本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種OLED顯示裝置及其制作方法。
背景技術(shù):
近年來,液晶顯示(Liquid Crystal Display,LCD)裝置和有機發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode,OLED)顯示裝置等平板顯示裝置已經(jīng)逐步取代CRT顯示器,成為顯示裝置市場中的主流產(chǎn)品。其中,OLED顯示裝置具有自發(fā)光、驅(qū)動電壓低、發(fā)光效率高、響應(yīng)時間短、清晰度與對比度高、近180°視角、使用溫度范圍寬,可實現(xiàn)柔性顯示與大面積全色顯示等諸多優(yōu)點,被業(yè)界公認為是最有發(fā)展?jié)摿Φ娘@示裝置。
OLED顯示裝置通常包括:基板、與基板相對設(shè)置的封裝蓋板、設(shè)于基板上的陽極、設(shè)于陽極上的空穴注入層、設(shè)于空穴注入層上的空穴傳輸層、設(shè)于空穴傳輸層上的發(fā)光層、設(shè)于發(fā)光層上的電子傳輸層、設(shè)于電子傳輸層上的電子注入層、及設(shè)于電子注入層上的陰極。OLED顯示裝置工作時向發(fā)光層發(fā)射空穴和電子,將這些電子和空穴組合產(chǎn)生激發(fā)性電子-空穴對,并將激發(fā)性電子-空穴對從受激態(tài)轉(zhuǎn)換為基態(tài)實現(xiàn)發(fā)光。
研究表明,水汽和氧氣會對OLED器件的效能存在較大影響,其一是水汽和氧氣可能與材料為銀(Ag)、鎂(Mg)的陰極發(fā)生反應(yīng);其二是水汽和氧氣可能與空穴傳輸層和電子傳輸層發(fā)生化學(xué)反應(yīng),進而引起器件失效。為了解決這個問題,同時兼顧柔性的需求,薄膜封裝作為一種封裝方式被提出。薄膜封裝方式一般是在基板上的OLED器件上方依次交疊形成采用無機材料的阻水性好的阻擋層(barrier layer)、及采用有機材料的柔韌性好的緩沖層(buffer layer),通過無機的阻擋層和有機的緩沖層交疊的方式,防止水汽和氧氣的入侵,達到保護器件的目的。
請參閱圖1,為現(xiàn)有的一種采用薄膜封裝方式的OLED顯示裝置,包括基板10、設(shè)于所述基板10上的OLED器件20、及設(shè)于所述OLED器件20及基板10上且覆蓋所述OLED器件20的薄膜封裝層30,其中薄膜封裝層30包括由下至上依次層疊設(shè)置的第一無機阻擋層31、第一有機緩沖層32、第二無機阻擋層33、第二有機緩沖層34、及第三無機阻擋層35。由于有機緩沖層及無機阻擋層的性質(zhì)不同,使相鄰的有機緩沖層與無機阻擋層的交界面存在空隙,且由于有機緩沖層及無機阻擋層的表面均為平坦結(jié)構(gòu)沒有阻擋,當(dāng)有水汽和氧氣侵入薄膜封裝層30時,水氧分子通過薄膜封裝層30中的各膜層中的孔洞侵入,然后在相鄰的有機緩沖層和無機阻擋層的交界面快速移動,找到下一個孔洞,繼續(xù)向內(nèi)侵入,比單獨使用有機材料或無機材料進行薄膜封裝更容易形成膜脫落(Peeling)。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種OLED顯示裝置,能夠有效阻擋水汽及氧氣侵入OLED器件,同時降低無機阻擋層與有機緩沖層在交界面的脫落幾率。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種OLED顯示裝置的制作方法,制得的OLED顯示裝置能夠有效阻擋水汽及氧氣侵入OLED器件,同時降低無機阻擋層與有機緩沖層在交界面的脫落幾率。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明首先提供一種OLED顯示裝置,包括基板、設(shè)于所述基板上的OLED器件、及設(shè)于所述OLED器件及基板上且覆蓋所述OLED器件的薄膜封裝層;
所述薄膜封裝層包括層疊設(shè)置的多個中間封裝單元、及設(shè)于最上層的中間封裝單元上的頂層無機阻擋層,每一中間封裝單元包括中間一層無機阻擋層、及一層設(shè)于所述中間無機阻擋層上的有機緩沖層;
所述薄膜封裝層中,每一中間無機阻擋層的上表面均設(shè)有均勻分布的多個凸起部,每一有機緩沖層覆蓋下方相鄰的無機阻擋層的上表面。
所述薄膜封裝層包括兩層中間封裝單元。
所述多個凸起部呈陣列式排布,所述多個凸起部的頂面均為正方形。
所述基板包括襯底基板、及設(shè)于所述襯底基板上的TFT陣列層。
本發(fā)明還提供一種OLED顯示裝置的制作方法,包括如下步驟:
步驟1、提供基板,在所述基板上形成OLED器件;
步驟2、提供一掩膜板,所述掩膜板設(shè)有多個均勻分布的開口;
步驟3、以掩膜板為遮擋在基板上沉積無機材料,在沉積過程中,無機材料穿過所述掩膜板的多個開口,形成整面的中間無機阻擋層,所述中間無機阻擋層的上表面對應(yīng)所述掩膜板的多個開口形成均勻分布的多個凸起部;在所述中間無機阻擋層上覆蓋有機材料,形成覆蓋所述中間無機阻擋層上表面的有機緩沖層,進而形成包括一層無機阻擋層、及一層有機緩沖層的中間封裝單元;
步驟4、重復(fù)步驟3,直至形成多個中間封裝單元;
步驟5、在最上層的中間封裝單元上沉積無機材料,形成頂層無機阻擋層,進而形成包括多個中間封裝單元及頂層無機阻擋層的薄膜封裝層。
所述薄膜封裝層包括兩層中間封裝單元。
所述掩膜板上的多個開口呈陣列式排布,所述多個開口均為正方形;
所述步驟3中,所述無機阻擋層的上表面形成的多個凸起部呈陣列式排布,所述多個凸起部的頂面均為正方形。
所述基板包括襯底基板、及設(shè)于所述襯底基板上的TFT陣列層。
本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明提供的一種OLED顯示裝置,所述OLED顯示裝置的薄膜封裝層包括多個中間封裝單元,每個中間封裝單元包括中間無機阻擋層及有機緩沖層,其中中間無機阻擋層的上表面設(shè)有均勻分布的多個凸起部,使得覆蓋在中間無機阻擋層上表面的有機緩沖層與該中間無機阻擋層的接觸面積增大,提高中間無機阻擋層與有機緩沖層在交界面的附著力,大大降低無機阻擋層與有機緩沖層之間的脫落幾率,同時所述凸起部能夠起到阻擋水氧分子在中間無機阻擋層與有機緩沖層的交界面移動的作用,防止水氧分子繼續(xù)侵入OLED顯示裝置內(nèi)部影響OLED器件的效能。本發(fā)明提供的一種OLED顯示裝置的制作方法,利用設(shè)有多個開口的掩膜板為遮擋形成薄膜封裝層中的中間無機阻擋層,使中間無機阻擋層的上表面形成均勻分布的多個凸起部,能夠有效阻擋水汽及氧氣侵入OLED器件,同時降低無機阻擋層與有機緩沖層在交界面的脫落幾率。
附圖說明
為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容,請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細說明與附圖,然而附圖僅提供參考與說明用,并非用來對本發(fā)明加以限制。
附圖中,
圖1為現(xiàn)有一種采用薄膜封裝方式的OLED顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明的OLED顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明的OLED顯示裝置的制作方法的流程圖;
圖4為本發(fā)明的OLED顯示裝置的制作方法的步驟2中所提供的掩膜板的示意圖。
具體實施方式
為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果,以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。
請參閱圖2,本發(fā)明提供一種OLED顯示裝置,包括基板100、設(shè)于所述基板100上的OLED器件200、及設(shè)于所述OLED器件200及基板100上且覆蓋所述OLED器件200的薄膜封裝層300;
所述薄膜封裝層300包括層疊設(shè)置的多個中間封裝單元310、及設(shè)于最上層的中間封裝單元310上的頂層無機阻擋層320,每一中間封裝單元310包括一層中間無機阻擋層311、及一層設(shè)于所述中間無機阻擋層311上的有機緩沖層312;
所述薄膜封裝層300中,每一中間無機阻擋層311的上表面均設(shè)有均勻分布的多個凸起部3111,每一有機緩沖層320覆蓋下方相鄰的中間無機阻擋層311的上表面。
本發(fā)明的OLED顯示裝置,薄膜封裝層300每個中間封裝單元310中的中間無機阻擋層311的上表面均設(shè)有均勻分布的多個凸起部3111,使得覆蓋在中間無機阻擋層311的上表面的有機緩沖層312與該中間無機阻擋層311的接觸面積增大,進而提高中間無機阻擋層311與有機緩沖層312在交界面的附著力,大大降低無機阻擋層與有機緩沖層之間的脫落幾率,同時凸起部3111能夠阻擋水氧分子在中間無鈍化層311與有機緩沖層312的交界面的移動,防止水氧分子繼續(xù)侵入OLED顯示裝置內(nèi)部影響OLED器件的效能。
具體地,所述基板100包括襯底基板、及設(shè)于所述襯底基板上的TFT(Thin Film Transistor)陣列層。
進一步地,所述襯底基板為透明基板,優(yōu)選為玻璃基板。
具體地,所述薄膜封裝層300包括兩層中間封裝單元310。
具體地,在本實施例中,所述多個凸起部3111在所述中間無機阻擋層311的上表面上呈陣列式排布,所述多個凸起部3111的頂面均可以為正方形,或者也可以為其他形狀,這均不會影響本發(fā)明的實現(xiàn)。
具體地,所述有機緩沖層312的材料為聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯聚合物、及聚酰亞胺樹脂中的一種或幾種的組合。
具體地,所述頂層無機阻擋層320、及中間無機阻擋層311的材料為氮化硅(SiNx)、二氧化硅(SiO2)、或氧化鋁(Al2O3)。
具體地,所述OLED器件200包括由下至上依次層疊設(shè)置的陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層、及陰極。
請參閱圖3,本發(fā)明還提供一種OLED顯示裝置的制作方法,包括如下步驟:
步驟1、提供基板100,在所述基板100上形成OLED器件200。
具體地,所述基板100包括襯底基板、及設(shè)于所述襯底基板上的TFT陣列層。
進一步地,所述襯底基板為透明基板,優(yōu)選為玻璃基板。
具體地,所述OLED器件200包括由下至上依次層疊設(shè)置的陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層、及陰極。
步驟2、請參閱圖4,提供一掩膜板1,所述掩膜板1設(shè)有多個均勻分布的開口111。
具體地,在本實施例中,所述掩膜板1上的多個開口111呈陣列式排布,所述多個開口111均為正方形,或為其他形狀,這均不會影響本發(fā)明的實現(xiàn)。
步驟3、以掩膜板1為遮擋在基板100上沉積無機材料,沉積過程中,無機材料穿過所述掩膜板1的多個開口111,形成整面的中間無機阻擋層311,所述中間無機阻擋層311的上表面對應(yīng)所述掩膜板1的多個開口111形成均勻分布的多個凸起部3111;在所述中間無機阻擋層311上覆蓋有機材料,形成覆蓋所述中間無機阻擋層311上表面的有機緩沖層312,進而形成包括一層無機阻擋層311、及一層有機緩沖層312的中間封裝單元310。
具體地,所述步驟3中,掩膜板1置于所述基板100的上方并與所述基板100之間具有距離,從而使得沉積過程中,無機材料穿過所述掩膜板1的多個開口111也可沉積在所述基板100上對應(yīng)所述開口111之外的位置,從而形成整面的中間無機阻擋層311,同時,由于利用掩膜板1作為遮擋,在沉積無機材料時,與掩膜板1的開口111對應(yīng)的位置沉積的無機材料比其余位置沉積的無機材料厚度高,從而形成頂面形狀與掩膜板1的開口111形狀對應(yīng)的均勻分布的多個凸起部3111。
具體地,在本實施例中,所述凸起部3111呈陣列式排布,所述凸起部3111的頂面形狀與所述開口111的形狀一致,同樣可以為正方形,也可以為其他形狀。
具體地,所述有機緩沖層312的材料為聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯聚合物、及聚酰亞胺樹脂中的一種或幾種的組合。
具體地,所述中間無機阻擋層311的材料為SiNx、SiO2、或Al2O3。
步驟4、重復(fù)步驟3,直至形成多個中間封裝單元310。
步驟5、在最上層中間封裝單元310上沉積無機材料,形成頂層無機阻擋層320,進而形成包括多個中間封裝單元310及頂層無機阻擋層320的薄膜封裝層300。
具體地,所述頂層無機阻擋層320的材料為SiNx、SiO2、或Al2O3。
具體地,所述薄膜封裝層300包括兩層中間封裝單元310。
本發(fā)明的OLED顯示裝置的制作方法,利用設(shè)有多個開口的掩膜板1為遮擋形成薄膜封裝層300中的中間無機阻擋層311,使中間無機阻擋層311上表面形成均勻分布的多個凸起部3111,使得覆蓋在中間無機阻擋層311的上表面的有機緩沖層312與該中間無機阻擋層311的接觸面積增大,進而提高中間無機阻擋層311與有機緩沖層312在交界面的附著力,大大降低無機阻擋層與有機緩沖層之間的脫落幾率,同時凸起部3111能夠阻擋水氧分子在中間無機阻擋層311與有機緩沖層312的交界面的移動,防止水氧分子繼續(xù)侵入OLED顯示裝置內(nèi)部影響OLED器件的效能。
綜上所述,本發(fā)明的OLED顯示裝置,所述OLED顯示裝置的薄膜封裝層包括多個中間封裝單元,每個中間封裝單元包括中間無機阻擋層及有機緩沖層,其中中間無機阻擋層的上表面設(shè)有呈陣列式排布的多個凸起部,使得覆蓋在中間無機阻擋層上表面的有機緩沖層與該中間無機阻擋層的接觸面積增大,提高中間無機阻擋層與有機緩沖層在交界面的附著力,大大降低無機阻擋層與有機緩沖層之間的脫落幾率,同時所述凸起部能夠起到阻擋水氧分子在中間無機阻擋層與有機緩沖層的交界面移動的作用,防止水氧分子繼續(xù)侵入OLED顯示裝置內(nèi)部影響OLED器件的效能。本發(fā)明的OLED顯示裝置的制作方法,利用設(shè)有多個開口的掩膜板為遮擋形成薄膜封裝層中的中間無機阻擋層,使中間無機阻擋層上表面形成均勻分布的多個凸起部,能夠有效阻擋水汽及氧氣侵入OLED器件,同時降低無機阻擋層與有機緩沖層在交界面的脫落幾率。
以上所述,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形,而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明后附的權(quán)利要求的保護范圍。