本發(fā)明涉及液晶顯示裝置制造領域，具體涉及一種陣列基板及具有該陣列基板的顯示裝置。

背景技術：

隨著顯示技術的飛速發(fā)展，人們對于顯示裝置畫面品質的要求也不斷提高，尤其對于顯示裝置畫面閃爍(Flicker)均勻性要求越來越高。

電阻電容(RC)延遲是影響顯示裝置畫面閃爍均勻性的主要因素之一。顯示裝置中薄膜晶體管(TFT)陣列基板的柵極信號線受到RC延遲的影響，將產生電信號延遲，進而造成顯示裝置中某些位置的實際驅動電壓與理想驅動電壓不一致，即在某一時刻顯示裝置中某些位置畫面實際亮度與理想亮度不一致，從而導致顯示裝置畫面閃爍均勻性較差的情況，這嚴重影響著顯示裝置的畫質和人們的用戶體驗。

柵極信號線的RC延遲影響程度與其整體電阻均勻性有很大的關系。一般而言，柵極信號線上的整體電阻越小，則其電阻均勻性越好，柵極信號線受RC延遲影響程度越小。在柵極信號線的長度、厚度和電阻率不變的情況下，為了減小柵極信號線的整體電阻，可以增加柵極信號線的寬度或在柵極層中增加柵極信號線并使其并聯(lián)。然而增加柵極信號線的寬度會使得顯示區(qū)域中有效的透光面積減少，從而導致顯示亮度減??；柵極層中增加并聯(lián)的柵極信號線會使得柵極信號線之間的距離較小，使得柵極信號線之間的耦合電容增加，從而加劇RC延遲影響程度。以上兩種方法都會產生比較嚴重的消極影響，不適用于改進顯示裝置的畫面閃爍不均勻現(xiàn)象。因此，針對改善顯示裝置的畫面閃爍不均勻問題的研究尤為必要。

技術實現(xiàn)要素：

針對以上的問題，本發(fā)明的目的是提供一種陣列基板和顯示裝置，通過在非柵極層中增加與柵極信號線并聯(lián)的金屬段來減少柵極信號線的整體電阻，從而改進柵極信號線上的RC延遲，改善顯示裝置畫面閃爍不均勻的問題。

為了解決背景技術中存在的問題，第一方面，本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板，所述陣列基板包括層疊設置的柵極層、第一金屬層及位于所述柵極層和所述第一金屬層之間的第一絕緣層，所述第一絕緣層用于使所述柵極層和所述第一金屬層絕緣，所述柵極層包括柵極信號線，所述第一金屬層包括第一金屬線，所述柵極信號線與所述第一金屬線在所述陣列基板厚度方向上的投影相交，所述第一金屬層還包括多段第一金屬段，每段所述第一金屬段位于相鄰的兩條所述第一金屬線之間，且所述第一金屬段的兩端與所述第一金屬線形成斷路，所述第一金屬段的兩端與所述柵極信號線電連接。

進一步地，所述陣列基板還包括多個第一通孔，所述第一通孔的一端連接于所述第一金屬段的一端，另一端連接所述柵極信號線，使得所述第一金屬段與所述柵極信號線并聯(lián)。

優(yōu)選的，每條所述第一金屬段的長度和寬度相同。

優(yōu)選的，所述第一金屬段的寬度與所述柵極信號線的寬度相同，所述第一金屬段與所述柵極信號線在所述陣列基板厚度方向上的投影相重合。

結合第一方面的第一種實施方式，在第二種實施方式中，所述陣列基板還包括位于所述第一金屬層上且依次層疊設置第二絕緣層、透明電極層和第二金屬層，所述第二絕緣層用于絕緣所述第一金屬層和所述透明電極層，所述第二金屬層包括第二金屬線，所述第二金屬線與所述第一金屬線在所述陣列基板厚度方向上的投影相重疊，所述第二金屬層還包括多段第二金屬段，每段第二金屬段位于相鄰的兩條所述第二金屬線之間，且所述第二金屬段的兩端與所述第二金屬線形成斷路，所述第二金屬段的兩端與所述柵極信號線電連接。

結合第一方面的第一種實施方式，第三種實施方式中，所述陣列基板還包括位于所述第一金屬層上且依次層疊設置第二絕緣層、第二金屬層和透明電極層，所述第二絕緣層用于絕緣所述第一金屬層和所述第二金屬層，所述第二金屬層包括第二金屬線，所述第二金屬線與所述第一金屬線在所述陣列基板厚度方向上的投影相重疊，所述第二金屬層還包括多段第二金屬段，每段第二金屬段位于相鄰的兩條所述第二金屬線之間，且所述第二金屬段的兩端與所述第二金屬線形成斷路，所述第二金屬段的兩端與所述柵極信號線電連接。

進一步地，所述陣列基板還包括多個第二通孔，所述第二通孔一端連接于所述第二金屬段的一端，另一端連接所述柵極信號線，使得所述第二金屬段與所述柵極信號線并聯(lián)。

優(yōu)選的，所述第二金屬段的長度與所述第一金屬段長度相同，所述第二金屬段與所述第一金屬段在所述陣列基板厚度方向上的投影相重疊，所述第二通孔的一端連接所述第二金屬段的一端，經(jīng)過所述第一金屬段的一端，另一端連接所述柵極信號線，使得所述第二金屬段、所述第一金屬段與所述柵極信號線并聯(lián)。

優(yōu)選的，所述第二金屬段、所述第一金屬段與所述柵極信號線的寬度相同，且所述第二金屬段、所述第一金屬段與所述柵極信號線在所述陣列基板厚度方向上的投影相重合。

第二方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示裝置，包括以上所述的陣列基板。

本發(fā)明實施例針對柵極信號線由于RC延遲造成的顯示裝置畫面閃爍不均勻問題，通過在非柵極層中設置金屬段來減少柵極信號線的整體電阻，從而改進柵極信號線上的RC延遲，這樣的設計不會額外增加顯示裝置的大小，且并聯(lián)金屬段與柵極信號線的間距相對較大，產生的耦合電容較小，不會造成加劇RC延遲。此外，本發(fā)明實施例設置上述的金屬段與柵極信號線在陣列基板厚度方向上的投影重合，則顯示區(qū)域的透光面積和顯示裝置的亮度不會受到并聯(lián)金屬段的影響。本發(fā)明實施例結合以上兩方面的設計，在不影響顯示區(qū)域的透光面積和不改變顯示裝置大小的情況下，減少了柵極信號線的整體電阻，進而改進了柵極信號線的RC延遲影響，改善了顯示裝置的畫面閃爍不均勻的問題。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明實施例提供的一種陣列基板截面結構示意圖。

圖2是圖1中第一金屬層的平面結構示意圖。

圖3是本發(fā)明第一種實施例提供的顯示裝置截面結構示意圖。

圖4是本發(fā)明第二種實施例提供的顯示裝置截面結構示意圖。

圖5是本發(fā)明實施例提供的一種陣列基板截面結構示意圖。

圖6是圖5中第二金屬層的平面結構示意圖。

圖7是本發(fā)明第三種實施例提供的顯示裝置截面結構示意圖。

圖8是本發(fā)明實施例提供的一種陣列基板截面結構示意圖。

圖9是本發(fā)明第四種實施例提供的顯示裝置的截面結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。

請參閱圖1，圖1是本發(fā)明實施例提供的一種陣列基板截面結構示意圖。一種陣列基板10，包括疊層設置的基板101、柵極層102、第一金屬層104及第一絕緣層103。所述基板101用于支撐和保護所述的柵極層102。第一絕緣層103位于所述柵極102和所述第一金屬層104之間，用于使所述柵極層102與所述第一金屬層104絕緣。所述柵極層102包括多條柵極信號線1021，所述柵極信號線1021可以為平行分布。所述第一金屬層104包括多條第一金屬線1041，所述第一金屬線1041可以為平行分布。所述柵極信號線1021與所述第一金屬線1041在所述陣列基板10厚度方向上的投影相交，進一步地，所述柵極信號線1021與所述第一金屬線1041在所述陣列基板10厚度方向上的投影可以相垂直。

請參閱圖2，圖2是圖1中第一金屬層的平面結構示意圖。所述第一金屬層104還包括多段第一金屬段1042，每段所述第一金屬段1042位于相鄰的兩條所述第一金屬線1041之間，且所述第一金屬段1042的兩端與所述第一金屬線1041形成斷路。多段第一金屬段1042可以呈陣列分布，被多條所述第一金屬線1041劃分成多列。在一種實施方式中，所述第一金屬段1042的方向可與所述第一金屬線1041的方向相垂直，且所述第一金屬段1042與所述柵極信號線1021平行，即所述第一金屬段1042與所述柵極信號線1021在所述陣列基板10厚度方向上的投影相重疊。

所述第一金屬段1042的兩端與所述柵極信號線1021電連接。一種實施方式中，請參閱圖1，所述陣列基板10還包括多個第一通孔113，所述第一通孔113可以是陣列分布的，所述第一通孔113的一端連接于所述第一金屬段1042的一端，穿過所述第一絕緣層103，另一端連接所述柵極信號線1021。第一通孔113中可填充導電物質，使得所述第一金屬段1042與所述柵極信號線1021電連接，具體為并聯(lián)連接。在其他實施方式中，還可通過金屬線或者其他方式實現(xiàn)所述第一金屬段1042與所述柵極信號線1021并聯(lián)。

本發(fā)明實施例通過對所述柵極信號線并聯(lián)第一金屬段，降低所述柵極信號線的整體電阻。所述第一金屬段和所述第一通孔可為陣列分布，一方面與第一金屬層中的空余空間相對應；另一方面可在所述柵極信號線的相同位置并列第一金屬段且每條柵極信號線并聯(lián)的第一金屬段數(shù)量相同，這樣可以減小每條所述柵極信號線的電阻差異，整個柵極層中的電阻均勻性更好，從而使得柵極信號線受到RC延遲影響的程度減少。

優(yōu)選的，每條所述第一金屬段1042的長度和寬度可以相同，這樣可以減少每條所述的第一金屬段1042的電阻差異，從而確保每條并聯(lián)第一金屬段后的柵極信號線的電阻差異減小，整個柵極層中的電阻均勻性更好，從而使得柵極信號線受到RC延遲影響的程度減少。

優(yōu)選的，所述第一金屬段1042的寬度與所述柵極信號線1021的寬度可以相同，所述第一金屬段與所述柵極信號線在所述陣列基板厚度方向上的投影相重合，可以減少所述第一金屬段對顯示區(qū)域有效的透光面積和陣列基板開口率的影響。

一種實施方式中，所述陣列基板可為薄膜晶體管(TFT)陣列基板，所述第一金屬層為源極層，所述第一金屬線為源極信號線。本發(fā)明實施方式充分利用所述TFT陣列基板源極層中的空余空間布置所述第一金屬段，不用額外增加金屬層或改變所述TFT陣列基板的大小和厚度，適于TFT陣列基板的小型化；同時所述第一金屬段與所述柵極信號線在所述陣列基板厚度方向上的投影相重疊，減少了所述第一金屬段對顯示區(qū)域有效的透光面積和TFT陣列基板開口率的影響；通過在每條柵極信號線上并聯(lián)第一金屬段，減少柵極信號線的整體電阻，從而改善柵極信號線上的RC延遲。

本發(fā)明實施例提供了一種顯示裝置，包括上述實施方式中的陣列基板10。通過以下實施例對本發(fā)明提供的一種顯示裝置進行具體描述。

第一種實施例：

請參閱圖3，圖3是本發(fā)明第一種實施例提供的一種顯示裝置截面結構示意圖。所述顯示裝置可以為薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)，包括上述的陣列基板10。所述第一金屬層104是源極層，所述第一金屬線1041是源極信號線。所述源極信號線1041與所述柵極信號線1021在所述基板上的投影正交。所述柵極層102包括陣列分布的薄膜晶體管柵極(圖中未示出)及多條柵極信號線1021，所述柵極信號線1021連接著行排布的所述柵極，一端與驅動電路連接，用于控制顯示裝置的像素電壓。所述柵極信號線可以是Al合金層或Al合金與MoNb、Ti等疊層。在所述基板上濺射金屬層后，通過光刻、刻蝕等工藝得到所述柵極信號線布線。為了讓所述柵極層102與所述源極層104絕緣，在完成柵極層后，通過化學氣相沉積(CVD)工藝涂覆一層SiNx絕緣層，即為第一絕緣層103，用于使柵極層和源極層絕緣。

所述源極層104包括陣列排布的薄膜晶體管源極(圖中未示出)及多條源極信號線1041，所述源極信號線1041與列排布的所述源極電連接。所述源極信號線的制造工藝可以與所述柵極信號線的制造工藝相同。所述源極信號線可以是Mo或Cr單層結構，也可以是Mo/Al/Mo或Ti/Al/Ti三層金屬疊層結構。

請一并參閱圖1和圖3，在顯示裝置中，所述陣列基板10還包括位于第一金屬層104上且依次疊層設置的第二絕緣層105、透明電極層106、第三絕緣層107、像素電極層110。所述第二絕緣層105設置在所述TFT陣列基板10與透明電極層106之間，用于使所述TFT陣列基板10與透明電極層106之間絕緣。所述第三絕緣層107設置在所述透明電極層106與像素電極層110之間，用于使所述透明電極層106與像素電極層110之間絕緣。所述顯示裝置還包括位于陣列基板上的液晶分子層111、彩膜基板112。所述液晶分子層111通過扭轉可以控制射出顯示屏的光線亮度。所述彩膜基板112結合液晶分子層111可調節(jié)三原色的光量，得到所需要的彩色顯示。

本發(fā)明實施例通過在源極層的源極信號線之間設置多段第一金屬段，并使得第一金屬段與柵極信號線相并聯(lián)，達到減少柵極信號線整體電阻的效果，從而減少柵極信號線上的RC延遲，改善薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)中的柵極信號線由于RC延遲造成的畫面閃爍不均勻的問題。

第二種實施例：

請參閱圖4，圖4是本發(fā)明第二種實施例提供的一種顯示裝置的截面結構示意圖。顯示裝置可為內嵌式觸摸屏，與傳統(tǒng)的TFT-LCD相比，內嵌式觸摸屏在透明電極層106和像素電極層110之間增加了第二金屬層108和第四絕緣層109。所述第二金屬層108包括第二金屬線1081，用于觸屏驅動與觸摸傳感器模塊之間的電連接。可將透明電極層106分割成多個獨立的觸摸傳感器模塊。所述第二金屬層108為觸摸線層，第二金屬線1081為觸摸信號線。為了不影響顯示區(qū)域有效透光面積，所述的觸摸線層108中的觸摸信號線1081設置為與源極信號線1041平行。所述顯示裝置還包括位于陣列基板上的液晶分子層111、彩膜基板112。

本發(fā)明實施例通過在源極層的源極信號線之間設置多段第一金屬段，并使得第一金屬段與柵極信號線相并聯(lián)，達到減少柵極信號線整體電阻的效果，從而減少柵極信號線上的RC延遲，改善內嵌式觸摸屏中的柵極信號線由于RC延遲造成的畫面閃爍不均勻的問題。

為了進一步改善畫面閃爍不均勻問題，對于內嵌式觸摸屏，本發(fā)明實施例提出可通過在第二金屬層中設置多段第二金屬段，并與柵極信號線并聯(lián)，從而進一步減少柵極信號線整體電阻，從而減少柵極信號線上的RC延遲。具體見一下實施方式。

請參閱圖5，圖5是本發(fā)明實施例提供的陣列基板截面結構示意圖。一種實施方式中，陣列基板10還包括位于所述第一金屬層104上且依次層疊設置第二絕緣層105、透明電極層106和第二金屬層108。所述第二絕緣層105用于使所述第一金屬層104和所述透明電極層106絕緣。所述第二金屬層108與所述透明電極層106之間設有第三絕緣層107。所述第二金屬層108包括第二金屬線1081，所述第二金屬線1081與所述第一金屬線1041在所述陣列基板厚度方向上的投影相重疊。所述第二金屬層108還包括多段第二金屬段1082，每段第二金屬段1082位于相鄰的兩條所述第二金屬線1081之間，且所述第二金屬段1082的兩端與所述第二金屬線1081形成斷路，所述第二金屬段1082的兩端與所述柵極信號線1021電連接。

圖6是圖5中第二金屬層的平面結構示意圖。所述陣列基板還包括多個第二通孔114，所述第二通孔114可以是陣列分布的，所述第二通孔114的一端連接于所述第二金屬段1082的一端，依次穿過所述第三絕緣層107、透明導電層106、第二絕緣層105、源極層104、第一絕緣層103，另一端連接所述柵極信號線1021。第二通孔114中可填充導電物質，使得所述第二金屬段1082與所述柵極信號線1021并聯(lián)。在其他實施方式中，還可通過金屬線或者其他方式實現(xiàn)所述第二金屬段1082與所述柵極信號線1021并聯(lián)。

本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，包括上述的實施方式中的陣列基板10。通過以下實施例對本發(fā)明提供的一種顯示裝置進行具體描述。

第三種實施例：

圖7是本發(fā)明第三種實施例提供的顯示裝置截面結構示意圖。請一并參閱圖5和圖7，顯示裝置可為內嵌式觸摸屏，包括上述的實施方式中的陣列基板10，還包括位于第二金屬層108上的第四絕緣層109和像素電極層110。所述第四絕緣層109用于使所述像素電極層110和所述第二金屬層108之間絕緣。所述第二金屬層108包括第二金屬線1081，用于觸屏驅動與觸摸傳感器模塊之間的電連接?？蓪⑼该麟姌O層106分割成多個獨立的觸摸傳感器模塊。所述第二金屬層108為觸摸線層，第二金屬線1081為觸摸信號線。為了不影響顯示區(qū)域有效透光面積，所述的觸摸線層108中的觸摸信號線1081設置為與源極信號線1041平行。所述顯示裝置還包括位于陣列基板上的液晶分子層111、彩膜基板112。

本發(fā)明實施例通過在觸摸線層的觸摸信號線之間及源極層的源極信號線之間分別設置多段第二金屬段和多段第一金屬段，并使得第二金屬段、第一金屬段與柵極信號線相并聯(lián)，可充分利用顯示裝置中的空余空間，進一步地減少柵極信號線整體電阻，從而減少柵極信號線上的RC延遲，改善所述內嵌式觸摸屏中的柵極信號線由于RC延遲造成的畫面閃爍不均勻的問題。

為了方便在陣列基板中設置第二金屬段，及減少第二金屬段和第二通孔對于其他層的影響，本發(fā)明實施例對于陣列基板的結構進行了進一步的改進，詳見以下實施方式。

圖8是本發(fā)明實施例提供的一種陣列基板截面結構示意圖。一種實施方式中，為了減少第二通孔對于透明導電層的影響，本申請?zhí)岢鰧㈥嚵谢逯械牡诙饘賹?08與透明電極層106互換位置。換后的陣列基板結構如圖8所示，陣列基板包括位于所述第一金屬層104上且依次層疊設置第二絕緣層105、第二金屬層108、第三絕緣層107和透明電極層106。所述第二絕緣層105用于使所述第一金屬層104和所述第二金屬層108絕緣，第三絕緣層107用于使所述第二金屬層108與所述透明電極層106之間絕緣。所述第二金屬層108包括第二金屬線1081，所述第二金屬線1081與所述第一金屬線1041在所述陣列基板厚度方向上的投影相重疊，所述第二金屬線1081電連接于所述透明電極層106。

所述第二金屬層108還包括多段第二金屬段1082，每段所述第二金屬段1082位于相鄰的兩條所述第二金屬線1081之間，且所述第二金屬段1082的兩端與所述第二金屬線1081形成斷路。多段第二金屬段1082可以呈陣列分布，被多條所述第二金屬線1081劃分成多列。在一種實施方式中，所述第二金屬段1082方向可與所述第二金屬線1081方向垂直，且所述第二金屬段1082與所述柵極信號線1021平行，所述第二金屬段1082與所述柵極信號線1021在所述陣列基板厚度方向上的投影相重疊。所述第二金屬段1082的兩端與所述柵極信號線1021電連接。

所述陣列基板還包括多個第二通孔114，所述第二通孔114可以是陣列分布的，所述第二通孔114的一端連接于所述第二金屬段1082的一端，穿過第二絕緣層105、源極層104、第一絕緣層103，另一端連接所述柵極信號線1021。第二通孔114中可填充導電物質，使得所述第二金屬段1082與所述柵極信號線1021并聯(lián)。在其他實施方式中，還可通過金屬線或者其他方式實現(xiàn)所述第二金屬段1082與所述柵極信號線1021并聯(lián)。

優(yōu)選的，每條所述第二金屬段1082的長度和寬度可以相同。進一步地，所述第二金屬段1082的長度可與所述第一金屬段1042的長度可以相同，且所述第二金屬段1082與所述第一金屬段1042在所述陣列基板厚度方向上的投影相重疊，所述第二通孔114的一端連接所述第二金屬段1082的一端，經(jīng)過所述第一金屬段1042的一端，另一端連接所述柵極信號線1021，使得所述第二金屬段1082、所述第一金屬段1042與所述柵極信號線1021并聯(lián)。這樣可以減小金屬段電阻差異，從而確保每條并聯(lián)金屬段后的柵極信號線的電阻差異減小，整個柵極層中的電阻均勻性更好，從而使得柵極信號線受到RC延遲影響的程度減少。

進一步地，所述第二金屬段、所述第一金屬段與所述柵極信號線的寬度可以相同，這樣可以促使所述第一金屬段、第二金屬段與所述柵極信號線在所述陣列基板厚度方向上的投影相重合，從而減少了所述第一金屬段、第二金屬段對顯示區(qū)域有效的透光面積和陣列基板開口率的影響。

本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，包括上述的實施方式中的陣列基板10。通過以下實施例對本發(fā)明提供的一種顯示裝置進行具體描述。

第四種實施例：

圖9是本發(fā)明實施例提供的顯示裝置的截面結構示意圖。請一并參閱圖8和圖9，顯示裝置可為內嵌式觸摸屏，包括上述的實施方式中的陣列基板10，還包括位于透明電極層106上的第四絕緣層109和像素電極層110。所述第四絕緣層109用于使所述像素電極層110和所述第二金屬層108之間絕緣。所述第二金屬層108包括第二金屬線1081，用于觸屏驅動與觸摸傳感器模塊之間的電連接。可將透明電極層106分割成多個獨立的觸摸傳感器模塊。所述第二金屬層108為觸摸線層，第二金屬線1081為觸摸信號線。為了不影響顯示區(qū)域有效透光面積，所述的觸摸線層108中的觸摸信號線1081設置為與源極信號線1041平行。所述顯示裝置還包括位于陣列基板上的液晶分子層111、彩膜基板112。

一種實施方式中，可設置所述第一金屬段、第二金屬段、所述第一通孔和所述第二通孔為陣列分布，一方面與陣列基板源極層及觸摸線層中的空余空間相對應；另一方面可在所述柵極信號線的相同位置并列金屬線，且并列的所述第一金屬段和第二金屬段的數(shù)量相同，可減少每條所述柵極信號線的電阻差異，整個柵極層中的電阻均勻性更好，從而使得柵極信號線受到RC延遲影響的程度減少。

本發(fā)明實施例通過在觸摸線層的觸摸信號線之間及源極層的源極信號線之間分別設置第二金屬段和第一金屬段，使得第二金屬段、第一金屬段與柵極信號線相并聯(lián)，且第二金屬段、第一金屬段與柵極信號線在所述陣列基板厚度方向上的投影相重合，不僅減少了所述第一金屬段、第二金屬段對顯示區(qū)域有效的透光面積和陣列基板開口率的影響，而且達到減少柵極信號線整體電阻的效果，從而減少柵極信號線上的RC延遲，改善所述內嵌式觸摸屏中的柵極信號線由于RC延遲造成的畫面閃爍不均勻的問題。

綜上所述，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，但該較佳實施例并非用以限制本發(fā)明，該領域的普通技術人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內，均可作各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍以權利要求界定的范圍為準。

以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也視為本發(fā)明的保護范圍。