1.一種激光退火設(shè)備，包括：
襯底支承單元，對襯底進行支承；
激光光束照射單元，將在第一方向上延伸的線激光光束照射至設(shè)置在所述襯底上的非晶硅層，所述襯底位于所述襯底支承單元上；
襯底移動單元，使所述襯底支承單元在與所述第一方向交叉的第二方向上移動；
第一光束切割件，布置在所述襯底支承單元和所述激光光束照射單元之間；以及
第二光束切割件，布置在所述襯底支承單元和所述激光光束照射單元之間，且與所述第一光束切割件間隔開，
其中，所述第一光束切割件和所述第二光束切割件進行移動以增大或減小所述襯底的遮蔽區(qū)域，以對照射至所述襯底的在所述非晶硅層之外的部分的所述線激光光束的至少一部分進行遮蔽，所述遮蔽區(qū)域是所述襯底的與所述第一光束切割件和所述第二光束切割件中的至少一個以及所述線激光光束重疊的區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的激光退火設(shè)備，其中，所述第一光束切割件和所述第二光束切割件在所述第一方向或與所述第一方向相反的方向上移動，以增大或減小所述襯底的所述遮蔽區(qū)域。
3.如權(quán)利要求2所述的激光退火設(shè)備，其中，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的部分減小或增大。
4.如權(quán)利要求3所述的激光退火設(shè)備，其中，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的部分減小或增大。
5.如權(quán)利要求4所述的激光退火設(shè)備，其中
當所述線激光光束照射至所述襯底的第一區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第一光束切割件在所述第一方向上移動，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分減小，
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第一區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第二光束切割件在與所述第一方向相反的方向上移動，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分減小，
當所述線激光光束照射至所述襯底的第二區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第一光束切割件在與所述第一方向相反的方向上移動，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分增大，
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第二區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第二光束切割件在與所述第一方向相反的方向上移動，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分減小，
當所述線激光光束照射至所述襯底的第三區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第一光束切割件在與所述第一方向相反的方向上移動，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分增大，以及
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第三區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第二光束切割件在所述第一方向上移動，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分增大。
6.如權(quán)利要求1所述的激光退火設(shè)備，其中，所述第一光束切割件和所述第二光束切割件關(guān)于與由所述第一方向和所述第二方向所限定的平面垂直的軸線順時針地或逆時針地旋轉(zhuǎn)，以增大或減小所述襯底的所述遮蔽區(qū)域。
7.如權(quán)利要求6所述的激光退火設(shè)備，其中，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的部分減小，并且然后增大。
8.如權(quán)利要求7所述的激光退火設(shè)備，其中，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的部分減小，并且然后增大。
9.如權(quán)利要求8所述的激光退火設(shè)備，其中
當所述線激光光束照射至所述襯底的第一區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第一光束切割件順時針地旋轉(zhuǎn)，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分減小，
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第一區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第二光束切割件順時針地旋轉(zhuǎn)，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分減小，
當所述線激光光束照射至所述襯底的第二區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第一光束切割件逆時針地旋轉(zhuǎn)，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分增大，
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第二區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第二光束切割件順時針地旋轉(zhuǎn)，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分減小，
當所述線激光光束照射至所述襯底的第三區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第一光束切割件逆時針地旋轉(zhuǎn)，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分增大，以及
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第三區(qū)段時，隨著所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，所述第二光束切割件逆時針地旋轉(zhuǎn)，以使得所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分增大。
10.如權(quán)利要求1所述的激光退火設(shè)備，其中
所述第一光束切割件和所述第二光束切割件中的一個關(guān)于與由所述第一方向和所述第二方向所限定的平面垂直的軸線順時針地或逆時針地旋轉(zhuǎn)，以增大或減小所述襯底的所述遮蔽區(qū)域，以及
所述第一光束切割件和所述第二光束切割件中的另一個在所述第一方向上或在與所述第一方向相反的方向上移動，以增大或減小所述襯底的所述遮蔽區(qū)域。
11.如權(quán)利要求1所述的激光退火設(shè)備，還包括：
腔室，所述激光光束照射單元布置在所述腔室之外，
其中，所述襯底支承單元布置在所述腔室中，
所述線激光光束從所述激光光束照射單元穿過所述腔室的窗口照射至布置在所述襯底支承單元上的所述襯底，以及
所述第一光束切割件和所述第二光束切割件布置在所述腔室中。
12.如權(quán)利要求1所述的激光退火設(shè)備，其中
所述襯底移動單元使所述襯底支承單元關(guān)于與由所述第一方向和所述第二方向所限定的平面垂直的軸線以一方式進行旋轉(zhuǎn)，以使得布置在所述襯底支承單元上的所述襯底的一側(cè)與所述第二方向形成小于90度的角度，以及
在所述襯底支承單元旋轉(zhuǎn)時，所述襯底移動單元使所述襯底支承單元在所述第二方向上移動，在所述襯底支承單元上布置有所述襯底，所述襯底包括設(shè)置于其上的所述非晶硅層。
13.制造顯示設(shè)備的方法，所述方法包括：
將非晶硅層設(shè)置在襯底上；以及
將在第一方向上延伸的線激光光束從激光光束照射單元照射至所述襯底上的所述非晶硅層上，以將所述非晶硅層轉(zhuǎn)化成多晶硅層，
其中，當其上設(shè)置有所述非晶硅層的所述襯底關(guān)于與由所述第一方向和與所述第一方向交叉的第二方向所限定的平面垂直的軸線以一方式進行旋轉(zhuǎn)以使得所述襯底的一側(cè)相對于所述第二方向形成小于90度的角度時，以及當所述襯底在所述第二方向上移動時，所述線激光光束進行多次照射，
其中，照射所述線激光光束包括：
使所述襯底在所述第二方向上移動；以及
隨著所述襯底在所述第二方向上移動，增大或減小遮蔽區(qū)域，所述遮蔽區(qū)域是所述襯底的對所述線激光光束進行遮蔽的區(qū)域。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，照射所述線激光光束還包括在所述非晶硅層和所述激光光束照射單元之間設(shè)置第一光束切割件和第二光束切割件，其中，所述第一光束切割件和所述第二光束切割件中的每個布置成與所述線激光光束的至少一部分重疊，以及
其中，增大或減小所述遮蔽區(qū)域包括，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件在所述第一方向上或在與所述第一方向相反的方向上移動，以增大或減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的部分。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，照射所述線激光光束還包括，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件在所述第一方向上或在與所述第一方向相反的方向上移動，以增大或減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的部分。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中
使所述第一光束切割件在所述第一方向上或在與所述第一方向相反的方向上移動包括：
當所述線激光光束照射至所述襯底的第一區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件在所述第一方向上移動，以減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；
當所述線激光光束照射至所述襯底的第二區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件在與所述第一方向相反的方向上移動，以增大所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；以及
當所述線激光光束照射至所述襯底的第三區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件在與所述第一方向相反的方向上移動，以增大所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；以及
使所述第二光束切割件在所述第一方向上或在與所述第一方向相反的方向上移動包括：
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第一區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件在與所述第一方向相反的方向上移動，以減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第二區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件在與所述第一方向相反的方向上移動，以減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；以及
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第三區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件在所述第一方向上移動，以增大所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分。
17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中
所述非晶硅層布置在腔室中，
所述線激光光束穿過所述腔室的窗口照射至所述非晶硅層，以及
所述第一光束切割件和所述第二光束切割件布置在所述腔室中。
18.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，照射所述線激光光束還包括在所述非晶硅層和所述激光光束照射單元之間設(shè)置第一光束切割件和第二光束切割件，其中，所述第一光束切割件和所述第二光束切割件中的每個布置成與所述線激光光束的至少一部分重疊，以及
其中，增大或減小所述遮蔽區(qū)域包括，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件關(guān)于與由所述第一方向和所述第二方向所限定的平面垂直的軸線順時針地或逆時針地旋轉(zhuǎn)，以增大或減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的部分。
19.如權(quán)利要求18所述的方法，其中，照射所述線激光光束還包括，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件關(guān)于與由所述第一方向和所述第二方向所限定的平面垂直的軸線順時針地或逆時針地旋轉(zhuǎn)，以增大或減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的部分。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其中
使所述第一光束切割件順時針地或逆時針地旋轉(zhuǎn)包括：
當所述線激光光束照射至所述襯底的第一區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件順時針地旋轉(zhuǎn)，以減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；
當所述線激光光束照射至所述襯底的第二區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件逆時針地旋轉(zhuǎn)，以增大所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；以及
當所述線激光光束照射至所述襯底的第三區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件逆時針地旋轉(zhuǎn)，以增大所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分，以及
使所述第二光束切割件順時針地或逆時針地旋轉(zhuǎn)包括：
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第一區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件順時針地旋轉(zhuǎn)，以減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第二區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件順時針地旋轉(zhuǎn)，以減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分；以及
當所述線激光光束照射至所述襯底的所述第三區(qū)段時，隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件逆時針地旋轉(zhuǎn)，以增大所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的所述部分。
21.如權(quán)利要求19所述的方法，其中
所述非晶硅層布置在腔室中，
所述線激光光束穿過所述腔室的窗口照射至所述非晶硅層，以及
所述第一光束切割件和所述第二光束切割件布置在所述腔室中。
22.如權(quán)利要求13所述的方法，其中照射所述線激光光束還包括在所述非晶硅層和所述激光光束照射單元之間設(shè)置第一光束切割件和第二光束切割件，其中，所述第一光束切割件和所述第二光束切割件中的每個布置成與所述線激光光束的至少一部分重疊，以及
其中，增大或減小所述遮蔽區(qū)域包括：
隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第一光束切割件關(guān)于與由所述第一方向和所述第二方向所限定的平面垂直的軸線順時針地或逆時針地旋轉(zhuǎn)，以增大或減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第一光束切割件和所述線激光光束重疊的部分；以及
隨著所述襯底在所述第二方向上移動，使所述第二光束切割件在所述第一方向上或在與所述第一方向相反的所述方向上移動，以增大或減小所述遮蔽區(qū)域的與所述第二光束切割件和所述線激光光束重疊的部分。
23.如權(quán)利要求22所述的方法，其中
所述非晶硅層布置在腔室中，
所述線激光光束穿過所述腔室的窗口照射至所述非晶硅層，以及
所述第一光束切割件和所述第二光束切割件布置在所述腔室中。