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      一種有機(jī)超晶格銳鈦型鈦化氧化鎢薄膜紅外光敏材料的制備方法與流程

      文檔序號:12159823閱讀:692來源:國知局

      本發(fā)明屬于材料技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種有機(jī)超晶格銳鈦型鈦化氧化鎢薄膜紅外光敏材料的制備方法。



      背景技術(shù):

      在光電子應(yīng)用領(lǐng)域,三維花狀納米結(jié)構(gòu)材料相對一維納米線和二維納米片而言優(yōu)勢十分明顯,其高的比表面積有利于光子的吸收,其內(nèi)在的互穿網(wǎng)格結(jié)構(gòu)有利于光生載流子的輸運。二十多年來,人們通過納米技術(shù)已經(jīng)成功制備了許多半導(dǎo)體花狀納米晶,如氧化鐵納米雪花,氧化鋅納米丁香花,硫化鉛納米合歡花,氧化鈦納米茶花,氧化銅納米牡丹,硫化銅納米玫瑰,硫化鎳納米花,硫化鈷納米花等。但在納米光電器件應(yīng)用中,三維花狀納米結(jié)構(gòu)材料仍面臨著光生電子和空穴復(fù)合幾率高的問題。近年來研究發(fā)現(xiàn),超晶格納米結(jié)構(gòu)具有人們渴盼的量子限域效應(yīng),其特有的超晶格調(diào)制結(jié)構(gòu)相當(dāng)于異質(zhì)結(jié)界面,能夠有效地提高光生電子-空穴對的產(chǎn)率和分離效率,因此超晶格納米結(jié)構(gòu)被譽(yù)為“打開了納米研究和應(yīng)用的新篇章”。Yang研究組通過混合脈沖激光燒蝕-化學(xué)氣相沉積(PLA-CVD)技術(shù)制備了Si/SiGe超晶格,Lieber研究組也通過相似的方法制得了GaAs/GaP超晶格,而Samuelson研究組則通過化學(xué)束磊晶技術(shù)CBE獲得了InAs/InP超晶格。這些方法的共同特點都是通過氣體-液體-固體生長過程(VLS)實現(xiàn)摻雜原子在晶格中的均衡分布,該方法需要在反應(yīng)物氣化的條件下多次交替變換反應(yīng)物,工藝設(shè)備復(fù)雜,操作要求嚴(yán)格且大量耗能,很難實現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的是提供一種有機(jī)超晶格銳鈦型鈦化氧化鎢薄膜紅外光敏材料的制備方法,本發(fā)明制備方法簡單,解決了鈦化和氧化鎢薄膜材料的平整度和均勻性低、缺陷大、粗糙度高等問題。

      一種有機(jī)超晶格銳鈦型鈦化氧化鎢薄膜紅外光敏材料的制備方法,其步驟如下:

      步驟1,將鎢酸銨、氯化鎢放入至堿性溶液中,加入納米發(fā)泡劑,形成鎢鍍膜液;

      步驟2,將鈦酸正丁酯、穩(wěn)定劑、溶劑、酸化劑和滲透劑放入攪拌釜中,攪拌均勻即可得到二氧化鈦鍍膜液;

      步驟3,將無機(jī)改性劑與有機(jī)金屬改性劑作為材料,浸泡至乙醇水溶液,得到改性液;

      步驟4,將基底材料浸泡至鎢鍍膜液中,攪拌均勻后,在烘箱內(nèi)烘干,得到鎢膜;

      步驟5,將鎢膜浸泡至二氧化鈦鍍膜液中,然后快速冷卻,形成納米二氧化鈦前驅(qū)薄膜;

      步驟6,將步驟5中的薄膜基底材料進(jìn)行高溫?zé)Y(jié),形成納米二氧化鈦-氧化鎢薄膜;

      步驟7,將步驟6的薄膜浸泡至步驟3中乙醇水溶液中,多次微沸蒸煮,撈出后,快速固化;

      步驟8,步驟7中的薄膜材料退火處理得到產(chǎn)品。

      所述步驟1中的配方為鎢酸銨6-10份、氯化鎢1-3份、堿性溶液30-50份、納米發(fā)泡劑2-4份;所述堿性溶液采用氫氧化鈉溶液或者氫氧化鉀溶液,所述納米發(fā)泡劑采用納米碳酸氫鈉。

      所述步驟2中的配方為鈦酸正丁酯11-15份、穩(wěn)定劑3-5份、溶劑40-60份、酸化劑0.3-1.0份、滲透劑2-3份;所述穩(wěn)定劑采用乙酸丙酮,所述溶劑采用乙酸乙酯或異丙醇,所述酸化劑采用乙酸、鹽酸或硫酸中的一種,滲透劑采用脂肪醇聚氧乙烯醚。

      所述步驟3中的配方為無機(jī)改性劑1-3份、有機(jī)金屬改性劑3-5份、乙醇水溶液20-25份,所述乙醇水溶液中乙醇含量為50-70%;所述無機(jī)改性劑采用氧化硅或碳化硅,所述有機(jī)金屬改性劑采用丙烯基錫或異丙醇基鎳。

      所述步驟4中的浸泡時間為11-20min,所述烘箱烘干溫度為90-110℃,烘干時間為20-40min。

      所述步驟5中的快速冷卻采用風(fēng)冷技術(shù),所述快速冷卻的流速為5-15mL/min。

      所述步驟6中的高溫?zé)Y(jié)溫度為250-320℃,燒結(jié)時間為2-4h。

      所述步驟7中的浸泡時間為12-18min,微沸溫度為100-120℃,所述微沸次數(shù)為2-10次。

      所述步驟8中的退火處理為在20-35MPa壓力下加熱120-400℃。

      與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:

      1、本發(fā)明制備方法簡單,解決了鈦化和氧化鎢薄膜材料的平整度和均勻性低、缺陷大、粗糙度高等問題。

      2、本發(fā)明采用將改性劑微沸沉降在二氧化鈦材料表面,填補(bǔ)缺陷問題,能夠大大光電傳導(dǎo)性。

      3、本發(fā)明采用混合均勻的改性,有機(jī)無機(jī)混合均勻,能夠大大減少缺陷,大大降低了粗糙度,膜層更為均勻,平整性極佳。

      具體實施方式

      下面結(jié)合實施例對本發(fā)明做進(jìn)一步描述:

      實施例1

      一種有機(jī)超晶格銳鈦型鈦化氧化鎢薄膜紅外光敏材料的制備方法,其步驟如下:

      步驟1,將鎢酸銨、氯化鎢放入至堿性溶液中,加入納米發(fā)泡劑,形成鎢鍍膜液;

      步驟2,將鈦酸正丁酯、穩(wěn)定劑、溶劑、酸化劑和滲透劑放入攪拌釜中,攪拌均勻即可得到二氧化鈦鍍膜液;

      步驟3,將無機(jī)改性劑與有機(jī)金屬改性劑作為材料,浸泡至乙醇水溶液,得到改性液;

      步驟4,將基底材料浸泡至鎢鍍膜液中,攪拌均勻后,在烘箱內(nèi)烘干,得到鎢膜;

      步驟5,將鎢膜浸泡至二氧化鈦鍍膜液中,然后快速冷卻,形成納米二氧化鈦前驅(qū)薄膜;。

      所述步驟4中的浸泡時間為11min,所述烘箱烘干溫度為90℃,烘干時間為200min。

      所述步驟5中的快速冷卻采用風(fēng)冷技術(shù),所述快速冷卻的流速為5mL/min。

      所述步驟6中的高溫?zé)Y(jié)溫度為250℃,燒結(jié)時間為2h。

      所述步驟7中的浸泡時間為12min,微沸溫度為100℃,所述微沸次數(shù)為2次。

      所述步驟8中的退火處理為在20MPa壓力下加熱120℃。

      實施例2

      一種有機(jī)超晶格銳鈦型鈦化氧化鎢薄膜紅外光敏材料的制備方法,其步驟如下:

      步驟1,將鎢酸銨、氯化鎢放入至堿性溶液中,加入納米發(fā)泡劑,形成鎢鍍膜液;

      步驟2,將鈦酸正丁酯、穩(wěn)定劑、溶劑、酸化劑和滲透劑放入攪拌釜中,攪拌均勻即可得到二氧化鈦鍍膜液;

      步驟3,將無機(jī)改性劑與有機(jī)金屬改性劑作為材料,浸泡至乙醇水溶液,得到改性液;

      步驟4,將基底材料浸泡至鎢鍍膜液中,攪拌均勻后,在烘箱內(nèi)烘干,得到鎢膜;

      步驟5,將鎢膜浸泡至二氧化鈦鍍膜液中,然后快速冷卻,形成納米二氧化鈦前驅(qū)薄膜;

      步驟6,將步驟5中的薄膜基底材料進(jìn)行高溫?zé)Y(jié),形成納米二氧化鈦-氧化鎢薄膜;

      步驟7,將步驟6的薄膜浸泡至步驟3中乙醇水溶液中,多次微沸蒸煮,撈出后,快速固化;

      步驟8,步驟7中的薄膜材料退火處理得到產(chǎn)品。

      所述步驟1中的配方為鎢酸銨10份、氯化鎢3份、堿性溶液50份、納米發(fā)泡劑4份;所述堿性溶液采用氫氧化鉀溶液,所述納米發(fā)泡劑采用納米碳酸氫鈉。

      所述步驟2中的配方為鈦酸正丁酯15份、穩(wěn)定劑5份、溶劑60份、酸化劑1.0份、滲透劑3份;所述穩(wěn)定劑采用乙酸丙酮,所述溶劑采用異丙醇,所述酸化劑采用鹽酸,滲透劑采用脂肪醇聚氧乙烯醚。

      所述步驟3中的配方為無機(jī)改性劑3份、有機(jī)金屬改性劑5份、乙醇水溶液25份,所述乙醇水溶液中乙醇含量為70%;所述無機(jī)改性劑采用碳化硅,所述有機(jī)金屬改性劑采用異丙醇基鎳。

      所述步驟4中的浸泡時間為20min,所述烘箱烘干溫度為110℃,烘干時間為40min。

      所述步驟5中的快速冷卻采用風(fēng)冷技術(shù),所述快速冷卻的流速為15mL/min。

      所述步驟6中的高溫?zé)Y(jié)溫度為320℃,燒結(jié)時間為4h。

      所述步驟7中的浸泡時間為18min,微沸溫度為120℃,所述微沸次數(shù)為10次。

      所述步驟8中的退火處理為在35MPa壓力下加熱400℃。

      實施例3

      一種有機(jī)超晶格銳鈦型鈦化氧化鎢薄膜紅外光敏材料的制備方法,其步驟如下:

      步驟1,將鎢酸銨、氯化鎢放入至堿性溶液中,加入納米發(fā)泡劑,形成鎢鍍膜液;

      步驟2,將鈦酸正丁酯、穩(wěn)定劑、溶劑、酸化劑和滲透劑放入攪拌釜中,攪拌均勻即可得到二氧化鈦鍍膜液;

      步驟3,將無機(jī)改性劑與有機(jī)金屬改性劑作為材料,浸泡至乙醇水溶液,得到改性液;

      步驟4,將基底材料浸泡至鎢鍍膜液中,攪拌均勻后,在烘箱內(nèi)烘干,得到鎢膜;

      步驟5,將鎢膜浸泡至二氧化鈦鍍膜液中,然后快速冷卻,形成納米二氧化鈦前驅(qū)薄膜;

      步驟6,將步驟5中的薄膜基底材料進(jìn)行高溫?zé)Y(jié),形成納米二氧化鈦-氧化鎢薄膜;

      步驟7,將步驟6的薄膜浸泡至步驟3中乙醇水溶液中,多次微沸蒸煮,撈出后,快速固化;

      步驟8,步驟7中的薄膜材料退火處理得到產(chǎn)品。

      所述步驟1中的配方為鎢酸銨8份、氯化鎢2份、堿性溶液45份、納米發(fā)泡劑4份;所述堿性溶液采用氫氧化鈉溶液,所述納米發(fā)泡劑采用納米碳酸氫鈉。

      所述步驟2中的配方為鈦酸正丁酯13份、穩(wěn)定劑4份、溶劑55份、酸化劑0.9份、滲透劑3份;所述穩(wěn)定劑采用乙酸丙酮,所述溶劑采用異丙醇,所述酸化劑采用硫酸,滲透劑采用脂肪醇聚氧乙烯醚。

      所述步驟3中的配方為無機(jī)改性劑2份、有機(jī)金屬改性劑4份、乙醇水溶液24份,所述乙醇水溶液中乙醇含量為60%;所述無機(jī)改性劑采用氧化硅,所述有機(jī)金屬改性劑采用丙烯基錫。

      所述步驟4中的浸泡時間為15min,所述烘箱烘干溫度為100℃,烘干時間為35min。

      所述步驟5中的快速冷卻采用風(fēng)冷技術(shù),所述快速冷卻的流速為5-15mL/min。

      所述步驟6中的高溫?zé)Y(jié)溫度為290℃,燒結(jié)時間為4h。

      所述步驟7中的浸泡時間為16min,微沸溫度為110℃,所述微沸次數(shù)為8次。

      所述步驟8中的退火處理為在28MPa壓力下加熱320℃。

      以上所述僅為本發(fā)明的一實施例,并不限制本發(fā)明,凡采用等同替換或等效變換的方式所獲得的技術(shù)方案,均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。

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