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      用以改善線圈和電感器的噪聲隔離的旁路環(huán)的制作方法

      文檔序號(hào):11692140閱讀:506來源:國知局
      用以改善線圈和電感器的噪聲隔離的旁路環(huán)的制造方法與工藝

      實(shí)施例是關(guān)于設(shè)計(jì)集成電路。一些實(shí)施例是關(guān)于減小集成電路晶元中的噪聲。



      背景技術(shù):

      電子設(shè)備通常包括一個(gè)或多個(gè)集成電路(ic)晶元。針對(duì)增加小型消費(fèi)品(例如,智能手機(jī)和平板電腦驅(qū)動(dòng)器)中功能的需求使得制造商努力減小ic的特征尺寸并且增加電路的復(fù)雜度和密度。設(shè)計(jì)高密度集成電路的一個(gè)挑戰(zhàn)是電路之間的串?dāng)_問題。由于電路在ic晶元上被越來越緊密地布局,因此增加了來自串?dāng)_的噪聲的可能性。實(shí)現(xiàn)載波聚合的挑戰(zhàn)是在信道同時(shí)操作期間頻道之間的串?dāng)_問題。因此,一般需要提供ic電路的所期望的功能并且將電路串?dāng)_最小化的設(shè)備、系統(tǒng)和方法。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明提供了一種集成電路(ic),包括:

      多個(gè)金屬層;

      密封環(huán),所述密封環(huán)被安排在所述ic邊界周圍并且被布置在所述多個(gè)金屬層的至少一部分中;

      所述ic中所包括的第一線圈;以及

      旁路線圈,所述旁路線圈被布置于所述多個(gè)金屬層的至少一個(gè)金屬層中,并且具有被電耦合至所述密封環(huán)的至少第一終端和第二終端以在所述第一線圈周圍形成旁路環(huán)。

      附圖說明

      圖1是根據(jù)一些實(shí)施例的射頻收發(fā)機(jī)的部分的框圖;

      圖2根據(jù)一些實(shí)施例示出了包括射頻收發(fā)機(jī)電路的集成電路的示例;

      圖3根據(jù)一些實(shí)施例示出了集成電路的示例的一部分以及集成電路的密封環(huán)的一部分;

      圖4是根據(jù)一些實(shí)施例的來自耦合至噪聲敏感線圈的噪聲源線圈的噪聲的示例的圖;

      圖5是根據(jù)一些實(shí)施例示出來自耦合至噪聲敏感線圈的噪聲源線圈的噪聲的附加示例的圖;

      圖6是根據(jù)一些實(shí)施例示出來自耦合至噪聲敏感線圈的噪聲源線圈的噪聲的附加示例的圖;

      圖7是根據(jù)一些實(shí)施例制造集成電路晶元的方法的流程圖。

      具體實(shí)施方式

      下面的說明和附圖充分地示出了具體的實(shí)施例以使得本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)它們。其他實(shí)施例可以結(jié)合結(jié)構(gòu)的、邏輯的、電的、處理和其他改變。一些實(shí)施例的部分和特征可以被包括在那些其他實(shí)施例的部分和特征中或者被其替代。權(quán)利要求中所提出的實(shí)施例包括那些權(quán)利要求的所有可用的等同形式。

      針對(duì)增加小型電子設(shè)備中功能的需求為ic設(shè)計(jì)者帶來了挑戰(zhàn)。例如,高頻切換電路可能有必要與噪聲敏感的電路位于相同的ic晶元(die)上,這可能導(dǎo)致電路之間的串?dāng)_問題。

      密封環(huán)(sealring)是布局于ic晶元邊界的結(jié)構(gòu)。密封環(huán)有時(shí)被稱為邊封(edgeseal)并且可以在晶片(wafer)制造過程中被制造。密封環(huán)的功能是用以在切割晶片期間保護(hù)ic晶元免受傷害,進(jìn)而防止碎屑并防止裂紋擴(kuò)展入ic晶元的電路中。密封環(huán)可以形成為被安排在ic晶元外部周圍的金屬層中的連續(xù)環(huán)。在某些實(shí)施例中,制造過程中可用的所有金屬層中都包括密封環(huán)。密封環(huán)的所有環(huán)例如通過在諸如沿著環(huán)的長度而形成的金屬層之間的通孔(via)被電短路到一起。在某些實(shí)施例中,密封環(huán)可以幾乎是連續(xù)的并且包括金屬層中形成的環(huán)中的小縫隙。

      在具有被設(shè)計(jì)用以在高頻(例如,rf頻率)進(jìn)行操作的電路的ic中,密封環(huán)可以呈現(xiàn)信號(hào)完整性的問題。如果作為噪聲源的電路(“攻擊者(aggressor)”電路)位于密封環(huán)附近,則噪聲源電路可以引起之后可以沿著密封環(huán)傳播至ic的其他部分的、密封環(huán)中可調(diào)大小的噪聲電流。該噪聲電流可以耦合至引起不想要的噪聲的噪聲敏感電路(“受害者(victim)”電路)。

      在電路和密封環(huán)之間轉(zhuǎn)移的不想要的信號(hào)或噪聲的總量可以獨(dú)立于電路和環(huán)之間的磁耦合。噪聲源電路元件的一些示例包括電感器線圈、平衡-不平衡變換器(balun)、變壓器或者通常包括金屬的相似結(jié)構(gòu)。噪聲敏感電路可以包括相似電路元件。當(dāng)這些電路離密封環(huán)很近時(shí),在密封環(huán)以及噪聲源和噪聲敏感電路之間發(fā)生明顯的耦合。由于ic增加的電路密度,將這些電路安排在密封環(huán)附近可能是不可避免的。

      圖1是用于rf通信設(shè)備的rf收發(fā)機(jī)120的部分的框圖。rf收發(fā)機(jī)120包括具有rf接收機(jī)(rx)和rf發(fā)射機(jī)(tx)中的一者或兩者的ic100。ic100包括用于rf接收機(jī)和rf發(fā)射機(jī)中的一者或兩者的本地振蕩器電路125。一個(gè)或多個(gè)天線130可以被導(dǎo)電地耦合至rf收發(fā)機(jī)120。本地振蕩器電路125可以生成被用于將所接收的rf信號(hào)混合的本地振蕩器信號(hào),例如通過使用諸如本地振蕩器電路的頻率來下混合所接收的rf信號(hào)。

      圖2示出了包括rf收發(fā)機(jī)電路的ic的示例。ic200包括被安排在ic200邊界周圍的密封環(huán)205。密封環(huán)205在ic的金屬層中形成。在某些實(shí)施例中,密封環(huán)205被包括在ic的所有金屬層中,并且在某些實(shí)施例中,密封環(huán)205被包括在ic的金屬層的一部分中。ic200包括標(biāo)記為3-3的區(qū)域內(nèi)所示的線圈310。該線圈可能對(duì)噪聲敏感。噪聲敏感線圈的示例是用于圖1的rf接收機(jī)的本地振蕩器電路的電感器線圈。

      ic200還可以包括作為信號(hào)噪聲源的電路元件。噪聲源的示例是被用于開關(guān)電源的第二線圈或第二電感器。噪聲的另一示例是ic中形成的平衡-不平衡變換器或變壓器。另一示例是傳導(dǎo)或載送時(shí)鐘信號(hào)的ic的導(dǎo)電線路(conductivetrace)(例如,金屬或多晶硅線路)。時(shí)鐘信號(hào)的切換可以耦合至密封環(huán)205。在圖2的示例中,ic200包括被安排在密封環(huán)205附近的噪聲源212。與密封環(huán)有關(guān)的噪聲源的位置可能引起噪聲與第一線圈210的不想要的耦合。

      圖3是圖2的示例的ic的一部分(在圖2中被標(biāo)記為3-3)和ic的密封環(huán)305的一部分的放大圖。ic包括具有被電耦合至密封環(huán)305的第一終端和第二終端的旁路導(dǎo)線315。旁路導(dǎo)線315可以被包括在ic的一個(gè)或多個(gè)金屬層中。在某些實(shí)施例中,旁路導(dǎo)線315被包括在ic的所有金屬層中。在某些實(shí)施例中,密封環(huán)305被包括在ic的金屬層的一部分中,并且旁路導(dǎo)線315被包括在不同于包括密封環(huán)305的金屬層的金屬層中。在某些實(shí)施例中,旁路導(dǎo)線315被包括在再分配層(rdl)中而不是ic的金屬層中。rdl層指代在ic制造過程之后形成的金屬層。例如晶片級(jí)芯片尺寸再分配層(wlcsprdl)的rdl層可以被添加為ic封裝的一部分。旁路導(dǎo)線315和密封環(huán)305在第一線圈310周圍形成旁路環(huán)。噪聲敏感的第一線圈310位于旁路環(huán)內(nèi),并且噪聲源位于旁路環(huán)外部。

      在圖3中,箭頭320指示密封環(huán)中的噪聲電流。在旁路導(dǎo)線315和密封環(huán)305的連接處,噪聲電流分流(如箭頭322、323所示),以使得噪聲電流的一部分流經(jīng)旁路導(dǎo)線315,并且噪聲電流的一部分流經(jīng)密封環(huán)305的一部分。如果旁路導(dǎo)線315的阻抗等于被電耦合至旁路導(dǎo)線的第一終端和第二終端的密封環(huán)部分的阻抗,則兩個(gè)分支中的噪聲電流將相等。旁路導(dǎo)線的阻抗可以通過改變旁路導(dǎo)線的金屬層的寬度而改變。當(dāng)旁路導(dǎo)線的阻抗基本上等于旁路環(huán)中所包括的密封環(huán)部分的阻抗時(shí),將發(fā)生較好的匹配。在某些實(shí)施例中,旁路導(dǎo)線的阻抗在密封環(huán)部分的阻抗的5%至10%內(nèi)。

      如箭頭所示,圖3中的噪聲電流順時(shí)針流過旁路環(huán)的密封環(huán)部分并且逆時(shí)針流過旁路環(huán)的旁路部分。這導(dǎo)致由旁路導(dǎo)線的電流所引起的磁場(chǎng)(或h-場(chǎng))的極性與由密封環(huán)部分所引起的磁場(chǎng)的極性相反。因此,消除了第一線圈310區(qū)域中的場(chǎng)并且減小了耦合至第一線圈310的噪聲。

      圖4是示出來自耦合至噪聲敏感線圈的噪聲源線圈的噪聲的示例的圖。噪聲源線圈和噪聲敏感線圈都在密封環(huán)附近的ic中形成。圖中的波形示出了耦合噪聲對(duì)頻率。波形405示出了在沒有旁路環(huán)的情況下噪聲敏感線圈的噪聲水平對(duì)頻率。波形410示出了當(dāng)噪聲敏感線圈被置于旁路環(huán)內(nèi)時(shí),噪聲敏感線圈的噪聲對(duì)頻率。波形示出,當(dāng)使用旁路環(huán)時(shí),噪聲在4千兆赫(4ghz)處減小了大約12分貝(db)。因此,旁路環(huán)可以減小線圈對(duì)線圈的噪聲耦合。波形包括4千兆赫(4ghz)附近的峰值,這是因?yàn)樵肼暶舾芯€圈被設(shè)計(jì)為在該頻率處共振并且在共振頻率處發(fā)生噪聲源的峰耦合(peakcoupling)。

      回到圖3,圖中的示例示出了位于ic300拐角中的噪聲敏感線圈。旁路“環(huán)”基本上為矩形。旁路導(dǎo)線315包括旁路環(huán)的兩邊,并且密封環(huán)305包括旁路環(huán)的兩邊。其他安排可能是有用的。例如,在其他實(shí)施例中,旁路導(dǎo)線315可以包括旁路環(huán)的三邊,密封環(huán)305包括旁路環(huán)的一邊。在該安排中,一邊的密封環(huán)的阻抗可以低于旁路環(huán)的三邊上的旁路導(dǎo)線的阻抗。對(duì)比于兩邊的安排,當(dāng)旁路導(dǎo)線315包括旁路環(huán)的三邊時(shí),旁路導(dǎo)線315可以被設(shè)計(jì)為具有更低的阻抗。

      圖5是示出來自耦合至噪聲敏感線圈的噪聲源線圈的噪聲的附加示例的圖。波形505示出了在沒有旁路環(huán)的情況下噪聲敏感線圈的噪聲水平對(duì)頻率。其他波形對(duì)應(yīng)于旁路環(huán)實(shí)施例,其中旁路導(dǎo)線形成了旁路環(huán)的三邊。波形510、515和520對(duì)應(yīng)于寬度分別為2微米(μm)、4μm和6μm的旁路環(huán)的旁路導(dǎo)線。該圖示出,當(dāng)阻抗更緊密地匹配于密封環(huán)部分的阻抗以更好地消除磁場(chǎng)時(shí),減小了3ghz處的噪聲耦合。

      回到圖3,ic的密封環(huán)305可以包括至電接地(electricalground)的多個(gè)連接(connection)或連結(jié)(tie)。在某些實(shí)施例中,密封環(huán)的所有金屬層都包括至電接地的連接。ic可以被封裝在包括被構(gòu)建至ic封裝中的地平面的ic封裝中。在某些實(shí)施例中,密封環(huán)305包括至ic封裝的地平面的低阻抗電連接。在某些示例中,ic可以被封裝在不包括地平面的ic封裝中,并且密封環(huán)305包括至ic的電接地連接的低阻抗電連接。

      圖6是示出來自耦合至噪聲敏感線圈的噪聲源線圈的噪聲的附加示例的圖。波形605示出了在沒有旁路環(huán)的情況下噪聲敏感線圈的噪聲水平對(duì)頻率。波形610示出了當(dāng)噪聲敏感線圈被置于旁路環(huán)內(nèi)時(shí),噪聲敏感線圈的噪聲對(duì)頻率。波形615示出了在沒有旁路環(huán)并且密封環(huán)包括至電接地的多個(gè)連結(jié)的情況下噪聲敏感線圈的噪聲水平對(duì)頻率。波形620示出了在沒有旁路環(huán)的情況下,噪聲敏感線圈的噪聲水平對(duì)頻率,并且密封環(huán)包括至電接地的多個(gè)連結(jié)。波形620示出了噪聲從沒有旁路環(huán)并且密封環(huán)上沒有地連結(jié)情況下的4ghz處的-42db減小至使用具有地連結(jié)的密封環(huán)和旁路環(huán)二者時(shí)的4ghz處的約-85db。當(dāng)至密封環(huán)的地連結(jié)不可用時(shí),旁路環(huán)可以提供噪聲保護(hù)。

      圖7是制造ic晶元的方法700的流程圖。在705,使用ic晶元的多個(gè)金屬層的至少一部分來在晶元中形成密封環(huán)。密封環(huán)可以被安排在ic晶元的外邊界附近的ic晶元的邊界周圍。在某些實(shí)施例中,使用ic晶元的所有金屬層來形成密封環(huán)。

      在710,在ic晶元中形成電子線圈電路元件。在一些實(shí)施例中,形成ic晶元中的rf接收機(jī)的本地振蕩器電路,并且線圈電路元件是本地振蕩器電路中所包括的電感器線圈。

      在715,在ic晶元的多個(gè)金屬層的至少一個(gè)金屬層中形成旁路導(dǎo)線。在一些實(shí)施例中,使用ic晶元的所有金屬層來形成旁路導(dǎo)線。旁路導(dǎo)線具有被電連接至密封環(huán)的第一終端和第二終端。旁路導(dǎo)線被安排以形成包括旁路導(dǎo)線和密封環(huán)的一部分的旁路環(huán)。在一些實(shí)施例中,形成阻抗基本上等于被電耦合在旁路導(dǎo)線的第一終端和第二終端之間的密封環(huán)部分的阻抗的旁路導(dǎo)線。

      在一些實(shí)施例中,產(chǎn)生噪聲的一個(gè)或多個(gè)電路在ic中形成并被置于旁路環(huán)的外部,并且第一線圈位于旁路環(huán)的內(nèi)部。在某些實(shí)施例中,噪聲源電路可以包括第二導(dǎo)線、平衡-不平衡變換器和變壓器中的一個(gè)或多個(gè)。在某些實(shí)施例中,在ic中形成電耦合至?xí)r鐘電路的導(dǎo)電線路。導(dǎo)電線路位于旁路環(huán)外部以及密封環(huán)內(nèi)部。

      在某些實(shí)施例中,密封環(huán)和電接地之間存在多個(gè)電連接。電連接可以是至ic封裝中所包括的地平面的低阻抗連接(例如,低阻抗通孔),或者是至ic的電路地(electricalcircuitground)的低阻抗連接。在某些實(shí)施例中,密封環(huán)不接地。

      使用ic中的旁路環(huán)的所描述的設(shè)備、系統(tǒng)和方法可以允許減小噪聲敏感電路的噪聲耦合。盡管一些實(shí)施例描述了rf通信設(shè)備中所使用的ic,但ic旁路環(huán)可以被用于使用微波信號(hào)的任意應(yīng)用中。即使在密封環(huán)的電接地在ic制造過程中不可用或者是rf電路設(shè)計(jì)原因所不想要的情況下,使用旁路環(huán)也可以減小由密封環(huán)所引起的噪聲耦合。

      附加說明和示例

      示例1可以包括主題(例如,ic),該主題包括:

      多個(gè)金屬層;密封環(huán),其被安排在ic邊界周圍以及被布置在多個(gè)金屬層的至少一部分中;ic中所包括的第一線圈;以及旁路導(dǎo)線,其被布置在多個(gè)金屬層的至少一層金屬層中,并且具有被電耦合至密封環(huán)的至少第一終端和第二終端以在第一線圈周圍形成旁路環(huán)。

      在示例2中,示例1的主題可選地包括以下各項(xiàng)中的至少一個(gè):第二線圈、平衡-不平衡變換器、被布置于旁路環(huán)外部的變壓器以及被布置于旁路環(huán)內(nèi)部的第一線圈。

      在示例3中,示例1和示例2中的一者或兩者的主題可選地包括被配置為傳導(dǎo)時(shí)鐘信號(hào)的導(dǎo)電線路,其中,導(dǎo)電線路被布置于旁路環(huán)外部,并且第一線圈位于旁路環(huán)內(nèi)部。

      在示例4中,示例1-3中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括第一線圈,該第一線圈為被布置于旁路環(huán)內(nèi)部的第一電感器線圈并且被布置于射頻接收機(jī)的本地振蕩電路中,并且其中,ic包括被布置于旁路環(huán)外部和密封環(huán)內(nèi)部的第二電感器線圈。

      在示例5中,示例1-4中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括ic晶元中的ic,并且其中,密封環(huán)被布置于ic的多個(gè)金屬層的所有金屬層中,并且繞著ic晶元的外緣。

      在示例6中,示例1-5中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括包括至電接地的多個(gè)電連接的密封環(huán)。

      在示例7中,示例1-4和示例6中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括ic的金屬層中所包括的旁路導(dǎo)線,該金屬層不同于包括密封環(huán)的金屬層。

      在示例8中,示例1-7中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括旁路導(dǎo)線的阻抗,該阻抗基本上等于被電耦合至旁路導(dǎo)線的第一終端和第二終端的密封環(huán)的一部分的阻抗。

      在示例9中,示例1-8中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括基本上為矩形的旁路環(huán),并且旁路導(dǎo)線包括旁路環(huán)的兩邊,密封環(huán)包括旁路環(huán)的兩邊。

      在示例10中,示例1-8中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括基本上為矩形的旁路環(huán),并且旁路導(dǎo)線包括旁路環(huán)的三邊,密封環(huán)包括旁路環(huán)的一邊。

      示例11可以包括主題(例如,rf通信設(shè)備的裝置),或者可以與示例1-10中的一個(gè)或任意組合的主題相結(jié)合以包括該主題,包括包括集成電路(ic)的rf收發(fā)機(jī)。ic可選地包括:多個(gè)金屬層;密封環(huán),其被安排在ic邊界周圍的多個(gè)金屬層的至少一部分中;包括密封環(huán)內(nèi)所形成的第一電感器線圈的本地振蕩器電路,其中,rf收發(fā)機(jī)被配置為使用本地振蕩器的頻率來下混合所接收的rf信號(hào);以及旁路導(dǎo)線,其被布置在多個(gè)金屬層的至少一個(gè)金屬層中,并且具有被電耦合至密封環(huán)的至少第一終端和第二終端以在第一線圈周圍形成旁路環(huán)。

      在示例12中,示例11的主題可選地包括ic,該ic包括以下各項(xiàng)中的至少一項(xiàng):第二線圈、平衡-不平衡變換器、以及被布置于密封環(huán)內(nèi)部和旁路環(huán)外部的變壓器。

      在示例13中,示例11和示例12中的一者或兩者的主題可選地包括ic,該ic包括被配置為傳導(dǎo)被安排在密封環(huán)內(nèi)部和旁路環(huán)外部的時(shí)鐘信號(hào)的導(dǎo)電線路。

      在示例14中,示例11-13中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括旁路環(huán),該旁路環(huán)包括不同于用于形成密封環(huán)的金屬層的一個(gè)或多個(gè)金屬層。

      在示例15中,示例11-14中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括旁路導(dǎo)線,該旁路導(dǎo)線的阻抗基本上等于被電耦合至旁路導(dǎo)線的第一終端和第二終端的密封環(huán)的一部分的阻抗。

      在示例16中,示例11-13和示例15中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括布置于多個(gè)金屬層的所有金屬層中的密封環(huán),該密封環(huán)繞著ic的外緣,并且包括至地平面的多個(gè)電連接。

      在示例17中,示例11-16中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括基本上為矩形的旁路環(huán),并且旁路導(dǎo)線包括旁路環(huán)的兩邊或三邊,以及密封環(huán)包括旁路環(huán)余下的邊。

      在示例18中,示例11-17中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括被導(dǎo)電地耦合至rf收發(fā)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)天線。

      示例19可以包括主題(例如,制備ic晶元的方法),或者可以可選地與示例1-18中的一個(gè)或任意組合的主題相結(jié)合以包括該主題,包括:

      使用ic晶元的多個(gè)金屬層的至少一部分來形成密封環(huán),其中,密封環(huán)被安排在ic晶元的外緣附近的ic晶元邊界周圍;在ic晶元中形成第一線圈;以及在ic晶元的多個(gè)金屬層的至少一個(gè)金屬層中形成旁路導(dǎo)線并且具有第一終端和第二終端,其中,旁路導(dǎo)線的第一終端和第二終端被電連接至密封環(huán),并且旁路導(dǎo)線被安排以形成包括密封環(huán)的一部分和旁路導(dǎo)線的旁路環(huán)。

      在示例20中,示例19的主題可選地包括形成以下各項(xiàng)中的至少一項(xiàng):第二線圈、平衡-不平衡變換器、以及ic晶元的密封環(huán)內(nèi)部和ic晶元的旁路環(huán)外部的變壓器。

      在示例21中,示例19和示例20中的一者或兩者的主題可選地包括形成導(dǎo)電線路,該導(dǎo)電線路用于電耦合至ic晶元的密封環(huán)內(nèi)部以及ic晶元的旁路環(huán)外部的時(shí)鐘電路。

      在示例22中,示例19-21中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括形成ic晶元中的射頻接收機(jī)的本地振蕩器電路,其中,本地振蕩器電路包括第一線圈以作為本地振蕩器電路中所包括的電感器線圈。

      在示例23中,示例19-22中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括在多個(gè)金屬層的所有金屬層中形成密封環(huán)并且繞著ic晶元的外緣。

      在示例24中,示例19-22中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括使用一個(gè)或多個(gè)金屬層來形成旁路導(dǎo)線,該金屬層不同于被用于形成密封環(huán)的金屬層。

      在示例25中,示例19-24中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括形成旁路導(dǎo)線,該旁路導(dǎo)線的阻抗基本上等于被電耦合至旁路導(dǎo)線的第一終端和第二終端的密封環(huán)的一部分的阻抗。

      在示例26中,示例19-25中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括在密封環(huán)和電接地之間形成多個(gè)電連接。

      在示例27中,示例19-26中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括形成基本上為矩形的旁路環(huán),以及形成旁路導(dǎo)線以作為旁路環(huán)的兩邊并且形成密封環(huán)以作為旁路環(huán)的兩邊。

      在示例28中,示例19-26中的一個(gè)或任意組合的主題可選地包括形成基本上為矩形的旁路環(huán),以及形成旁路導(dǎo)線以作為旁路環(huán)的三邊并且形成密封環(huán)以作為旁路環(huán)的一邊。

      這些非限制性的示例可以以任意排列或組合進(jìn)行合并。

      摘要被提供為符合37c.f.r1.72(b)節(jié),該節(jié)要求摘要將允許讀者確定本技術(shù)公開的性質(zhì)和主旨。摘要是按照不被用于限制或解釋權(quán)利要求的范圍或意義的理解而提交的。所附權(quán)利要求因此被合并到詳細(xì)的描述中,其中每個(gè)權(quán)利要求自己作為單獨(dú)的實(shí)施例。

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