1.一種激光晶化方法，用于晶化半導(dǎo)體薄膜，其特征在于，包括步驟:
預(yù)晶化所述薄膜，第一激光束以預(yù)設(shè)的間歇順序掃描所述薄膜；
再晶化所述薄膜，第二激光束連續(xù)掃描所述第一激光束掃描過的所述薄膜，其中所述第二激光束的掃描方向與所述第一激光束的掃描方向相同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光晶化方法，其特征在于，所述第一激光束為周期性的脈沖激光束。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光晶化方法，其特征在于，所述第一激光束為連續(xù)激光束，所述第一激光束在照射到所述薄膜前以所述預(yù)設(shè)的間歇被吸收。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光晶化方法，其特征在于，所述第二激光束的強度大于所述第一激光束的強度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光晶化方法，其特征在于，所述第一激光束的光源和所述第二激光束的光源為線光源，所述第一激光束的光源的長度和所述第二激光束的光源的長度相等。
6.一種激光晶化裝置，用于晶化半導(dǎo)體薄膜，其特征在于，包括激光器、光學(xué)系統(tǒng)和吸光板；所述激光器用于發(fā)出初始激光束；所述光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置于所述初始激光束的光路上，所述光學(xué)系統(tǒng)用于將所述初始激光束分為第一激光束和第二激光束，所述第一激光束順序掃描所述薄膜，所述第二激光束連續(xù)掃描所述第一激光束掃描過的所述薄膜，所述第二激光束的掃描方向與所述第一激光束的掃描方向相同；所述吸光板設(shè)置于所述第一激光束照射至所述薄膜的光路上，所述吸光板能夠以預(yù)設(shè)的間歇吸收所述第一激光束。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光晶化裝置，其特征在于，所述光學(xué)系統(tǒng)包括分束鏡和反射鏡；
所述分束鏡設(shè)置于所述初始激光束的光路上，所述初始激光束斜入射至所述分束鏡上，所述分束鏡能夠?qū)⑺龀跏技す馐譃橥干涔夂头瓷涔?，所述反射光是所述第一激光束，所述透射光是所述第二激光束?/p>
所述反射鏡設(shè)置于所述第一激光束的光路上，所述第一激光束斜入射至所述反射鏡上，被所述反射鏡反射的所述第一激光束照射至所述薄膜上；
所述吸光板設(shè)置于所述第一激光束被所述反射鏡反射的光路上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光晶化裝置，其特征在于，所述分束鏡的透射率大于所述分束鏡的反射率。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光晶化裝置，其特征在于，所述初始激光束的光源為線光源，所述分束鏡、反射鏡和吸光板的長度大于或等于所述線光源的長度，所述分束鏡、反射鏡和吸光板的長度方向與所述線光源的長度方向平行。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光晶化裝置，其特征在于，所述分束鏡與所述反射鏡平行。