本發(fā)明涉及集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種在芯片制造過程中檢測晶圓破裂處的裝置。

背景技術(shù)：

晶圓(wafer)為一硅制薄片，相對來說比較脆弱，在半導(dǎo)體制造過程中，某些工藝需要對晶圓施加一定的壓力，在工藝與工藝之間，需要將晶圓在設(shè)備之間移動，這些過程都容易造成晶圓損傷甚至斷裂。在現(xiàn)有技術(shù)中，如果晶圓有所損傷甚至破裂，整個晶圓即被作為損壞件而被拋棄。這樣顯而易見的增加生產(chǎn)成本。很多時候，晶圓的部分區(qū)域的破裂并不影響晶圓的其他區(qū)域。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上，本發(fā)明公開了一種在芯片制造過程中檢測晶圓破裂處的裝置。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種在芯片制造過程中檢測晶圓破裂處的裝置，包括工作臺；所述工作臺之上設(shè)置有晶圓放置位；所述工作臺旁側(cè)安裝有滑軌；滑軌之上的滑軌軌道；還設(shè)置有支撐架，支撐架的下端連接有與滑軌軌道相匹配的滑動塊；支撐架之上、工作臺上方安裝有紅外線裝置；所述紅外線裝置的長度與晶圓放置位的直徑相同；紅外線裝置包括紅外線發(fā)射儀和紅外線接收儀；當滑動塊滑動至滑軌軌道一端時，紅外線裝置位于晶圓放置位的一個邊緣；當滑動塊滑動至滑軌軌道的另一端時，紅外線裝置位于晶圓放置位的另一個邊緣；

滑動塊通過絲桿與步進電機相連接；單片機通過變頻器對步進電機進行控制；單片機之上還連接有儲存器；紅外線發(fā)射儀和紅外線接收儀也均與單片機相連接。

本發(fā)明的有益技術(shù)效果是：

本發(fā)明通過紅外線入射到晶圓完好表面和晶圓破損表面的發(fā)射率不同，可有效檢測晶圓的破損處，并對晶圓破損處的坐標進行檢測、記錄，則之后的制造流程中，只要跳過破損處坐標即可，無需拋棄整個晶圓，這樣增加了晶圓的利用率，降低了生產(chǎn)成本。

而且，本發(fā)明所述的裝置，與現(xiàn)有技術(shù)中通過SEM顯微鏡之類的手段觀察晶圓破損處相比，裝置造價十分便宜，操作也更加簡單。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的裝置圖。

圖2是本發(fā)明的控制電路框圖。

具體實施方式

圖1是本發(fā)明的裝置圖。如圖1所示，本發(fā)明包括工作臺1。工作臺1之上設(shè)置有晶圓放置位2。工作臺1旁側(cè)安裝有滑軌3。滑軌3之上的滑軌軌道4。還設(shè)置有支撐架6，支撐架6的下端連接有與滑軌軌道4相匹配的滑動塊5。支撐架6之上、工作臺1上方安裝有紅外線裝置7。紅外線裝置7的長度與晶圓放置位2的直徑相同。紅外線裝置7包括紅外線發(fā)射儀71和紅外線接收儀72。當滑動塊5滑動至滑軌軌道4一端時，紅外線裝置7位于晶圓放置位2的一個邊緣。當滑動塊5滑動至滑軌軌道4的另一端時，紅外線裝置7位于晶圓放置位2的另一個邊緣。

圖2是本發(fā)明的控制電路框圖。如圖2所示，滑動塊5通過絲桿8與步進電機9相連接。單片機11通過變頻器10對步進電機9進行控制。單片機11之上還連接有儲存器12。紅外線發(fā)射儀71和紅外線接收儀72也均與單片機11相連接。步進電機9與絲桿8配合工作，可以對滑動塊5的位移距離進行精度很高的控制，有利于控制支撐架6嚴格按照坐標間隔移動。

本發(fā)明的工作方法為：

步驟1、將系統(tǒng)歸為初始位置，即使得滑動塊5滑動至滑軌軌道4的一端；紅外線裝置7位于晶圓放置位2的一個邊緣；

步驟2、將晶圓放置于晶圓放置位2；

步驟3、將晶圓分割為多個間距相等的測量等分，作為測量坐標；單片機11通過變頻器10對步進電機9進行控制，步進電機9每轉(zhuǎn)動一次，絲桿8控制滑動塊5移動一個測量坐標的位移距離；

步驟4、滑動塊5帶動支撐架6以及安裝在支撐架6的紅外線裝置7移動一個測量坐標的位移距離，單片機11控制紅外線發(fā)射儀71和紅外線接收儀72開始工作；

步驟5、紅外線接收儀72將此測量坐標的紅外接收數(shù)據(jù)傳至單片機，單片機對此紅外接收數(shù)據(jù)進行判斷，如果數(shù)據(jù)異常，則將此測量坐標儲存于儲存器12。

在進行之后的半導(dǎo)體制造流程時，需要先讀取儲存器12中的坐標數(shù)據(jù)，并在之后的制造過程中，跳過此坐標，即對此坐標處的晶圓不做任何處理，即有效避開了晶圓的破損處。

在特殊的情況下，如果通過判斷儲存器12中的數(shù)據(jù)，發(fā)現(xiàn)晶圓的破損處太大且無可挽回，也可以直接將晶圓丟棄，節(jié)省制造步驟，避免做無用功。

以上所述的僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，本發(fā)明不限于以上實施例?？梢岳斫?，本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和構(gòu)思的前提下直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的其他改進和變化，均應(yīng)認為包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。