本發(fā)明涉及觸控顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種觸控顯示面板及其制作方法、觸控顯示裝置。

背景技術(shù)：

目前，集成觸控功能的有機(jī)發(fā)光二極(Organic Light Emitting Diode，OLED)顯示屏成為當(dāng)下高端智能產(chǎn)品追求采用的熱點(diǎn)。

現(xiàn)有技術(shù)中，集成觸控功能的OLED觸摸顯示裝置觸摸顯示區(qū)域以及外圍引線區(qū)域，在觸摸顯示區(qū)域設(shè)置有顯示像素單元以及觸摸傳感電極，外圍引線區(qū)域設(shè)置有信號(hào)引出線和觸控電極引出線，信號(hào)引出線用于為顯示像素提供顯示信號(hào)，觸控電極引出線為觸摸傳感電極傳輸觸控信號(hào)?，F(xiàn)有觸摸傳感電極通常外掛于顯示面板的外部，造成顯示面板厚度的增加，不利于用戶的使用體驗(yàn)，當(dāng)觸摸傳感電極集成于顯示面板內(nèi)部，信號(hào)引線和觸控電極引出線之間由于距離較近，會(huì)產(chǎn)生較大的寄生電容，對顯示和觸控同時(shí)會(huì)造成不利影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種觸控顯示面板及其制作方法、觸控顯示裝置，用以減少外圍引線區(qū)中信號(hào)引出線和觸控電極引出線之間的寄生電容。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種觸控顯示面板，包括顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的外圍引線區(qū)；

基板；

設(shè)置于所述基板之上呈陣列排布的薄膜晶體管，以及與所述薄膜晶體管電連接的信號(hào)引出線；

覆蓋所述薄膜晶體管以及所述信號(hào)引出線的鈍化層；

觸摸傳感器；

在所述外圍引線區(qū)域，所述鈍化層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)具有觸控電極引出線，所述觸控電極引出線電連接所述觸摸傳感器，其中，所述信號(hào)引出線與所述觸控電極引出線在所述基板所在平面上的正投影具有交疊，且在具有所述交疊的區(qū)域，所述信號(hào)引出線和所述觸控電極引出線之間包括絕緣層，所述絕緣層包括至少一層有機(jī)層。

相應(yīng)地，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控顯示裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述任一種的觸控顯示面板。

相應(yīng)地，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控顯示面板的制作方法，所述觸控顯示面板包括顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的外圍引線區(qū)域，所述制作方法包括：

提供一基板；

在所述基板之上形成呈陣列排布的薄膜晶體管，以及與所述薄膜晶體管電連接的信號(hào)引出線；

形成鈍化層，所述鈍化層覆蓋所述薄膜晶體管以及所述信號(hào)引出線；

形成絕緣層，所述絕緣層包括至少一層有機(jī)層，所述絕緣層形成于所述鈍化層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)；

形成觸摸傳感器；

形成觸控電極引出線，所述觸控電極引出線電連接所述觸摸傳感器；

其中，所述信號(hào)引出線與所述觸控電極引出線在所述基板所在平面上的正投影具有交疊，且在具有所述交疊的區(qū)域，所述信號(hào)引出線和所述觸控電極引出線之間包括所述絕緣層。

本發(fā)明有益效果如下：

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控顯示面板及其制作方法、觸控顯示裝置，所述觸控顯示面板包括顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的外圍引線區(qū)；基板；設(shè)置于所述基板之上呈陣列排布的薄膜晶體管，以及與所述薄膜晶體管電連接的信號(hào)引出線；覆蓋所述薄膜晶體管以及所述信號(hào)引出線的鈍化層；觸摸傳感器；在所述外圍引線區(qū)域，所述鈍化層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)具有觸控電極引出線，所述觸控電極引出線電連接所述觸摸傳感器，其中，所述信號(hào)引出線與所述觸控電極引出線在所述基板所在平面上的正投影具有交疊，且在具有所述交疊的區(qū)域，所述信號(hào)引出線和所述觸控電極引出線之間包括絕緣層，所述絕緣層包括至少一層有機(jī)層。因此，本發(fā)明實(shí)施例中通過在外圍引線區(qū)域，在信號(hào)引出線與觸控電極引出線在基板所在平面上的正投影具有交疊的區(qū)域增設(shè)絕緣層，且絕緣層至少包括一層有機(jī)層。從而使得在具有交疊的區(qū)域除了具有鈍化層之外，還具有絕緣層，從而增加了交疊區(qū)域的厚度，進(jìn)一步減少了觸控電極引出線與信號(hào)引出線之間的寄生電容。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的第一種觸控顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的第二種觸控顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種觸控顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種電極絕緣層的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種觸控顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種觸控顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控顯示面板的制作方法的流程示意圖；

圖8(a)-圖8(d)分別為本發(fā)明實(shí)施例四提供的一種觸控顯示面板的制作方法在每個(gè)步驟執(zhí)行后的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種觸控顯示面板及其制作方法、觸控顯示裝置，用以減少外圍引線區(qū)中信號(hào)引出線和觸控電極引出線之間的寄生電容。

下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控顯示面板及其制作方法、觸控顯示裝置的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說明。

附圖中各膜層的厚度和形狀不反映真實(shí)比例，目的只是示意說明本發(fā)明內(nèi)容。

下面詳細(xì)描述本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控顯示面板的結(jié)構(gòu)。參見圖1，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控顯示面板，包括顯示區(qū)域A和包圍顯示區(qū)域的外圍引線區(qū)B；基板10；設(shè)置于基板10之上呈陣列排布的薄膜晶體管，薄膜晶體管依次包括設(shè)置在基板上的半導(dǎo)體有源層02，其中半導(dǎo)體有源層中包括通過摻雜N型雜質(zhì)離子或P型雜質(zhì)離子而形成的源極區(qū)域和漏極區(qū)域，以及位于源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間的區(qū)域不摻雜雜質(zhì)的溝道區(qū)域；在半導(dǎo)體有源層02上形成柵極絕緣層03、柵極04和層間絕緣層05，且在層間絕緣層05上形成源極06和漏極07的圖形，源極06和漏極07分別通過柵極絕緣層03和層間絕緣層05中的接觸孔電連接半導(dǎo)體有源層中的源極區(qū)域和漏極區(qū)域。信號(hào)引出線12與薄膜晶體管電連接，信號(hào)引出線包括與薄膜晶體管的柵極連接的掃描線以及與薄膜晶體管的源極連接的數(shù)據(jù)線。

鈍化層08覆蓋薄膜晶體管以及信號(hào)引出線12；觸控顯示面板還包括發(fā)光單元17，覆蓋發(fā)光單元的薄膜封裝層18。發(fā)光單元17包括設(shè)置在鈍化層08上方的第一電極層171，發(fā)光層172和第二電極層173。其中，第一電極層171通過鈍化層中的接觸孔與源極06或者漏極07電連接(圖1中第一電極層171與漏極電連接)。其中，發(fā)光層可以由低分子量有機(jī)材料或高分子材料形成，發(fā)光層包括有機(jī)發(fā)射層，還可以包括空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、電子傳輸層(ETL)和電子注入層(EIL)中的至少一個(gè)。其中，第一電極層和第二電極層可以為透明電極，或者為反射電極。第一電極層為透明電極時(shí)，可以包括氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)或氧化銦(In2O3)等；當(dāng)?shù)谝浑姌O層為反射電極時(shí)，反射層可以由Ag、鎂(Mg)、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、銥(Ir)、Cr或者它們的混合物形成，并且ITO、IZO、ZnO或In2O3等可以形成在該反射層上；第二電極層為透明電極時(shí)，可以包括如鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰/鈣(LiF/Ca)、氟化鋰/鋁(LiF/Al)、鋁(Al)、鎂(Mg)或它們的組合的化合物，也可以通過蒸發(fā)初始沉積在發(fā)光層上，并且諸如ITO、IZO、ZnO或In2O3等的透明電極形成材料可以沉積在該化合物上；當(dāng)?shù)诙姌O為反射電極時(shí)，可以通過在基板的整個(gè)表面上采用Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Mg或它們的混合物蒸發(fā)來形成第二電極層。

本發(fā)明實(shí)施例中的發(fā)光單元呈陣列排布，且每一發(fā)光單元與一個(gè)薄膜晶體管電連接。薄膜封裝層覆蓋發(fā)光單元，用以避免發(fā)光單元被外界空氣或者水分破壞，且薄膜封裝層覆蓋觸控顯示面板的顯示區(qū)域以及部分外圍引線區(qū)域。薄膜封裝層位于發(fā)光單元17上方，薄膜封裝層保護(hù)發(fā)光層和其它薄層免受外部濕氣和氧等的影響。較佳地，薄膜封裝層包括無機(jī)層和有機(jī)層，或者無機(jī)層和有機(jī)層交錯(cuò)堆疊。具體地，參見圖1，在觸控顯示面板的邊框區(qū)域還包括阻擋墻20，薄膜封裝層覆蓋阻擋墻20，確保發(fā)光單元的密封性，且信號(hào)引出線位于阻擋墻的左側(cè)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸顯示面板包括觸摸傳感器14；在外圍引線區(qū)域，鈍化層遠(yuǎn)離基板的一側(cè)具有觸控電極引出線15，觸控電極引出線15電連接觸摸傳感器14，其中，信號(hào)引出線12與觸控電極引出線15在基板所在平面上的正投影具有交疊，且在具有交疊的區(qū)域，信號(hào)引出線12和觸控電極引出線15之間包括絕緣層16，絕緣層包括至少一層有機(jī)層。

本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控顯示面板信號(hào)引出線和觸控電極引出線之間包括絕緣層，絕緣層包括至少一層有機(jī)層。相比現(xiàn)有技術(shù)中，在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有交疊的區(qū)域只有鈍化層，本發(fā)明實(shí)施例中通過在外圍引線區(qū)域，在信號(hào)引出線與觸控電極引出線在基板所在平面上的正投影具有交疊的區(qū)域增設(shè)絕緣層，且絕緣層至少包括一層有機(jī)層。從而使得在具有交疊的區(qū)域除了具有鈍化層之外，還具有有機(jī)層，且由于有機(jī)層的厚度較厚，從而進(jìn)一步增加了交疊區(qū)域的厚度，減少了觸控電極引出線與信號(hào)引出線之間的寄生電容。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板中，觸摸傳感器可以直接形成于薄膜封裝層的表面。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板中，參見圖1，在觸控顯示面板的顯示區(qū)域，包括設(shè)置于鈍化層08和薄膜封裝層18之間的平坦化層19以及像素定義層120，平坦化層19和像素定義層120為有機(jī)層；參見圖2，觸摸傳感器包括電極絕緣層141，第一導(dǎo)電層142和第二導(dǎo)電層143，電極絕緣層141位于第一導(dǎo)電層142和第二導(dǎo)電層143之間。其中，平坦化層19設(shè)置在鈍化層08和第一電極層171之間，像素定義層120設(shè)置在第一電極層171和發(fā)光層172之間，且像素定義層120設(shè)置在平坦化層19上方以及覆蓋第一電極層171的邊緣區(qū)域。其中，第一電極層171通過鈍化層08和平坦化層19中的接觸孔與漏極07電連接。平坦化層包括壓克力、聚酰亞胺(PI)或苯并環(huán)丁烯(BCB)等的有機(jī)層。像素定義層包括聚酰亞胺(PI)、聚酰胺、苯并環(huán)丁烯(BCB)、壓克力樹脂或酚醛樹脂等的有機(jī)材料。電極絕緣層由有機(jī)材料制作或者無機(jī)材料制作。

其中，觸摸傳感器包括同層設(shè)置的觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極，或者異層結(jié)構(gòu)設(shè)置的觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極，圖2中僅以同層設(shè)置的觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極為例進(jìn)行畫圖示意，但不限于圖2包括的結(jié)構(gòu)。

具體地，本發(fā)明實(shí)施例中的絕緣層中包括至少一層有機(jī)層，包括絕緣層中包括一層有機(jī)層，或者兩層有機(jī)層，或者三層有機(jī)層，或者更多，在實(shí)際應(yīng)用中并不是越多越好，因此，本發(fā)明實(shí)施例中僅以絕緣層包括一層有機(jī)層，或者兩層有機(jī)層，或者三層有機(jī)層為例進(jìn)行舉例說明。進(jìn)一步地，為了減少制作外圍引線區(qū)中絕緣層的有機(jī)層的步驟，可以在形成觸控顯示區(qū)域的像素定義層、平坦層或者電極絕緣層時(shí)形成絕緣層的結(jié)構(gòu)。下面將以具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。

實(shí)施例一

實(shí)施例一中僅以絕緣層包括一層有機(jī)層的情況為例進(jìn)行詳細(xì)描述，但不局限于絕緣層僅包括一層有機(jī)層。

具體地，絕緣層與平坦化層、像素定義層、電極絕緣層之中的任意一層在同一道工序中形成。例如，在觸控顯示區(qū)域中形成平坦化層時(shí)，在外圍引線區(qū)的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成有機(jī)層，因此，外圍引線區(qū)域中的有機(jī)層與觸控顯示區(qū)域中的平坦化層同時(shí)形成?；蛘?，在觸控顯示區(qū)域中形成像素定義層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成有機(jī)層，因此，外圍引線區(qū)域中的有機(jī)層與觸控顯示區(qū)域中的像素定義層同時(shí)形成。或者，在觸控顯示區(qū)域中形成電極絕緣層時(shí)，在外圍引線區(qū)的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成絕緣層，因此，外圍引線區(qū)域中的有機(jī)層與觸控顯示區(qū)域中的電極絕緣層同時(shí)形成。需要說明的是，電極絕緣層為有機(jī)絕緣材料。

例如，參見圖3，當(dāng)絕緣層與平坦化層同時(shí)形成時(shí)，外圍引線區(qū)域中的信號(hào)引出線12與觸控電極引出線15之間的絕緣層16包括與顯示區(qū)域的平坦化層同時(shí)形成的膜層，由于平坦化層為有機(jī)層，因此將絕緣層與平坦化層同時(shí)制作，從而避免增加制作工藝。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板中，當(dāng)絕緣層與平坦化層或像素定義層在同一道工序中形成，絕緣層與平坦化層和/或像素定義層不相連；當(dāng)絕緣層與電極絕緣層在同一道工序中形成，絕緣層和電極絕緣層為整面結(jié)構(gòu)。具體地，從圖2中可見，平坦化層19或者像素定義層120設(shè)置在薄膜封裝層18的封閉空間內(nèi)，而外圍引線區(qū)域中絕緣層設(shè)置在薄膜封裝層18的封閉空間之外，因此外圍引線區(qū)域中的絕緣層與像素定義層或平坦層均不相連，因此在制作外圍引線區(qū)域中的有機(jī)層時(shí)，與觸控顯示區(qū)域中的平坦化層和/或像素定義層不相連。從圖2中可見，電極絕緣層141設(shè)置在薄膜封裝層18的上方，即設(shè)置在薄膜封裝層的封閉空間之外的區(qū)域，且由于薄膜封裝層覆蓋阻擋墻20，因此，外圍引線區(qū)域中的有機(jī)層可以與電極絕緣層同時(shí)制作，且可以采用整面結(jié)構(gòu)，或者不相連也可。

在本實(shí)施例中，當(dāng)絕緣層與電極絕緣層在同一道工序中形成，絕緣層和電極絕緣層為整面結(jié)構(gòu)時(shí)，觸控傳感器中的第一導(dǎo)電層為跨橋?qū)Ь€，第二導(dǎo)電層包括相互絕緣層的觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極，觸控電極引出線包括與觸控驅(qū)動(dòng)電極電連接的觸控驅(qū)動(dòng)電極引出線和與所述觸控感應(yīng)電極電連接的觸控感應(yīng)電極引出線。具體地，在形成觸控傳感器的結(jié)構(gòu)時(shí)，首先在薄膜封裝層的表面形成跨橋?qū)Ь€，然后在跨橋?qū)Ь€上形成電極絕緣層，最后在電極絕緣層上形成觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極，其中，形成電極絕緣層的面積僅包括跨橋區(qū)域和外圍引線區(qū)域。因此，本發(fā)明實(shí)施例中的整面結(jié)構(gòu)不是指覆蓋整個(gè)觸控顯示區(qū)域，如圖4所示電極絕緣層141的結(jié)構(gòu)，虛線的菱形代表觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極，圖4中僅以絕緣層16設(shè)置在顯示區(qū)域的下邊框位置的外圍引線區(qū)域，但不限于圖4所示的方向，在顯示區(qū)域的其他邊框位置的外圍引線區(qū)域中信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有交疊區(qū)域的地方均可以設(shè)置絕緣層。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板中，絕緣層與平坦化層、像素定義層、電極絕緣層之中的任意一層材料相同、厚度相同。具體地，在觸控顯示區(qū)域中形成平坦化層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成有機(jī)層，且有機(jī)層的材料和厚度均與平坦化層的材料、厚度相同?；蛘撸谟|控顯示區(qū)域中形成像素定義層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成有機(jī)層，且有機(jī)層的材料和厚度均與像素定義層的材料、厚度相同。在觸控顯示區(qū)域中形成電極絕緣層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成有機(jī)層，且有機(jī)層的材料和厚度均與電極絕緣層的材料、厚度相同。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板中，當(dāng)絕緣層的材料、厚度與平坦化層或像素定義層的材料相同、厚度相同，絕緣層與平坦化層和/或像素定義層不相連；當(dāng)絕緣層的材料、厚度與電極絕緣層的材料相同、厚度相同，絕緣層與電極絕緣層為整面結(jié)構(gòu)。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板中，絕緣層的厚度為：1um-5um。具體地，當(dāng)絕緣層中的有機(jī)層與平坦化層同時(shí)制作時(shí)，絕緣層的厚度為1um-5um；當(dāng)絕緣層中的有機(jī)層與像素定義層同時(shí)制作時(shí)，絕緣層的厚度為1.5um-2um；當(dāng)絕緣層中的有機(jī)層與電極絕緣層同時(shí)制作時(shí)，絕緣層的厚度為1.5um-2um。絕緣層的厚度可以根據(jù)觸控顯示面板中的膜層的厚度進(jìn)行相應(yīng)的改變，在此不做具體限定。

實(shí)施例二

實(shí)施例二僅以絕緣層包括兩層結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行詳細(xì)描述，但不局限于絕緣層僅包括兩層有機(jī)層。

在本實(shí)施例中，絕緣層包括兩層結(jié)構(gòu)，兩層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層、像素定義層、電極絕緣層中的任意兩層在同一道工序中形成。具體地，在觸控顯示區(qū)域中形成平坦化層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成平坦化層，然后在平坦化層上形成像素定義層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的平坦化層之上形成像素定義層，使得絕緣層包括兩層結(jié)構(gòu)?；蛘撸谟|控顯示區(qū)域中形成平坦化層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成平坦化層，然后在薄膜封裝層之上形成電極絕緣層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的平坦化層之上形成電極絕緣層，使得絕緣層包括兩層結(jié)構(gòu)?；蛘撸谟|控顯示區(qū)域中形成像素定義層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線與觸控電極引出線具有重疊的區(qū)域之間形成像素定義層，然后在薄膜封裝層之上形成電極絕緣層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的平坦化層之上形成電極絕緣層，使得絕緣層包括兩層結(jié)構(gòu)。

例如，參見圖5，絕緣層16包括兩層有機(jī)層，且兩層有機(jī)層分別與平坦化層19和像素定義層120同時(shí)形成。觸控顯示面板中的外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線12與觸控電極引出線15之間具有交疊的區(qū)域包括鈍化層08、平坦化層19和像素電極層120。使得觸控電極引出線和信號(hào)引出線之間具有交疊的區(qū)域之間的厚度增加，通過有機(jī)層的絕緣作用，避免了觸控電極引出線和信號(hào)引出線之間信號(hào)的干擾，且由于有機(jī)層均與顯示區(qū)域中的膜層同時(shí)制作，避免增加工藝。

在本實(shí)施例中，當(dāng)絕緣層中的兩層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層和像素定義層在同一道工序中形成，參見圖5，絕緣層中的兩層結(jié)構(gòu)與平坦化層和像素定義層不相連；當(dāng)兩層結(jié)構(gòu)中的一層與電極絕緣層在同一道工序中形成，兩層結(jié)構(gòu)中的一層和電極絕緣層為整面結(jié)構(gòu)。具體地，從圖2中可見，平坦化層19和像素定義層120設(shè)置在薄膜封裝層18的封閉空間內(nèi)，而外圍引線區(qū)域中絕緣層設(shè)置在薄膜封裝層18的封閉空間之外，因此外圍引線區(qū)域中的絕緣層16與像素定義層120和平坦化層19均不相連，因此在制作外圍引線區(qū)域中的有機(jī)層時(shí)，與觸控顯示區(qū)域中的平坦化層19和像素定義層120均不相連。從圖2中可見，電極絕緣層141設(shè)置在薄膜封裝層18的上方，即設(shè)置在薄膜封裝層的封閉空間之外的區(qū)域，且由于薄膜封裝層覆蓋阻擋墻20，因此，外圍引線區(qū)域中兩層有機(jī)層中的一層有機(jī)層與電極絕緣層同時(shí)制作時(shí)，外圍引線區(qū)域中的有機(jī)層可以與電極絕緣層采用整面結(jié)構(gòu)，或者不相連也可。

具體地，當(dāng)絕緣層與電極絕緣層在同一道工序中形成，絕緣層和電極絕緣層為整面結(jié)構(gòu)時(shí)，觸控傳感器中的第一導(dǎo)電層為跨橋?qū)Ь€，第二導(dǎo)電層包括相互絕緣層的觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極，觸控電極引出線包括與觸控驅(qū)動(dòng)電極電連接的觸控驅(qū)動(dòng)電極引出線和與所述觸控感應(yīng)電極電連接的觸控感應(yīng)電極引出線。具體地，在形成觸控傳感器的結(jié)構(gòu)時(shí)，首先在薄膜封裝層的表面形成跨橋?qū)Ь€，然后在跨橋?qū)Ь€上形成電極絕緣層，最后在電極絕緣層上形成觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極，其中，形成電極絕緣層的面積僅包括跨橋區(qū)域和外圍引線區(qū)域。

在本實(shí)施例中，絕緣層包括兩層結(jié)構(gòu)，兩層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層、像素定義層、電極絕緣層中的任意兩層材料相同、厚度相同。例如，絕緣層中的兩層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層、像素定義層同時(shí)形成時(shí)，絕緣層的兩層結(jié)構(gòu)的材料、厚度分別與平坦化層、像素定義層的材料、厚度相同。絕緣層中的兩層結(jié)構(gòu)分別與電極絕緣層、像素定義層同時(shí)形成時(shí)，絕緣層的兩層結(jié)構(gòu)的材料、厚度分別與電極絕緣層、像素定義層的材料、厚度相同。絕緣層中的兩層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層、電極絕緣層同時(shí)形成時(shí)，絕緣層的兩層結(jié)構(gòu)的材料、厚度分別與平坦化層、電極絕緣的材料、厚度相同。具體地，本發(fā)明實(shí)施例中的電極絕緣層的材料可以為有機(jī)絕緣層，也可以為無機(jī)絕緣層。在此不做具體限定。

在本實(shí)施例中，當(dāng)兩層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層和像素定義層材料相同、厚度相同，兩層結(jié)構(gòu)與平坦化層和像素定義層不相連；當(dāng)兩層結(jié)構(gòu)中的一層與電極絕緣層材料相同、厚度相同，兩層結(jié)構(gòu)中的一層和電極絕緣層為整面結(jié)構(gòu)。

在本實(shí)施例中，絕緣層的厚度為：1um-7um。具體地，當(dāng)絕緣層中兩層結(jié)構(gòu)與平坦化層、像素定義層同時(shí)制作時(shí)，絕緣層的厚度為2.5um-7um；當(dāng)絕緣層中兩層結(jié)構(gòu)與像素定義層、電極絕緣層同時(shí)制作時(shí)，絕緣層的厚度為3um-4um；當(dāng)絕緣層中的兩層結(jié)構(gòu)與平坦化層、電極絕緣層同時(shí)制作時(shí)，絕緣層的厚度為2.5um-7um。絕緣層的厚度可以根據(jù)觸控顯示面板中的膜層的厚度進(jìn)行相應(yīng)的改變，在此不做具體限定。

實(shí)施例三

實(shí)施例三中僅以絕緣層包括三層結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行詳細(xì)描述，但不限于僅包括三層結(jié)構(gòu)。

在本實(shí)施例中，絕緣層包括三層結(jié)構(gòu)，三層結(jié)構(gòu)可以均為有機(jī)層膜層，或者兩層為有機(jī)膜層。絕緣層的三層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層、像素定義層、電極絕緣層在同一道工序中形成。

在本實(shí)施例中，絕緣層的三層結(jié)構(gòu)中的兩層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層和像素定義層在同一道工序中形成，絕緣層中的兩層結(jié)構(gòu)與平坦化層和像素定義層不相連；三層結(jié)構(gòu)中的另一層與電極絕緣層在同一道工序中形成，且和電極絕緣層為整面結(jié)構(gòu)。具體地，電極絕緣層14以及絕緣層16中與電極絕緣層同時(shí)制作的膜層的結(jié)構(gòu)如圖4所示。

在本實(shí)施例中，絕緣層的三層結(jié)構(gòu)分別與平坦化層、像素定義層、電極絕緣層在同一道工序中形成，包括三層結(jié)構(gòu)的材料、厚度分別與平坦化層、像素定義層、電極絕緣層的材料、厚度相同。具體地，平坦化層、像素定義層均為有機(jī)膜層，電極絕緣層可以為有機(jī)膜層，或者為無機(jī)膜層，在此不做具體限定。在本實(shí)施例中，絕緣層的厚度為：1um-9um。

參見圖6，觸控顯示面板中的外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線12與觸控電極引出線15之間具有交疊的區(qū)域包括鈍化層08、平坦化層19、像素電極層120以及電極絕緣層141。使得觸控電極引出線和信號(hào)引出線之間具有交疊的區(qū)域之間的厚度增加，通過有機(jī)層的絕緣層，避免了觸控電極引出線和信號(hào)引出線之間信號(hào)的干擾，且由于有機(jī)層均與顯示區(qū)域中的膜層同時(shí)制作，避免增加工藝。

綜上，本發(fā)明實(shí)施例達(dá)到的有益效果:

1、在外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線和觸控電極引出線之間具有交疊的區(qū)域增設(shè)絕緣層，且絕緣層包括至少一層有機(jī)層，從而增加了信號(hào)引出線與觸控電極引出線之間具有交疊的區(qū)域之間的厚度，從而減少了觸控電極引出線與信號(hào)引出線之間的寄生電容。

2、在形成絕緣層的有機(jī)膜層時(shí)，可以通過在觸控顯示區(qū)域中形成平坦化層、像素定義層和/或電極絕緣層時(shí)形成絕緣層中的有機(jī)層，從而無需增加工藝。

3、絕緣層中包括一層無機(jī)層、兩層無機(jī)層，或者三層無機(jī)層，從而進(jìn)一步減少了觸控電極引出線與信號(hào)引出線之間的寄生電容，而且每層結(jié)構(gòu)均無需另外增加工藝步驟。

基于同一發(fā)明思想，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控顯示裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的任一種的觸控顯示面板。

本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控顯示裝置為包括OLED發(fā)光單元的觸控顯示裝置。

基于同一發(fā)明思想，參見圖7，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控顯示面板的制作方法，觸控顯示面板包括顯示區(qū)域和包圍顯示區(qū)域的外圍引線區(qū)域，制作方法包括：

S901、提供一基板；

S902、在基板之上形成呈陣列排布的薄膜晶體管，以及與薄膜晶體管電連接的信號(hào)引出線；

其中，在基板之上形成薄膜晶體管，具體包括：在基板之上形成半導(dǎo)體有源層，其中半導(dǎo)體有源層中包括通過摻雜N型雜質(zhì)離子或P型雜質(zhì)離子而形成的源極區(qū)域和漏極區(qū)域，以及位于源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間的區(qū)域不摻雜雜質(zhì)的溝道區(qū)域；在半導(dǎo)體有源層上形成柵極絕緣層、柵極和層間絕緣層，且在層間絕緣層上形成源極和漏極的圖形，源極和漏極分別通過柵極絕緣層和層間絕緣層中的接觸孔電連接半導(dǎo)體有源層中的源極區(qū)域和漏極區(qū)域。

S903、形成鈍化層，鈍化層覆蓋薄膜晶體管以及信號(hào)引出線；

S904、形成絕緣層，絕緣層包括至少一層有機(jī)層，絕緣層形成于鈍化層遠(yuǎn)離基板的一側(cè)；

其中，針對OLED觸控顯示裝置，具有絕緣作用的膜層至少包括平坦化層、像素定義層等膜層。

S905、形成觸摸傳感器；

S906、形成觸控電極引出線，觸控電極引出線電連接觸摸傳感器；

其中，信號(hào)引出線與觸控電極引出線在基板所在平面上的正投影具有交疊，且在具有交疊的區(qū)域，信號(hào)引出線和觸控電極引出線之間包括絕緣層。

通過本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控顯示面板的制作方法，在形成鈍化層上形成絕緣層的同時(shí)，在信號(hào)引出線與觸控電極引出線在基板所在平面上的正投影具有交疊的區(qū)域形成所述絕緣層，且絕緣層包括至少一層有機(jī)層，使得在信號(hào)引出線與觸控電極引出線在基板所在平面上的正投影具有交疊的區(qū)域不僅包括鈍化層還包括有機(jī)層，增加信號(hào)引出線與觸控電極引出線在基板所在平面上的正投影具有交疊的區(qū)域之間的厚度，減少了信號(hào)引出線與觸控電極引出線之間的寄生電容，且無需增加工藝。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板的制作方法中，步驟S902在基板之上形成呈陣列排布的薄膜晶體管，以及與薄膜晶體管電連接的信號(hào)引出線之后，形成發(fā)光單元、形成覆蓋發(fā)光單元的薄膜封裝層以及形成觸摸傳感器，觸摸傳感器位于薄膜封裝層遠(yuǎn)離基板的一側(cè)。具體地，形成發(fā)光單元，包括在鈍化層上方依次形成第一電極層、發(fā)光層和第二電極層。進(jìn)一步地，發(fā)光層包括空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和電子注入層。其中，第一電極層和第二電極層可以為透明電極，或者為反射電極。第一電極層為透明電極時(shí)，可以包括氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)或氧化銦(In2O3)等；當(dāng)?shù)谝浑姌O層為反射電極時(shí)，反射層可以由Ag、鎂(Mg)、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、銥(Ir)、Cr或者它們的混合物形成，并且ITO、IZO、ZnO或In2O3等可以形成在該反射層上；第二電極層為透明電極時(shí)，可以包括如鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰/鈣(LiF/Ca)、氟化鋰/鋁(LiF/Al)、鋁(Al)、鎂(Mg)或它們的組合的化合物，也可以通過蒸發(fā)初始沉積在發(fā)光層上，并且諸如ITO、IZO、ZnO或In2O3等的透明電極形成材料可以沉積在該化合物上；當(dāng)?shù)诙姌O為反射電極時(shí)，可以通過在基板的整個(gè)表面上采用Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Mg或它們的混合物蒸發(fā)來形成第二電極層。

在第二電極層上方形成完全覆蓋發(fā)光單元的薄膜封裝層，薄膜封裝層保護(hù)發(fā)光層和其它薄層免受外部濕氣和氧等的影響。較佳地，薄膜封裝層包括無機(jī)層和有機(jī)層，或者無機(jī)層和有機(jī)層交錯(cuò)堆疊。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板的制作方法中，步驟S905形成觸摸傳感器包括：將觸摸傳感器形成于薄膜封裝層的表面。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板的制作方法中，在鈍化層和薄膜封裝層之間還形成有平坦化層以及像素定義層，平坦化層和像素定義層為有機(jī)層；觸摸傳感器包括電極絕緣層，第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層，電極絕緣層位于第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層之間。具體地，在形成鈍化層后，依次在鈍化層上方形成平坦化層、第一電極層、像素定義層、發(fā)光層和第二電極層，其中，第一電極層通過貫穿鈍化層和平坦化層的接觸孔與薄膜晶體管的源極或漏極電連接，像素定義層覆蓋在平坦化層，以及第一電極層的邊緣。最后在第二電極層之上形成薄膜封裝層的圖形，以及在薄膜封裝層的表面形成第一導(dǎo)電層、電極絕緣層和第二導(dǎo)電層的圖形。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板的制作方法中，絕緣層包括一層或多層結(jié)構(gòu)，一層或多層結(jié)構(gòu)與平坦化層、像素定義層以及電極絕緣層中的一層或多層通過同一道工序形成。具體地，絕緣層的結(jié)構(gòu)可以參見上述實(shí)施例一、實(shí)施例二和實(shí)施例三的膜層結(jié)構(gòu)的方式依次形成，其中，絕緣層無論是一層有機(jī)層、二層有機(jī)層還是三層結(jié)構(gòu)，均是在形成觸控顯示區(qū)域中的平坦化層、像素定義層或電極絕緣層時(shí)形成，從而無需增加工藝。形成有機(jī)膜層的方法可以采用現(xiàn)有技術(shù)的方法，在此不再贅述。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板的制作方法中，當(dāng)一層或多層結(jié)構(gòu)與平坦化層或像素定義層通過同一道工序形成，同一道工序?yàn)閲娔蛴　?/p>

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板的制作方法中，通過噴墨打印在外圍引線區(qū)域和顯示區(qū)域形成整面平坦化層或像素定義層，通過刻蝕將絕緣層和平坦化層或像素定義層分隔，使絕緣層與平坦化層和像素定義層不相連。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板的制作方法中，當(dāng)絕緣層與電極絕緣層通過同一道工序制作，電極絕緣層為覆蓋外圍引線區(qū)域和顯示區(qū)域的有機(jī)層，有機(jī)層通過噴墨打印的方式形成。具體地，當(dāng)絕緣層為一層有機(jī)層結(jié)構(gòu)，且該絕緣層與電極絕緣層為同一道工序制作，則電極絕緣層為有機(jī)材料制作，且形成整面的電極絕緣層，使得外圍引線區(qū)域的信號(hào)引出線和觸控電極引出線之間具有有機(jī)層，有機(jī)層的形成工藝可以采用噴墨打印的方式，或者可以采用其他工藝。其中，在形成電極絕緣層之前形成第一導(dǎo)電層，第一導(dǎo)電層為跨橋?qū)Ь€，且電極絕緣層僅為覆蓋跨橋?qū)Ь€和外圍引線區(qū)域的圖形，然后在電極絕緣層上方形成觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極的圖形，以及在外圍引線區(qū)域形成連接觸控驅(qū)動(dòng)電極的驅(qū)動(dòng)電極引出線和連接觸控感應(yīng)電極的感應(yīng)電極引出線。

在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控顯示面板的制作方法中，當(dāng)絕緣層包括多層結(jié)構(gòu)，且多層結(jié)構(gòu)中的一層與電極絕緣層通過同一道工序制作，電極絕緣層為覆蓋外圍引線區(qū)域和顯示區(qū)域的無機(jī)層，無機(jī)層通過蒸鍍的方式形成。具體地，當(dāng)絕緣層包括多層結(jié)構(gòu)，且多層結(jié)構(gòu)中的有機(jī)層與平坦層或像素定義層在同一道工序形成后，絕緣層中的某一層結(jié)構(gòu)與電極絕緣層在同一道工序中形成時(shí)，電極絕緣層可以為無機(jī)層，從而采用蒸鍍的方式形成在外圍引線區(qū)域和顯示區(qū)域。

實(shí)施例四

下面通過具體實(shí)施例詳細(xì)描述本發(fā)明提供的觸控顯示面板的制作方法，該方法包括：

步驟一、在襯底基板10之上形成緩沖層21，在緩沖層21上形成呈陣列排布的薄膜晶體管的圖形，其中，形成薄膜晶體管包括在緩沖層21上形成半導(dǎo)體有源層02，其中半導(dǎo)體有源層中包括通過摻雜N型雜質(zhì)離子或P型雜質(zhì)離子而形成的源極區(qū)域和漏極區(qū)域，以及位于源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間的區(qū)域不摻雜雜質(zhì)的溝道區(qū)域；在半導(dǎo)體有源層02上形成柵極絕緣層03、柵極04和層間絕緣層05，且在層間絕緣層05上形成源極06和漏極07的圖形，源極06和漏極07分別通過柵極絕緣層03和層間絕緣層05中的接觸孔電連接半導(dǎo)體有源層中的源極區(qū)域和漏極區(qū)域，如圖8(a)所示。

其中，柵極絕緣層包括氮化硅、氧化硅或金屬氧化物的無機(jī)層，且柵極絕緣層可以為多層結(jié)構(gòu)或者單層結(jié)構(gòu)。層間絕緣層可以由氧化硅或氮化硅等的絕緣無機(jī)層形成，或者由絕緣有機(jī)層形成。柵極可以包括金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、鋁(Al)、鉬(Mo)或鉻(Cr)的單層或多層，或者諸如鋁(Al):釹(Nd)合金、鉬(Mo):鎢(W)合金的合金。

其中，在形成柵極同時(shí)形成與柵極連接的柵線，在形成源極的同時(shí)形成與源極連接的數(shù)據(jù)線121，且柵線和數(shù)據(jù)線分別引出到外圍引線區(qū)域，圖8(a)中僅示意了數(shù)據(jù)線121。

步驟二、在源極06、漏極07和數(shù)據(jù)線121上方形成鈍化層08的圖形，使得鈍化層08覆蓋顯示區(qū)域和外圍引線區(qū)域；在顯示區(qū)域的鈍化層08上方形成平坦化層19，同時(shí)在數(shù)據(jù)線121的上方形成平坦化層，且顯示區(qū)域的平坦化層與外圍引線區(qū)域中的平坦化層不相連，如圖8(b)所示。

步驟三、在顯示區(qū)域的平坦化層19上方形成發(fā)光單元17的結(jié)構(gòu)，具體包括：在平坦化層19上形成第一電極層171，且第一電極171通過平坦化層19和鈍化層08中的接觸孔與漏極07電連接；在第一電極層171上方形成像素定義層120，其中，像素定義層120覆蓋第一電極層171的邊緣區(qū)域，在像素定義層上方形成發(fā)光層172，在顯示區(qū)域的發(fā)光層172上形成第二電極層173，其中，第一電極層171、第二電極層173和發(fā)光層172組成發(fā)光單元，且第一電極層作為發(fā)光單元的陽極，第二電極層作為發(fā)光單元的陰極，如圖8(c)所示。

其中，第一電極層和第二電極層可以為透明電極，或者為反射電極，第一電極層為透明電極時(shí)，可以包括氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)或氧化銦(In2O3)等，當(dāng)?shù)谝浑姌O形成為反射電極時(shí)，反射層可以由Ag、鎂(Mg)、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、銥(Ir)、Cr或者它們的混合物形成，并且ITO、IZO、ZnO或In2O3等可以形成在該反射層上；第二電極層為透明電極時(shí)，可以包括如鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰/鈣(LiF/Ca)、氟化鋰/鋁(LiF/Al)、鋁(Al)、鎂(Mg)或它們的組合的功函數(shù)小的化合物可以通過蒸發(fā)初始沉積在發(fā)光層上，并且諸如ITO、IZO、ZnO或In2O3等的透明電極形成材料可以沉積在該化合物上；當(dāng)?shù)诙姌O為反射電極時(shí)，可以通過在柔性基底的整個(gè)表面上使Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Mg或它們的混合物蒸發(fā)來形成第二電極。像素定義層172可以由諸如聚酰亞胺(PI)、聚酰胺、苯并環(huán)丁烯(BCB)、壓克力樹脂或酚醛樹脂等的有機(jī)材料形成。

步驟三、在第二電極173上方形成薄膜封裝層18，以及在薄膜封裝層18表面形成第一導(dǎo)電層142、電極絕緣層141和第二導(dǎo)電層143，其中電極絕緣層覆蓋第一導(dǎo)電層和外圍引線區(qū)域，形成第二導(dǎo)電層的同時(shí)，形成與第二導(dǎo)電層連接的觸控電極引出線15，其中，在形成薄膜封裝層18之前還包括形成阻擋墻20，如圖8(d)所示。

其中，薄膜封裝層覆蓋發(fā)光單元，以及設(shè)置在外圍引線區(qū)域的阻擋墻20，且形成觸控電極結(jié)構(gòu)中的電極絕緣層時(shí)，在外圍引線區(qū)域的平坦化層上形成電極絕緣層，且電極絕緣層的材料可以為有機(jī)材料或者無機(jī)材料。觸控電極結(jié)構(gòu)中的第一導(dǎo)電層作為跨橋?qū)Ь€，在形成第二導(dǎo)電層時(shí)形成觸控電極引出線15，觸控電極引出線包括與觸控驅(qū)動(dòng)電極連接的觸控驅(qū)動(dòng)引出線，以及與觸控感應(yīng)電極連接的觸控感應(yīng)引出線。

其中，電極絕緣層為覆蓋外圍引線區(qū)域和顯示區(qū)域的有機(jī)層時(shí)，有機(jī)層通過噴墨打印的方式形成；或者，電極絕緣層為覆蓋外圍引線區(qū)域和顯示區(qū)域的無機(jī)層時(shí)，無機(jī)層通過蒸鍍的方式形成。

需要說明的是，實(shí)施例四僅以絕緣層包括兩層結(jié)構(gòu)，且一層有機(jī)層與平坦化層同一道工序形成，另一層結(jié)構(gòu)與電極絕緣層同一道工序形成。同理，其他結(jié)構(gòu)的形成方法與該方法類型，在此不再贅述。

綜上，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控顯示面板包括顯示區(qū)域和包圍顯示區(qū)域的外圍引線區(qū)；基板；設(shè)置于基板之上呈陣列排布的薄膜晶體管，以及與薄膜晶體管電連接的信號(hào)引出線；覆蓋薄膜晶體管以及信號(hào)引出線的鈍化層；觸摸傳感器；在外圍引線區(qū)域，鈍化層遠(yuǎn)離基板的一側(cè)具有觸控電極引出線，觸控電極引出線電連接觸摸傳感器，其中，信號(hào)引出線與觸控電極引出線在基板所在平面上的正投影具有交疊，且在具有交疊的區(qū)域，信號(hào)引出線和觸控電極引出線之間包括絕緣層，絕緣層包括至少一層有機(jī)層。因此，本發(fā)明實(shí)施例中通過在外圍引線區(qū)域，在信號(hào)引出線與觸控電極引出線在基板所在平面上的正投影具有交疊的區(qū)域增設(shè)絕緣層，且絕緣層至少包括一層有機(jī)層。從而使得在具有交疊的區(qū)域除了具有鈍化層之外，還具有絕緣層，從而增加了交疊區(qū)域的厚度，且進(jìn)一步減少了觸控電極引出線與信號(hào)引出線之間的寄生電容。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。