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      一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件及其制備方法與流程

      文檔序號:12275398閱讀:332來源:國知局
      一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件及其制備方法與流程

      本發(fā)明涉及量子點技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件及其制備方法。



      背景技術(shù):

      基于無機納米晶的量子點發(fā)光材料具有出射光顏色飽和,波長可調(diào),光致、電致發(fā)光量子產(chǎn)率高等適合高性能顯示器件的優(yōu)點;從制備工藝角度來看,量子點發(fā)光材料適用于非真空條件下的旋涂、印刷、打印設(shè)備;因此,以量子點薄膜制備的量子點發(fā)光二極管(QLED)成為下一代顯示技術(shù)的有力競爭者。

      一個QLED器件通常包括襯底、電極1,空穴注入、空穴傳輸層,發(fā)光層,電子傳輸、電子注入層和電極2。根據(jù)電極1和電極2的相對位置,即背電極和頂電極,QLED的結(jié)構(gòu)可以分為正型和反型器件兩種,這僅僅是針對制作過程的分類,與發(fā)光出射方向無關(guān)??昭ㄗ⑷牒涂昭▊鬏攲佑糜趶耐怆娐废虬l(fā)光層提供可遷移空穴,電子傳輸層用于提供可遷移電子。電子-空穴在量子點中形成激子,激子通過輻射復合輸出光子。

      傳統(tǒng)的量子點器件所采用的襯底大都是ITO玻璃,ITO玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上,利用濺射、蒸發(fā)等多種方法鍍上一層氧化銦錫(俗稱ITO)膜加工制作成的,在厚度只有幾千埃的情況下,氧化銦透光率較高,同時由于波導效應(yīng)的損失,量子點發(fā)光層所產(chǎn)生的光大部分在器件內(nèi)部的傳播過程中會被吸收掉,從而導致量子點發(fā)光器件的出光效率低;同時由于ITO薄膜需要用到稀有金屬In,容易造成環(huán)境污染。

      因此,現(xiàn)有技術(shù)還有待于改進和發(fā)展。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件及其制備方法,旨在解決現(xiàn)有的量子點器件出光效率低且易造成環(huán)境污染的問題。

      本發(fā)明的技術(shù)方案如下:

      一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件,依次包括襯底、底電極、空穴注入層、空穴傳輸層、量子點發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層以及頂電極,其中,所述襯底采用具有陷光結(jié)構(gòu)的BZO玻璃。

      較佳地,所述的具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件,其中,所述BZO玻璃包括玻璃本體和覆蓋在玻璃本體上的BZO薄膜。

      較佳地,所述的具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件,其中,所述BZO薄膜的厚度為800-2000nm。

      較佳地,所述的具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件,其中,所述BZO薄膜的方塊電阻為10-60Ω/□。

      較佳地,所述的具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件,其中,所述BZO薄膜的霧度范圍為10-50%。

      較佳地,所述的具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件,其中,所述量子點發(fā)光層的材料為II-VI族化合物、III-V族化合物、II-V族化合物、III-VI化合物、IV-VI族化合物、I-III-VI族化合物、II-IV-VI族化合物或IV族單質(zhì)中的一種或多種。

      一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件的制備方法,其中,包括步驟:

      A、采用低壓化學氣相沉積法在玻璃本體上制備BZO薄膜生成具有陷光結(jié)構(gòu)的BZO玻璃襯底;

      B、采用真空蒸鍍方法在BZO玻璃襯底表面制備底電極;

      C、在底電極表面依次沉積空穴注入層、空穴傳輸層、量子點發(fā)光層、電子傳輸層以及電子注入層;

      D、在電子注入層表面真空蒸鍍頂電極。

      較佳地,所述的具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件的制備方法,其中,所述步驟A具體包括:

      A1、將清洗干凈的玻璃放入反應(yīng)室并加熱至150-200oC;

      A2、將氣態(tài)的水和乙二基鋅按流量比為0.5-5的比例、以及乙二基鋅和硼烷按流量比為2-6的比例通入反應(yīng)室,進行沉積反應(yīng);

      A3、沉積完成后,將所述玻璃取出反應(yīng)室冰冷卻,得到BZO玻璃襯底。

      較佳地,所述的具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件的制備方法,其中,所述反應(yīng)室內(nèi)的氣壓為2×10-3 -8×10-3mbar。

      較佳地,所述的具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件的制備方法,其中,沉積反應(yīng)的時間為250-350s。

      有益效果:本發(fā)明在制備量子點發(fā)光二極管器件的過程中,采用自身具有陷光結(jié)構(gòu)的BZO玻璃作為襯底,使得量子點發(fā)光層發(fā)出的光在BZO玻璃的陷光作用下,有效的減少了光在器件內(nèi)部傳播的損失,從而提升器件的出光效率,降低生產(chǎn)成本,并且相對于傳統(tǒng)的ITO玻璃襯底,本發(fā)明提供的BZO玻璃襯底成本更低、適合大批量大面積生產(chǎn),且環(huán)保無污染。

      附圖說明

      圖1為本發(fā)明一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖2為本發(fā)明BZO薄膜的電鏡掃描圖。

      圖3為本發(fā)明一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件制備方法較佳實施例的流程圖。

      具體實施方式

      本發(fā)明提供一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件及其制備方法,為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及效果更加清楚、明確,以下對本發(fā)明進一步詳細說明。應(yīng)當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。

      請參閱圖1,圖1為本發(fā)明一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖所示,本發(fā)明實施例以正型量子點發(fā)光二極管器件為例,所述器件從下至上依次包括襯底10、底電極20、空穴注入層30、空穴傳輸層40、量子點發(fā)光層50、電子傳輸層60、電子注入層70以及頂電極80,其中,所述襯底10采用具有陷光結(jié)構(gòu)的BZO玻璃。所述陷光結(jié)構(gòu)是指在表面弄一些突起或者凹坑,以增加光程,增加光子的吸收量。

      具體地,本發(fā)明提供的量子點發(fā)光二極管器件,采用BZO玻璃替代傳統(tǒng)的ITO玻璃,作為所述量子點發(fā)光二極管器件的襯底;進一步,所述BZO玻璃包括BZO薄膜和玻璃,如圖2所示,所述BZO薄膜具有微觀納米陷光結(jié)構(gòu),在BZO薄膜的陷光作用下,能有效減少量子點發(fā)光層50發(fā)出的光在器件內(nèi)部傳播過程中的損失,從而提高量子點發(fā)光二極管器件的出光效率;

      進一步,本發(fā)明采用的BZO玻璃相對于傳統(tǒng)的ITO玻璃,其成本更低,適合大批量大面積生產(chǎn);

      更進一步,由于ITO玻璃需要用到稀有金屬In,所述In元素在地球含量較少,其開發(fā)比較困難,而BZO玻璃中的組成元素在地球含量很豐富,其制備過程非常簡單且環(huán)保。

      進一步,在本發(fā)明中,所述BZO薄膜的厚度為800-2000nm,優(yōu)選地,所述BZO薄膜的厚度為1800nm,在該厚度值時,BZO薄膜的散色能力得到提高,BZO玻璃襯底的陷光作用更強,更有利于提高量子點放光層50的出光效率。

      具體地,在本發(fā)明中,所述BZO薄膜的方塊電阻為10-60Ω/□,方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測量值;方阻僅與導電膜的厚度等因素有關(guān),表征膜層致密性,同時表征對熱紅外光譜的透過能力,優(yōu)選地,所述BZO薄膜的方塊電阻為35Ω/□,在該值時,BZO薄膜的陷光作用更強。

      進一步,在本發(fā)明中,所述BZO薄膜的霧度范圍為10-50%;霧度是透過試樣而偏離入射光方向的散射光通量與透射光通量之比,用百分數(shù)表示,通常僅將偏離入射光方向2.5度以上的散射光通量用于計算霧度。優(yōu)選地,本發(fā)明中所述BZO薄膜的霧度范圍為30%,在該霧度值時,所述BZO薄膜的散色能力較強。

      進一步,在本發(fā)明中,所述空穴傳輸層和電子傳輸層的厚度均為5-100nm,優(yōu)選地,在本發(fā)明提供的量子點發(fā)光二極管器件中,所述空穴傳輸層40的厚度設(shè)置為25nm,所述電子傳輸層60的厚度設(shè)置為20nm,在該厚度值時,所述空穴傳輸層40和電子傳輸層60的導電性能最佳,所需驅(qū)動電壓較低,使得器件的發(fā)光亮度和發(fā)光效率都有較大提升。

      進一步,在本發(fā)明中,所述量子點發(fā)光層的材料為II-VI族化合物、III-V族化合物、II-V族化合物、III-VI化合物、IV-VI族化合物、I-III-VI族化合物、II-IV-VI族化合物或IV族單質(zhì)中的一種或多種;所述化合物包括二元化合物、三元化合物以及四元化合物。

      具體地,所述量子點發(fā)光層使用的半導體材料包括但不限于II-VI半導體的納米晶,比如CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、PbS、PbSe、PbTe和其他二元、三元、四元的II-VI化合物;III-V族半導體的納米晶,比如GaP、GaAs、InP、InAs和其他二元、三元、四元的III-V化合物;所述的用于電致發(fā)光的半導體材料還不限于II-V族化合物、III-VI化合物、IV-VI族化合物、I-III-VI族化合物、II-IV-VI族化合物、IV族單質(zhì)等。

      基于上述具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件,本發(fā)明還提供一種具有陷光結(jié)構(gòu)的量子點發(fā)光二極管器件的制備方法,如圖3所示,其中,包括步驟:

      S100、采用低壓化學氣相沉積法在玻璃上制備BZO薄膜生成具有陷光結(jié)構(gòu)的BZO玻璃襯底;

      S200、采用真空蒸鍍方法在BZO玻璃襯底表面制備底電極;

      S300、在底電極表面依次沉積空穴注入層、空穴傳輸層、量子點發(fā)光層、電子傳輸層以及電子注入層;

      S400、在電子注入層表面真空蒸鍍頂電極。

      進一步,所述步驟S100具體包括:

      S110、將清洗干凈的玻璃放入反應(yīng)室并加熱至150-200oC;

      S120、將氣態(tài)的水和乙二基鋅按流量比為0.5-5的比例、以及乙二基鋅和硼烷按流量比為2-6的比例通入反應(yīng)室,進行沉積反應(yīng);

      S130、沉積完成后,將所述玻璃取出反應(yīng)室冰冷卻,得到BZO玻璃襯底。

      具體地,在本發(fā)明中,所述BZO薄膜是采用低壓化學氣相沉積(LPCVD)方法制備而成的,以乙二基鋅(DEZ)、水(H2O)和硼烷(B2H6)為氣源前驅(qū)物,由于DEZ和H2O常溫常壓下是以液體形式存在,需要水?。?0oC-90oC)通以氬氣鼓泡使其以氣態(tài)形式攜帶進入反應(yīng)室,而氣態(tài)的DEZ和H2O遇冷容易凝結(jié),堵塞氣路,需要對氣路做好保溫措施;

      在本發(fā)明中,H2O/DEZ流量比范圍為0.5-5,摻雜的B通常是經(jīng)氫稀釋為2%的B2H6,氫氣不僅作為載氣,還起到布氣作用(布置氣體將腔室氣體成分布置均勻),DEZ/B2H6流量比為2-6;

      將玻璃襯底加熱溫度范圍150-200oC,控制BZO薄膜厚度范圍為800-2000nm,方塊電阻為10-60Ω/□,霧度范圍10%-50%。BZO薄膜在波長400nm-1100nm之間,平均透過率基本大于85%;反應(yīng)流程為:DEZ、H2O被氬氣帶入加熱襯底表面和B2H6氣體一起反應(yīng)生產(chǎn)BZO薄膜,反應(yīng)式為:Zn(C2H5)2+H2O→ZnO+2C2H6,由于B2H6分子活性較強,在較低的反應(yīng)溫度下,會分解形成B3+離子鍵入ZnO從而形成摻B的ZnO薄膜。

      進一步,在本發(fā)明中,所述反應(yīng)室內(nèi)的氣壓為2×10-3 -8×10-3mbar;所述沉積反應(yīng)的時間為250-350s。優(yōu)選地,所述反應(yīng)室內(nèi)的氣壓為5×10-3mbar,所述沉積反應(yīng)的時間為300s,在該數(shù)值下,便于在玻璃襯底上形成成分均勻的BZO薄膜。

      下面通過具體實施例對本發(fā)明的制備方案做進一步的說明:

      實施例1

      采用面積1.1m×1.3m×3mm的玻璃襯底,加入清洗劑水溶液噴淋在玻璃上下表面,經(jīng)過毛刷刷洗后,進入高壓噴淋超純水沖洗玻璃表面的殘液,最后經(jīng)過80oC風刀室將其吹干,送入LPCVD工序;

      清洗干凈的玻璃在加熱腔快速加熱到155oC,傳送到LPCVD反應(yīng)腔,調(diào)節(jié)工藝壓力為5×10-3mbar,H2O/DEZ流量比為1.1,DEZ/B2H6流量比為為3,DEZ流量為480sccm,H2O流量528sccm,B2H6流量為160sccm,沉積時間300s。BZO薄膜厚度為1820nm,方塊電阻在16Ω/□左右,霧度為25%。沉積完成后送出沉積腔室進行冷卻,接著對玻璃進行切割,切割成所需尺寸的BZO玻璃。采用旋涂法在BZO玻璃上依次沉積空穴注入層,空穴傳輸層,量子點發(fā)光層和電子傳輸層及電子注入層,最用真空蒸鍍Al電極,從而完成QLED器件的制備。

      實施例2

      采用面積1.1m×1.3m×3mm的玻璃襯底,加入清洗劑水溶液噴淋在玻璃上下表面,經(jīng)過毛刷刷洗后,進入高壓噴淋超純水沖洗玻璃表面的殘液,最后經(jīng)過80oC風刀室將其吹干,送入LPCVD工序;

      清洗干凈的玻璃在加熱腔快速加熱到175oC,傳送到LPCVD反應(yīng)腔,調(diào)節(jié)工藝壓力為5×10-3mbar,H2O/DEZ流量比為1.1,DEZ/B2H6流量比為為3,DEZ流量為480sccm,H2O流量528sccm,B2H6流量為160sccm,沉積時間300s。BZO薄膜厚度為1900nm,方塊電阻在13Ω/□左右,霧度為29%。沉積完成后送出沉積腔室進行冷卻,接著對玻璃進行切割,切割成所需尺寸的BZO玻璃。采用旋涂法在BZO玻璃上依次沉積空穴注入層,空穴傳輸層,量子點發(fā)光層和電子傳輸層及電子注入層,最用真空蒸鍍Al電極,從而完成QLED器件的制備。

      實施例3

      采用面積1.1m×1.3m×3mm的玻璃襯底,加入清洗劑水溶液噴淋在玻璃上下表面,經(jīng)過毛刷刷洗后,進入高壓噴淋超純水沖洗玻璃表面的殘液,最后經(jīng)過80oC風刀室將其吹干,送入LPCVD工序;

      清洗干凈的玻璃在加熱腔快速加熱到195oC,傳送到LPCVD反應(yīng)腔,調(diào)節(jié)工藝壓力為5×10-3mbar,H2O/DEZ流量比為1.1,DEZ/B2H6流量比為為3,DEZ流量為480sccm,H2O流量528sccm,B2H6流量為160sccm,沉積時間300s。BZO薄膜厚度為1950nm,方塊電阻在12Ω/□左右,霧度為35%。沉積完成后送出沉積腔室進行冷卻,接著對玻璃進行切割,切割成所需尺寸的BZO玻璃。采用旋涂法在BZO玻璃上依次沉積空穴注入層,空穴傳輸層,量子點發(fā)光層和電子傳輸層及電子注入層,最用真空蒸鍍Al電極,從而完成QLED器件的制備。

      綜上所述,本發(fā)明在制備量子點發(fā)光二極管器件的過程中,采用自身具有陷光結(jié)構(gòu)的BZO玻璃作為襯底,使得量子點發(fā)光層發(fā)出的光在BZO玻璃的陷光作用下,有效的減少了光在器件內(nèi)部傳播的損失,從而提升器件的出光效率,降低生產(chǎn)成本,并且相對于傳統(tǒng)的ITO玻璃襯底,本發(fā)明提供的BZO玻璃襯底成本更低、適合大批量大面積生產(chǎn),且環(huán)保無污染。

      應(yīng)當理解的是,本發(fā)明的應(yīng)用不限于上述的舉例,對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)上述說明加以改進或變換,所有這些改進和變換都應(yīng)屬于本發(fā)明所附權(quán)利要求的保護范圍。

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