本發(fā)明涉及晶體硅太陽(yáng)能電池加工設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種晶體硅太陽(yáng)能電池加工的去磷硅玻璃加工生產(chǎn)線(xiàn)。

背景技術(shù)：

隨著太陽(yáng)能電池生產(chǎn)技術(shù)的不斷提升，對(duì)于太陽(yáng)能電池產(chǎn)品的質(zhì)量以及成本提出了新的要求。太陽(yáng)能電池生產(chǎn)必須去除磷硅玻璃，原因如下：由于陽(yáng)能電池片生產(chǎn)制造過(guò)程中的擴(kuò)散過(guò)程中，即使采用背靠背擴(kuò)散，硅片的所有表面包括邊緣都將不可避免地?cái)U(kuò)散上磷。P-N結(jié)的正面所收集到的光生電子會(huì)沿著邊緣擴(kuò)散有磷的區(qū)域流到P-N結(jié)的背面，而造成短路。

太陽(yáng)能電池片生產(chǎn)制造過(guò)程中通常在磷擴(kuò)散處理后進(jìn)行去除磷硅玻璃處理，通過(guò)化學(xué)腐蝕法即把硅片放在氫氟酸溶液中浸泡，使其產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成可溶性的絡(luò)和物六氟硅酸，以去除擴(kuò)散制結(jié)后在硅片表面形成的一層磷硅玻璃?，F(xiàn)有技術(shù)中去除磷硅玻璃裝置通常包括池體和進(jìn)料帶和出料帶，進(jìn)料帶和出料帶呈間隔均勻的水平設(shè)置在池體兩端，通過(guò)在池體內(nèi)設(shè)置帶有凸環(huán)的輸送輥輸送硅片向前移動(dòng)，然而由于氫氟酸具有極其的揮發(fā)性，其在池體內(nèi)容易產(chǎn)生酸霧，而傳統(tǒng)裝置中無(wú)法做到硅片N極與酸霧隔離，因此硅片在行進(jìn)過(guò)程中，酸霧極容易破壞N極上的P-N結(jié)，現(xiàn)有輸送輥的結(jié)構(gòu)不夠合理，其在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，硅片容易發(fā)生振動(dòng)，而且容易將氫氟酸濺起而造成對(duì)N極的破壞，影響產(chǎn)品質(zhì)量。而且傳統(tǒng)裝置利用進(jìn)料帶和出料帶用于向池體輸送和排出，其不具備上片裝置和收集裝置，無(wú)法進(jìn)行布片和收集，使用極為不便。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的就是解決現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題，提出一種晶體硅太陽(yáng)能電池加工的去磷硅玻璃加工生產(chǎn)線(xiàn)，能夠?qū)崿F(xiàn)均勻布片以及收集，并在去磷硅玻璃加工過(guò)程中隔絕硅片N極，避免酸霧對(duì)其造成腐蝕，改進(jìn)輸送輥結(jié)構(gòu)，避免發(fā)生振動(dòng)和氫氟酸飛濺。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出了一種晶體硅太陽(yáng)能電池加工的去磷硅玻璃加工生產(chǎn)線(xiàn)，包括設(shè)有進(jìn)料帶和出料帶的池體，所述進(jìn)料帶和出料帶呈間隔均勻的水平設(shè)置在池體兩端，所述進(jìn)料帶一端設(shè)有均勻布片機(jī)構(gòu)，所述出料帶一端設(shè)有硅片收集機(jī)構(gòu)，所述池體上自進(jìn)料帶至出料帶方向設(shè)置具有容納腔的腐蝕池和清洗池，所述腐蝕池和清洗池中設(shè)有橫置在所述容納腔內(nèi)的若干輸送輥，所述輸送輥由同步帶傳動(dòng)連接在一起并與驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連接，所述輸送輥上設(shè)有沿其軸身分布的螺旋，所述腐蝕池內(nèi)設(shè)有位于輸送輥上方的滴水管，所述滴水管上開(kāi)設(shè)有出水孔，所述腐蝕池上方蓋設(shè)有可開(kāi)啟的封閉蓋，所述清洗池中設(shè)有位于其輸送輥上下兩方的若干對(duì)沖洗管，每對(duì)沖洗管上設(shè)置對(duì)稱(chēng)的沖洗口，所述清洗池內(nèi)設(shè)有位于出料帶一側(cè)的烘干機(jī)構(gòu)，所述腐蝕池一側(cè)設(shè)有清水箱，所述清水箱經(jīng)輸送泵與滴水管連接，所述清洗池具有出水口，所述出水口經(jīng)循環(huán)水泵與所述沖洗管連接。

作為優(yōu)選，所述均勻布片機(jī)構(gòu)包括機(jī)架以及設(shè)置在機(jī)架上的送片帶和一對(duì)上片架，所述上片架內(nèi)設(shè)有頂片氣缸，該對(duì)上片架位于送片帶的一側(cè)，所述該對(duì)上片架之間設(shè)有與所述送片帶垂直設(shè)置的支撐架，所述支撐架上設(shè)有可沿支撐架長(zhǎng)度方向滑動(dòng)的提片架，所述提片架兩端均設(shè)有吸片盤(pán)，所述送片帶頂端間隔均勻的設(shè)有若干平行排列的布片輸送帶，所述布片輸送帶與進(jìn)料帶對(duì)接，所述布片輸送帶與送片帶垂直設(shè)置，相鄰兩個(gè)布片輸送帶之間設(shè)有運(yùn)片輸送帶，所述運(yùn)片輸送帶與送片帶位于同一直線(xiàn)上，所述布片輸送帶固定在機(jī)架上，所述運(yùn)片輸送帶固定在位于布片輸送帶下方的支架上，所述支架可升降的固定在機(jī)架上。

作為優(yōu)選，所述支撐架上設(shè)有驅(qū)動(dòng)電機(jī)以及與驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接的傳動(dòng)鏈，所述傳動(dòng)鏈張緊在支撐架上，所述提片架固定在傳動(dòng)鏈上，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)可驅(qū)動(dòng)所述提片架在送片帶和上片架之間往復(fù)移動(dòng)。

作為優(yōu)選，所述輸送輥的頂部與進(jìn)料帶及出料帶的作用面位于同一直線(xiàn)上，所述腐蝕池和清洗池上分別設(shè)有用于與進(jìn)料帶和出料帶連接的對(duì)接口，所述進(jìn)料帶和出料帶安裝在所述對(duì)接口上。

作為優(yōu)選，所述硅片收集機(jī)構(gòu)包括若干平行排列且間隔均勻的硅片收集輸送帶，所述硅片收集輸送帶與出料帶對(duì)接，所述硅片收集輸送帶經(jīng)轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶連接在一起，所述硅片收集輸送帶與轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶垂直設(shè)置，所述轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶頂部設(shè)有與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接呈可升降設(shè)置的升降架，所述升降架上設(shè)有收集盒，所述收集盒側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有若干層成對(duì)分布的容置槽，所述升降架一側(cè)設(shè)有與升降架最低行程處平行的收集盒送料帶，所述升降架另一側(cè)設(shè)有與升降架最高行程處平行的收集盒輸送帶，所述硅片收集輸送帶中心設(shè)有與轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶位于同一中心線(xiàn)的換向輸送輪，所述硅片收集輸送帶固定在第二機(jī)架上，所述硅片收集輸送帶和換向輸送輪固定在位于硅片收集輸送帶下方的第二支架上，所述第二支架可升降的固定在第二機(jī)架上。

作為優(yōu)選，所述轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶包括若干段可由電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)運(yùn)帶，所述轉(zhuǎn)運(yùn)帶位于相鄰兩個(gè)硅片收集輸送帶之間且呈一直線(xiàn)排列，所述轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶一側(cè)設(shè)有從硅片收集輸送帶的頂面伸出的限位板，所述限位板固定在第二支架上。

作為優(yōu)選，所述機(jī)架上設(shè)有液壓氣缸，所述液壓氣缸的活塞桿與支架連接，所述液壓氣缸可驅(qū)動(dòng)所述支架上升，以致轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶的作用面高于硅片收集輸送帶的作用面。

作為優(yōu)選，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在升降架上的齒條以及安裝在機(jī)架上的齒輪，所述升降架滑動(dòng)安裝在第二機(jī)架上，所述齒條與由步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)的齒輪嚙合連接。

作為優(yōu)選，所述升降架頂部設(shè)有推盒座，所述推盒座滑動(dòng)安裝在升降架上并與推盒氣缸連接，所述推盒氣缸可驅(qū)動(dòng)所述推盒座向收集盒輸送帶移動(dòng)。

作為優(yōu)選，所述烘干機(jī)構(gòu)包括罩設(shè)在輸送輥上方的罩體以及設(shè)置在所述罩體內(nèi)的加熱絲，所述罩體與固定在清洗池一側(cè)的送風(fēng)機(jī)連接。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明利用均勻布片機(jī)構(gòu)將經(jīng)磷擴(kuò)散處理后的硅片均勻分布至進(jìn)料帶，采用硅片收集機(jī)構(gòu)收集從出料帶中送出的硅片，硅片由進(jìn)料帶首先送入池體的腐蝕池內(nèi)并位于輸送輥上，通過(guò)輸送輥的轉(zhuǎn)動(dòng)使其向清洗池移動(dòng)，利用滴水管向硅片的N極滴入一層清水，使得N極封閉，避免其與酸霧直接接觸，當(dāng)酸霧溶解與該層清水后也極大的降低了其濃度，使其無(wú)法對(duì)N極造成腐蝕，通過(guò)在輸送輥上設(shè)置螺旋，使得硅片輸送更加平穩(wěn)，而且在輸送輥轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，避免向心力而帶起氫氟酸，造成飛濺，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)均勻布片以及收集，并且避免酸霧對(duì)其造成腐蝕，改進(jìn)輸送輥結(jié)構(gòu)，避免發(fā)生振動(dòng)和氫氟酸飛濺，提高了產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

本發(fā)明的特征及優(yōu)點(diǎn)將通過(guò)實(shí)施例結(jié)合附圖進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

【附圖說(shuō)明】

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1中E部分的F向視角的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是圖1中B部分的D向視角的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是圖1中A部分的C向視角的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是本發(fā)明中池體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6是本發(fā)明中滴水管的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7是本發(fā)明中沖洗管的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8是本發(fā)明中輸送輥的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1-池體、2-進(jìn)料帶、3-出料帶、4-腐蝕池、5-清洗池、6-輸送輥、7-螺旋、8-驅(qū)動(dòng)馬達(dá)、9-滴水管、10-出水孔、11-封閉蓋、12-沖洗管、13-沖洗口、14-對(duì)接口、15-清水箱、16-出水口、17-循環(huán)水泵、18-罩體、19-加熱絲、20-送風(fēng)機(jī)、21-同步帶、31-機(jī)架、32-送片帶、33-上片架、34-支撐架、35-提片架、36-吸片盤(pán)、37-布片輸送帶、38-運(yùn)片輸送帶、39-支架、314-驅(qū)動(dòng)電機(jī)、315-傳動(dòng)鏈、316-頂片氣缸、41-硅片收集輸送帶、42-轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶、43-升降架、44-收集盒、45-容置槽、46-收集盒送料帶、47-收集盒輸送帶、48-換向輸送輪、49-第二機(jī)架、410-第二支架、411-電機(jī)、412-轉(zhuǎn)運(yùn)帶、413-限位板、414-液壓氣缸、415-齒條、416-齒輪、417-步進(jìn)電機(jī)、418-推盒座、419-推盒氣缸。

【具體實(shí)施方式】

參閱圖1至圖8，本發(fā)明包括設(shè)有進(jìn)料帶2和出料帶3的池體1，進(jìn)料帶2和出料帶3均為雙排式，所述進(jìn)料帶2和出料帶3呈間隔均勻的水平設(shè)置在池體1兩端，所述進(jìn)料帶一端設(shè)有均勻布片機(jī)構(gòu)，所述出料帶一端設(shè)有硅片收集機(jī)構(gòu)，所述池體1上自進(jìn)料帶2至出料帶3方向設(shè)置具有容納腔的腐蝕池4和清洗池5，所述腐蝕池4和清洗池5中設(shè)有橫置在所述容納腔內(nèi)的若干輸送輥6，所述輸送輥6由同步帶21傳動(dòng)連接在一起并與驅(qū)動(dòng)馬達(dá)8連接，所述輸送輥6上設(shè)有沿其軸身分布的螺旋7，所述腐蝕池4內(nèi)設(shè)有位于輸送輥6上方的滴水管9，所述滴水管9上開(kāi)設(shè)有出水孔10，所述腐蝕池4上方蓋設(shè)有可開(kāi)啟的封閉蓋11，所述清洗池5中設(shè)有位于其輸送輥6上下兩方的若干對(duì)沖洗管12，每對(duì)沖洗管12上設(shè)置對(duì)稱(chēng)的沖洗口13，所述清洗池5內(nèi)設(shè)有位于出料帶3一側(cè)的烘干機(jī)構(gòu)，所述腐蝕池4一側(cè)設(shè)有清水箱15，所述清水箱15經(jīng)輸送泵15與滴水管9連接，所述清洗池5具有出水口16，所述出水口16經(jīng)循環(huán)水泵17與所述沖洗管12連接。采用上述方案后，利用均勻布片機(jī)構(gòu)將經(jīng)磷擴(kuò)散處理后的硅片均勻分布至進(jìn)料帶2，由進(jìn)料2將硅片送至池體1內(nèi)加工處理，采用硅片收集機(jī)構(gòu)收集從出料帶3中送出的硅片，該硅片由進(jìn)料帶2首先送入池體1的腐蝕池4內(nèi)并位于輸送輥6上，腐蝕池4的容納腔中盛放氫氟酸溶液，P-N結(jié)的背面(即P-type)浸泡在氫氟酸溶液中，利用輸送泵15將清水箱15內(nèi)的清水由滴水管9的出水孔10向硅片的N極(即N-type)滴入一層清水，使得N極封閉，避免其與酸霧直接接觸，當(dāng)酸霧溶解與該層清水后也極大的降低了其濃度，使其無(wú)法對(duì)N極造成腐蝕，通過(guò)輸送輥6的轉(zhuǎn)動(dòng)使硅片向清洗池5逐漸移動(dòng)，通過(guò)在輸送輥6上設(shè)置螺旋7，使得硅片輸送更加平穩(wěn)，而且在輸送輥6轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，避免向心力而帶起氫氟酸，造成飛濺，當(dāng)硅片進(jìn)入清洗池5后，利用循環(huán)水泵17循環(huán)輸送清洗池5內(nèi)的清洗水由沖洗管12對(duì)硅片的正反兩面進(jìn)行沖洗，最后經(jīng)烘干機(jī)構(gòu)干燥后，由出料帶3將其從池體1中送出后硅片收集機(jī)構(gòu)處理。

具體的，所述均勻布片機(jī)構(gòu)包括機(jī)架31以及設(shè)置在機(jī)架31上的送片帶32和一對(duì)上片架33，所述上片架33內(nèi)設(shè)有頂片氣缸316，該對(duì)上片架33位于送片帶32的一側(cè)，所述該對(duì)上片架33之間設(shè)有與所述送片帶32垂直設(shè)置的支撐架34，所述支撐架34上設(shè)有可沿支撐架34長(zhǎng)度方向滑動(dòng)的提片架35，所述提片架35兩端均設(shè)有吸片盤(pán)36，所述送片帶32頂端間隔均勻的設(shè)有若干平行排列的布片輸送帶37，所述布片輸送帶37與進(jìn)料帶2對(duì)接，所述布片輸送帶37與送片帶32垂直設(shè)置，相鄰兩個(gè)布片輸送帶37之間設(shè)有運(yùn)片輸送帶38，所述運(yùn)片輸送帶38與送片帶32位于同一直線(xiàn)上，所述布片輸送帶37固定在機(jī)架31上，所述運(yùn)片輸送帶38固定在位于布片輸送帶37下方的支架39上，所述支架39經(jīng)升降組件呈可升降的固定在機(jī)架31上。通過(guò)位于提片架35兩端的吸料盤(pán)6向兩個(gè)上料架3中吸起兩片硅片，利用提片架35沿支撐架4移動(dòng)至送片帶32上方后，將硅片投放至送片帶32上，改變傳統(tǒng)單硅片提起，通過(guò)送片帶32的傳動(dòng)將硅片輸送至布片輸送帶37上，由于布片輸送帶37間隔均勻的排列使得硅片達(dá)到整齊排列，在硅片由送片帶32至布片輸送帶37的輸送過(guò)程中利用運(yùn)片輸送帶38過(guò)渡，通過(guò)將運(yùn)片輸送帶38可升降的設(shè)置，當(dāng)硅片輸送至最遠(yuǎn)離送片帶32的布片輸送帶37后，位于該布片輸送帶37一側(cè)的運(yùn)片輸送帶38下降，使得后繼的硅片無(wú)法輸送至該布片輸送帶37，從而保證每個(gè)布片輸送帶37只布置一片硅片，當(dāng)運(yùn)片輸送帶38下降后，其頂部低于布片輸送帶37的輸送面，使得布片輸送帶37輸送更加順利，避免運(yùn)片輸送帶38對(duì)其造成干擾。

具體的，所述支撐架34上設(shè)有驅(qū)動(dòng)電機(jī)314以及與驅(qū)動(dòng)電機(jī)314連接的傳動(dòng)鏈315，所述傳動(dòng)鏈315張緊在支撐架34上，所述提片架35固定在傳動(dòng)鏈315上，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)314可驅(qū)動(dòng)所述提片架35在送片帶32和上片架33之間往復(fù)移動(dòng)。具有驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)合理的優(yōu)點(diǎn)，通過(guò)由驅(qū)動(dòng)電機(jī)314位于傳動(dòng)鏈315提供動(dòng)力，使得提片架35沿支撐架34長(zhǎng)度方向滑動(dòng)，從而將硅片從上片架33提取至送片帶32上。

具體的，所述輸送輥6的頂部與進(jìn)料帶2及出料帶3的作用面位于同一直線(xiàn)上，所述腐蝕池4和清洗池5上分別設(shè)有用于與進(jìn)料帶2和出料帶3連接的對(duì)接口14，所述進(jìn)料帶2和出料帶3安裝在所述對(duì)接口14上。使得硅片在輸送輥6、進(jìn)料帶2及出料帶3之間輸送時(shí)更加平穩(wěn)，同時(shí)也能夠保證硅片的P-type浸泡在氫氟酸溶液中。

具體的，所述硅片收集機(jī)構(gòu)包括若干平行排列且間隔均勻的硅片收集輸送帶41，所述硅片收集輸送帶41與出料帶3對(duì)接，所述硅片收集輸送帶41經(jīng)轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42連接在一起，所述硅片收集輸送帶41與轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42垂直設(shè)置，所述轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶2頂部設(shè)有與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接呈可升降設(shè)置的升降架43，所述升降架43上設(shè)有收集盒44，所述收集盒44側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有若干層成對(duì)分布的容置槽45，所述升降架43一側(cè)設(shè)有與升降架43最低行程處平行的收集盒送料帶46，所述升降架43另一側(cè)設(shè)有與升降架43最高行程處平行的收集盒輸送帶47，所述硅片收集輸送帶41中心設(shè)有與轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42位于同一中心線(xiàn)的換向輸送輪48，所述硅片收集輸送帶41固定在第二機(jī)架49上，所述硅片收集輸送帶41和換向輸送輪48固定在位于硅片收集輸送帶41下方的第二支架410上，所述第二支架410可升降的固定在第二機(jī)架49上。通過(guò)將硅片收集輸送帶41與出料帶3連接后，可利用硅片收集輸送帶41將硅片運(yùn)出池體1外，然后利用換向輸送輪48調(diào)整輸送方向，將沿硅片收集輸送帶41長(zhǎng)度方向改變?yōu)榕c其垂直的轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42的長(zhǎng)度方向，并將硅片輸送至轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42上，然后利用轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42和換向輸送輪48的共同作用將呈列排列的硅片輸送至收集盒44內(nèi)，利用升降架43上升從而將收集盒44逐漸抬起，通過(guò)在收集盒44內(nèi)開(kāi)設(shè)容置槽45，使得硅片依次從上而下插滿(mǎn)容置槽45，完成硅片的間隔收集，當(dāng)收集盒44被插滿(mǎn)(即升降架43位于最高行程處時(shí))后由收集盒輸送帶47送出，收集盒送料帶46則可為升降架添加空的收集盒44用于收集。

具體的，所述轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42包括若干段可由電機(jī)411驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)運(yùn)帶412，所述轉(zhuǎn)運(yùn)帶412位于相鄰兩個(gè)硅片收集輸送帶41之間且呈一直線(xiàn)排列，所述轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42一側(cè)設(shè)有從硅片收集輸送帶41的頂面伸出的限位板413，所述限位板413固定在第二支架410上。利用該結(jié)構(gòu)后，能夠?qū)⒐杵诠杵占斔蛶?1輸送至換向輸送輪48后由限位板413限位，避免硅片繼續(xù)前行，從而造成難以換向的問(wèn)題。

具體的，所述機(jī)架49上設(shè)有液壓氣缸414，所述液壓氣缸414的活塞桿與支架410連接，所述液壓氣缸414可驅(qū)動(dòng)所述支架410上升，以致轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42的作用面高于硅片收集輸送帶41的作用面。由液壓氣缸414驅(qū)動(dòng)支架410上升，從而帶動(dòng)轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42上升，使其作用面高于硅片收集輸送帶41的作用面，在轉(zhuǎn)運(yùn)輸送帶42對(duì)硅片進(jìn)行輸送時(shí)，使硅片收集輸送帶41脫離，避免硅片收集輸送帶1對(duì)其造成干擾。

具體的，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在升降架43上的齒條415以及安裝在機(jī)架49上的齒輪416，所述升降架43滑動(dòng)安裝在第二機(jī)架49上，所述齒條415與由步進(jìn)電機(jī)417驅(qū)動(dòng)的齒輪416嚙合連接。該步進(jìn)電機(jī)417經(jīng)齒條415和齒輪416的結(jié)構(gòu)控制升降架43升降。

具體的，所述升降架43頂部設(shè)有推盒座418，所述推盒座418滑動(dòng)安裝在升降架43上并與推盒氣缸419連接，所述推盒氣缸419可驅(qū)動(dòng)所述推盒座418向收集盒輸送帶37移動(dòng)。利用推盒氣缸419的驅(qū)動(dòng)作用，使得已收集滿(mǎn)的收集盒44能夠順利進(jìn)入收集盒輸送帶47并送出。

具體的，所述烘干機(jī)構(gòu)包括罩設(shè)在輸送輥6上方的罩體18以及設(shè)置在所述罩體18內(nèi)的加熱絲19，所述罩體18與固定在清洗池5一側(cè)的送風(fēng)機(jī)20連接。由送風(fēng)機(jī)20向罩體18通入空氣并由加熱絲19加熱后，排往由輸送輥6輸送的硅片。

上述實(shí)施例是對(duì)本發(fā)明的說(shuō)明，不是對(duì)本發(fā)明的限定，任何對(duì)本發(fā)明簡(jiǎn)單變換后的方案均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。