技術(shù)特征：

1.一種半導(dǎo)體裝置的制造方法，其特征在于，包含：

提供一半導(dǎo)體基材；

形成一圖案化層在該半導(dǎo)體基材上，其中該圖案化層包含一感光性添加劑成分，該感光性添加劑成分包含一金屬陽離子，且形成該圖案化層的步驟還包含：

在該金屬陽離子及一或多個陰離子之間形成一或多個鍵，其中該一或多個陰離子的每一者為一保護基及一高分子鏈鍵結(jié)成分的一者，且該高分子鏈鍵結(jié)成分是與該圖案化層的一高分子鏈鍵結(jié)；以及

以一輻射對該半導(dǎo)體基材進行曝光。