本發(fā)明涉及斯格明子的調(diào)控方法,具體涉及一種六角MnNiGa中的斯格明子的調(diào)控方法。
背景技術(shù):
磁性斯格明子(Skyrmion)是一種具有拓?fù)湫袨榈拇沤Y(jié)構(gòu)。其具有粒子特性,且尺寸為納米量級(10-100納米)。磁性斯格明子的自旋排列使得驅(qū)動斯格明子狀態(tài)改變的電流密度比驅(qū)動傳統(tǒng)磁疇低5-6個量級,因此有望應(yīng)用于高密度、高速度、低能耗磁信息存儲器件中。
目前利用洛倫茲透射電鏡在非中心對稱結(jié)構(gòu)材料體系中直接觀察到了斯格明子的形成。雖然這些材料中可形成高密度的斯格明子點陣,但是需要持續(xù)的磁場來使其穩(wěn)定存在,而且這些材料的居里溫度低于室溫,且斯格明子成相溫區(qū)較窄(僅在居里溫度附近幾K的范圍內(nèi)穩(wěn)定存在)。
在中心對稱La1.4Sr1.6Mn2O7材料體系中,觀察到的一種拓?fù)鋽?shù)為2的斯格明子點陣,但是仍需要在70K的低溫下穩(wěn)定存在且溫區(qū)較窄。
我們發(fā)現(xiàn)在MnNiGa材料體系中能形成拓?fù)鋽?shù)為2的斯格明子,雖然其在100K-340K較寬溫區(qū)都存在,但在遠(yuǎn)離居里溫度(例如在室溫時)密度很低,無法實現(xiàn)高密度存儲。而且當(dāng)磁場撤銷時,所形成的斯格明子會消失,不具有零場穩(wěn)定性。
因此,目前需要一種調(diào)控方法使得形成的斯格明子能用于非易失性的高密度磁存儲器件中。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述技術(shù)問題,本發(fā)明的實施例提供了一種六角MnNiGa中的斯格明子的調(diào)控方法,包括如下步驟:
1)對六角MnNiGa施加磁場,其中所述磁場不足以使得所述六角MnNiGa中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?,所述磁場的方向不平行所述六角MnNiGa的{001}晶面族;
2)對所述六角MnNiGa施加電流或/和加熱使其條狀磁疇消失。
優(yōu)選的,還包括步驟3):將所述電流降低為零或/和將所述六角MnNiGa的溫度降低為室溫。
優(yōu)選的,還包括步驟4):將所述磁場撤銷。
優(yōu)選的,所述磁場垂直于所述六角MnNiGa的{001}晶面族。
優(yōu)選的,所述磁場的磁感應(yīng)強(qiáng)度為5mT-110mT。更優(yōu)選的,所述磁場的磁感應(yīng)強(qiáng)度為30mT-80mT。
優(yōu)選的,在所述步驟2)中,所述電流的面內(nèi)電流密度至少為8.4×107A/m2。
優(yōu)選的,在所述步驟2)中,所述六角MnNiGa的溫度為室溫。
優(yōu)選的,在所述步驟2)中,將所述六角MnNiGa加熱至350K-380K。
本發(fā)明的調(diào)控方法能有效調(diào)控六角MnNiGa材料體系中的斯格明子密度,并形成了高密度的斯格明子陣列,且高密度的斯格明子在零場和寬溫域室溫下都能穩(wěn)定存在。
附圖說明
以下參照附圖對本發(fā)明實施例作進(jìn)一步說明,其中:
圖1是根據(jù)本發(fā)明的第1個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖2是根據(jù)本發(fā)明的第2個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖3是根據(jù)本發(fā)明的第3個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖4是根據(jù)本發(fā)明的第4個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖5是根據(jù)本發(fā)明的第5個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖6是根據(jù)本發(fā)明的第6個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖7是根據(jù)本發(fā)明的第7個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖8是根據(jù)本發(fā)明的第8個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖9-11是根據(jù)本發(fā)明的第9個實施例形成的斯格明子分別在330K、298K和100K下的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖12是圖10中的斯格明子在磁場撤銷時的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖13是根據(jù)本發(fā)明的第10個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
圖14是根據(jù)本發(fā)明的第11個實施例形成的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。
具體實施方式
為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白,以下結(jié)合附圖通過具體實施例對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。
當(dāng)(Mn100-δNiδ)αGaβ材料體系中的原子百分比α、β和δ滿足:60≤α≤70,30≤β≤40,0<δ≤50,α+β=100時,所制備的MnNiGa為六角晶系結(jié)構(gòu),其空間群為P63/mmc。申請人研究發(fā)現(xiàn)六角MnNiGa在居里溫度以上并不是急速轉(zhuǎn)變?yōu)闊o序的順磁相,而是存在一個由長周期的鐵磁疇向短程有序的鐵磁團(tuán)簇逐漸過渡的過程,再進(jìn)一步升溫才會進(jìn)入長程無序的順磁態(tài)。其自旋磁共振圖譜表明鐵磁團(tuán)簇在350K-380K范圍內(nèi)隨溫度升高逐漸變小,在這個溫度區(qū)間控制外加磁場的大小就能控制斯格明子相的形成及分布。在{001}晶面族方向的外加磁場提供的各向異性場與一定尺寸的鐵磁團(tuán)簇本身的磁相互作用,有助于該晶面上形成斯格明子相。進(jìn)一步研究發(fā)現(xiàn),只有在最佳磁場條件下才能得到最高密度的斯格明子相,小于或大于該最佳磁場,都會有stripe相與斯格明子相的共存,從而使得斯格明子密度降低。因此通過外磁場作用調(diào)控微觀磁化狀態(tài),從而達(dá)到優(yōu)化斯格明子相的形核。而面內(nèi)電流作用下的調(diào)控也是微觀磁化狀態(tài),電場和磁場同時作用在該材料體系,產(chǎn)生感生磁電相互作用以及自旋轉(zhuǎn)移力矩效應(yīng)等使得微區(qū)磁化狀態(tài)發(fā)生改變,最終影響和控制磁疇微區(qū)的斯格明子的形核。
基于上述機(jī)理,申請人提出了一種斯格明子調(diào)控方法。
實施例1
1)制備(Mn50Ni50)65Ga35樣品:將(Mn50Ni50)65Ga35樣品塊切割成3毫米×2毫米的長方形片狀。為了便于在透射電鏡下直接觀察納米尺寸的斯格明子,通過砂紙、凹坑儀和拋光儀等對樣品觀察區(qū)域進(jìn)行打磨,再用離子減薄儀進(jìn)行減薄,使得樣品觀察區(qū)域的厚度小于100納米。將觀察區(qū)域減薄后的樣品安裝在電場桿上并插入透射電鏡中。其中可通過keithley電流表給樣品施加電流,并利用透射電鏡的物鏡電流產(chǎn)生所需的磁場,通過透射電鏡對樣品的(001)晶面進(jìn)行以下調(diào)控。
2)垂直(Mn50Ni50)65Ga35樣品的(001)晶面施加5mT的磁場,其中該磁場不足以使其條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯印?/p>
3)對(Mn50Ni50)65Ga35樣品施加面內(nèi)電流密度為8.4×107A/m2的電流,使其條狀磁疇消失。
4)將電流降低為零。
圖1是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將外加磁場撤銷(即從5mT降低為零)之后,發(fā)現(xiàn)部分斯格明子能夠穩(wěn)定保存,具有非易失性零場穩(wěn)定性。另外將上述步驟4)處理后的(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫(即100K-330K)的斯格明子。
實施例2
其與實施例1基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加10mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖2是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將外加磁場撤銷之后,發(fā)現(xiàn)已形成的斯格明子仍然能夠穩(wěn)定保存,具有非易失性零場穩(wěn)定性。將(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。
實施例3
其與實施例1基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加30mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖3是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將外加磁場撤銷之后,發(fā)現(xiàn)已形成的斯格明子仍然能夠穩(wěn)定保存,具有非易失性零場穩(wěn)定性。將(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。
實施例4
其與實施例1基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加50mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖4是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖,從圖4可以看出,斯格明子的尺寸約為90納米,密度高且以陣列形式排列。將外加磁場撤銷之后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定保存,具有非易失性零場穩(wěn)定性。將(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)高密度的斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。
實施例5
其與實施例1基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加80mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖5是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將外加磁場撤銷之后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定保存,具有非易失性零場穩(wěn)定性。將(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。
實施例6
其與實施例1基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加90mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖6是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將外加磁場撤銷之后,發(fā)現(xiàn)斯格明子保持穩(wěn)定,具有非易失性零場穩(wěn)定性。將(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。
實施例7
1)制備(Mn50Ni50)65Ga35樣品:將(Mn50Ni50)65Ga35樣品塊切割以形成3毫米×2毫米的長方形片狀。為了便于在透射電鏡下直接觀察納米尺寸的斯格明子,通過砂紙、凹坑儀和拋光儀等對樣品觀察區(qū)域進(jìn)行打磨,再用離子減薄儀進(jìn)行減薄,使得樣品觀察區(qū)域的厚度小于100納米。將減薄后的樣品裝入低溫樣品桿上,并將樣品桿插入透射電鏡中。其中通過低溫樣品桿上的杜瓦添加液氮可以對樣品進(jìn)行降溫或通過樣品桿前端的加熱絲對樣品進(jìn)行加熱,并通過透射電鏡的物鏡電流施加垂直磁場,通過透射電鏡對樣品的(001)晶面進(jìn)行以下調(diào)控。
2)垂直(Mn50Ni50)65Ga35樣品的(001)晶面施加10mT的磁場,其中該磁場不足以使其條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯印?/p>
3)將(Mn50Ni50)65Ga35樣品加熱至360K,使其條狀磁疇消失。
4)將樣品的溫度降低為室溫298K。
圖7是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將上述步驟4)處理后的(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。將10mT的外加磁場撤銷后,發(fā)現(xiàn)室溫下的斯格明子在零場仍然穩(wěn)定存在。
實施例8
其與實施例7基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加30mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖8是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。再將30mT的外加磁場撤銷后,發(fā)現(xiàn)室溫下的斯格明子在零場仍然穩(wěn)定存在。
實施例9
其與實施例7基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加50mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖9-11分別示出了(Mn50Ni50)65Ga35中的斯格明子在溫度330K、298K和100K下的磁疇結(jié)構(gòu)圖,從圖中可以看出本發(fā)明的調(diào)控方法形成的高密度的斯格明子在寬溫域室溫(即100K-330K)范圍內(nèi)穩(wěn)定存在。圖12示出了圖10中的室溫下的斯格明子在磁場撤銷時的磁疇結(jié)構(gòu)圖,從圖12可以看出,將50mT的外加磁場撤銷后,室溫下的斯格明子在零場下仍然穩(wěn)定存在。
實施例10
其與實施例7基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加90mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖13是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。再將90mT的外加磁場撤銷后,同樣發(fā)現(xiàn)室溫下的斯格明子在零場下仍然穩(wěn)定存在。
實施例11
其與實施例7基本相同,區(qū)別在于,在步驟2)中施加110mT的磁場(該磁場同樣不足以使得六角(Mn50Ni50)65Ga35中的條狀磁疇轉(zhuǎn)變?yōu)樗垢衩髯?。圖14是根據(jù)上述調(diào)控方法得到的斯格明子的磁疇結(jié)構(gòu)圖。將(Mn50Ni50)65Ga35的溫度從室溫升高至330K或降低至100K后,發(fā)現(xiàn)斯格明子仍然能夠穩(wěn)定存在,因此本發(fā)明的調(diào)控方法形成了寬溫域室溫的斯格明子。再將110mT的外加磁場撤銷后,同樣發(fā)現(xiàn)室溫下的高密度的斯格明子在零場下仍然穩(wěn)定存在。
在上述實施例1-6的步驟3)中,施加的面內(nèi)電流密度至少為8.4×107A/m2即可,以確保六角MnNiGa的條狀磁疇消失。
在上述實施例7-11的步驟3)中,還可以將(Mn50Ni50)65Ga35樣品加熱至350K-380K使其條狀磁疇消失。
在本發(fā)明的其他實施例中,磁場的方向可以與六角MnNiGa的{001}晶面族所在的平面形成任意角度的夾角,優(yōu)選在90°左右。
在本發(fā)明的其它實施例中,還可以采用其它已知方式對六角MnNiGa材料施加所需磁場、加熱或施加電流,并不限于采用透射電鏡中的物鏡電流施加磁場、加熱絲加熱或keithley電流表施加電流。
在本發(fā)明的其他實施例的步驟3)中,還可以同時對六角MnNiGa施加電流和對其加熱,以使其條狀磁疇消失。
采用本發(fā)明的調(diào)控方法對六角MnNiGa進(jìn)行調(diào)控,使得在六角MnNiGa的(001)晶面上形成的高密度斯格明子陣列能在零場、寬溫區(qū)內(nèi)穩(wěn)定存在。因此有利于以高效節(jié)能的方式將其應(yīng)用于非易失性高密度磁存儲器件中。
雖然本發(fā)明已經(jīng)通過優(yōu)選實施例進(jìn)行了描述,然而本發(fā)明并非局限于這里所描述的實施例,在不脫離本發(fā)明范圍的情況下還包括所作出的各種改變以及變化。