技術(shù)特征：

1.一種板條激光增益介質(zhì)，其特征在于，包括：復(fù)合區(qū)，及分別位于所述復(fù)合區(qū)左右兩端的兩個(gè)非摻雜區(qū)；所述復(fù)合區(qū)包括三層，由上到下依次為上摻雜層、非摻雜層及下?lián)诫s層；

所述非摻雜區(qū)及所述非摻雜層均由未摻雜激活離子的基質(zhì)材料構(gòu)成；

所述上摻雜層和所述下?lián)诫s層均由摻雜激活離子的基質(zhì)材料構(gòu)成，在所述上摻雜層和所述下?lián)诫s層中所述激活離子具有多種摻雜濃度。

2.如權(quán)利要求1所述的板條激光增益介質(zhì)，其特征在于，所述板條激光增益介質(zhì)的縱剖面為梯形或平行四邊形的板條狀結(jié)構(gòu)；所述板條激光增益介質(zhì)中的所述復(fù)合區(qū)為立方體結(jié)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求1所述的板條激光增益介質(zhì)，其特征在于，在所述上摻雜層和所述下?lián)诫s層中激活離子的摻雜濃度為連續(xù)漸變或區(qū)域階變。

4.如權(quán)利要求1所述的板條激光增益介質(zhì)，其特征在于，所述上摻雜層和所述下?lián)诫s層的厚度均小于等于1mm，所述非摻雜層的厚度大于等于3mm。

5.如權(quán)利要求1所述的板條激光增益介質(zhì)，其特征在于，所述基質(zhì)材料選取激光晶體、激光玻璃或激光陶瓷中的一種；

所述激活離子選取Nd³⁺、Er³⁺、Yb³⁺、Tm²⁺中的任意一種。

6.一種權(quán)利要求1～5任一項(xiàng)所述的板條激光增益介質(zhì)的制備方法，其特征在于，當(dāng)所述基質(zhì)材料為激光晶體時(shí)，包括以下步驟：

將若干個(gè)摻雜單晶板的端面進(jìn)行鍵合，得到激活離子具有多種摻雜濃度的單晶板；其中，所述摻雜單晶板為摻雜有激活離子的激光晶體；

將所述具有多種摻雜濃度的單晶板進(jìn)行切割和拋光，分別得到上摻雜層和下?lián)诫s層；

選擇第一非摻雜單晶板，將所述上摻雜層的水平面與所述第一非摻雜單晶板的水平面進(jìn)行鍵合；

將所述第一非摻雜單晶板非鍵合的水平面進(jìn)行減薄后精拋光，并與所述下?lián)诫s層的水平面進(jìn)行鍵合，得到復(fù)合區(qū)，將復(fù)合區(qū)的左右兩端進(jìn)行拋光；

選擇兩個(gè)第二非摻雜單晶板，將兩個(gè)所述第二非摻雜單晶板分別與所述復(fù)合區(qū)的左右兩端進(jìn)行端面鍵合，并進(jìn)行拋光和切割。

7.一種權(quán)利要求1～5任一項(xiàng)所述的板條激光增益介質(zhì)的制備方法，其特征在于，當(dāng)所述基質(zhì)材料為激光陶瓷時(shí)，包括以下步驟：

選擇若干個(gè)非摻雜陶瓷坯料、及若干個(gè)摻雜陶瓷坯料；

將若干個(gè)所述非摻雜陶瓷坯料和摻雜陶瓷坯料按照權(quán)利要求1～5任一項(xiàng)所述的板條激光增益介質(zhì)的結(jié)構(gòu)壓合在一起，進(jìn)行燒結(jié)成型后，切割、減薄和精拋光。