技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┝艘环N黑膜的制作方法、黑膜以及發(fā)光器件。該制作方法包括：步驟S1，采用黑色光刻膠制作第一個黑膜層；步驟S2，在第一個黑膜層的一個表面上依次制作第二個至第N個黑膜層，且使得第一個黑膜層的覆蓋區(qū)域與設(shè)置在第一個黑膜層上的各個黑膜層的覆蓋區(qū)域一一對應(yīng)，第一個黑膜層與設(shè)置在第一個黑膜層上的N?1個黑膜層形成黑膜，且N≥2；步驟S3，采用等離子體刻蝕法對黑膜的表面形貌進行處理，使得黑膜的表面平整。該制作方法能夠制作得到較厚的黑膜，且黑膜的表面形貌較好，表面較平整。

技術(shù)研發(fā)人員：田慶海
受保護的技術(shù)使用者：納晶科技股份有限公司
文檔號碼：201611180633
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.19
技術(shù)公布日：2017.05.10