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      一種碳納米管冷陰極的制備方法與流程

      文檔序號(hào):11136362閱讀:1881來(lái)源:國(guó)知局
      一種碳納米管冷陰極的制備方法與制造工藝

      本發(fā)明涉及一種平板顯示器制作方法,具體涉及一種碳納米管冷陰極的制備方法。



      背景技術(shù):

      碳納米管是一種非常優(yōu)良的場(chǎng)發(fā)射材料。它具有開(kāi)啟電壓低、長(zhǎng)徑比大、穩(wěn)定性高的特點(diǎn),在較低的電壓下就可以發(fā)射電子,而且長(zhǎng)時(shí)間經(jīng)受較大的電流也不容易被破壞,很適合用于平板顯示器。

      碳納米管場(chǎng)發(fā)射性能主要體現(xiàn)在碳納米管尖端場(chǎng)發(fā)射,碳納米管尖端密度過(guò)大時(shí)就會(huì)出現(xiàn)電磁場(chǎng)屏蔽現(xiàn)象,導(dǎo)致影響場(chǎng)發(fā)射電流密度。改變碳納米管陣列的整體取向,可以改變碳納米管尖端電場(chǎng)分布,從而達(dá)到場(chǎng)發(fā)射顯示器高亮度的要求。

      場(chǎng)發(fā)射顯示器的核心部件是冷陰極結(jié)構(gòu),如何在單位空間內(nèi)增加碳納米管冷陰極結(jié)構(gòu)的場(chǎng)發(fā)射強(qiáng)度,一直是本領(lǐng)域研究的重點(diǎn)。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明是針對(duì)上述技術(shù)的問(wèn)題,提出以下發(fā)明內(nèi)容:

      一種碳納米管冷陰極的制備方法,包括如下步驟:

      步驟1:將待沉積的柔性導(dǎo)電材料加熱至70-90℃,并且保持恒定溫度;

      步驟2:柔性導(dǎo)電材料表面沉積1-3μm厚金屬薄膜;

      步驟3:采用CVD法在金屬薄膜表面生長(zhǎng)碳納米管;

      步驟4:將沉積好的陰極材料取出,常溫冷卻并且封裝。

      優(yōu)選地,柔性導(dǎo)電材料可以選用PDMS。

      優(yōu)選地,陰極材料常溫冷卻2-5天。

      優(yōu)選地,冷卻后的冷陰極材料金屬表面呈U型褶皺狀屈曲結(jié)構(gòu),碳納米管垂直于金屬表面生長(zhǎng)。

      本發(fā)明的有益效果:褶皺層碳納米管結(jié)構(gòu),增加了單位空間的場(chǎng)發(fā)射面積,而且降低了電磁屏蔽對(duì)場(chǎng)發(fā)射性能的影響。

      附圖說(shuō)明

      圖1碳納米管冷陰極平面結(jié)構(gòu)

      圖2碳納米管冷陰極褶皺結(jié)構(gòu)

      具體實(shí)施方式

      實(shí)施例1:將處理好的PDMS3放入真空濺射設(shè)備,恒溫加熱到所需溫度70-90℃,PDMS3表面濺射所需金屬薄膜2,通過(guò)時(shí)間控制得到所需薄膜厚度1-3μm。采用CVD法在金屬薄膜 2表面生長(zhǎng)碳納米管1,催化劑采用鐵、鈷、鎳等納米顆粒。如圖1所示,控制催化劑的陣列及碳納米管1的密度,同時(shí)控制得到所需碳納米管1高度。

      實(shí)施例2:將陰極材料常溫冷卻2-5天,在應(yīng)力作用下,PDMS3會(huì)產(chǎn)生有規(guī)律的褶皺,金屬薄2膜由于粘附PDMS3表面,也會(huì)產(chǎn)生相應(yīng)的屈曲形變,得到如圖2所示的形狀效果,同時(shí)碳納米管1垂直所在的金屬薄膜2微小平面。

      褶皺層碳納米管結(jié)構(gòu),增加了單位空間的場(chǎng)發(fā)射面積,而且降低了電磁屏蔽對(duì)場(chǎng)發(fā)射性能的影響。

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