象。

而且，在采用如以上的組合了凸曲面與平坦面的構(gòu)成的情況下，當(dāng)然也可將凸曲面設(shè)置于本體部1的引導(dǎo)部10側(cè)，在移動(dòng)部3的被引導(dǎo)部13側(cè)形成被引導(dǎo)用平坦面13a，并且將凸曲面設(shè)置于移動(dòng)部3的被引導(dǎo)部13側(cè)，在本體部1的引導(dǎo)部10側(cè)形成引導(dǎo)用平坦面10a。而且，凸曲面的形成數(shù)量只要為三個(gè)部位以上，則能夠設(shè)為任意的數(shù)量。