本實(shí)用新型涉及一種薄膜電極，尤其涉及一種電容器用薄膜電極。
背景技術(shù)：
薄膜電容器是一種被廣泛應(yīng)用的基礎(chǔ)性電子、電力器件。目前薄膜電容器已列入中國高新技術(shù)產(chǎn)品目錄，屬于當(dāng)前優(yōu)先發(fā)展的高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)化重點(diǎn)領(lǐng)域中的新型元器件。隨著電子工業(yè)的快速發(fā)展，薄膜電容器正在向大容量、微型化、高安全可靠性的方向發(fā)展。公司利用自身優(yōu)勢，研制成功了國內(nèi)急需的超薄金屬化電容膜產(chǎn)品，填補(bǔ)國內(nèi)空白，可替進(jìn)口。為滿足市場需求，將積極擴(kuò)大超薄金屬化電容膜生產(chǎn)產(chǎn)量，新建生產(chǎn)廠房，引進(jìn)關(guān)鍵生產(chǎn)設(shè)備，運(yùn)用成熟的生產(chǎn)工藝和技術(shù)，加上原有的生產(chǎn)能力，形成年產(chǎn)超薄金屬化電容膜10000余噸的生產(chǎn)能力。該項(xiàng)目的實(shí)施，對(duì)振興民族工業(yè)，提高自主創(chuàng)新能力，增強(qiáng)電子元器件的市場競爭能力。該項(xiàng)目的實(shí)施，對(duì)振興民族工業(yè)，提高自主創(chuàng)新能力，增強(qiáng)電子元器件的市場競爭能力，滿足國內(nèi)市場的迫切需求，具有重要意義。
通常的薄膜電容器其制法是將鋁等金屬箔當(dāng)成電極和塑料薄膜重疊后卷繞在一起制成。但是還有一種薄膜電容器，叫做金屬化薄膜，其制法是在塑料薄膜上真空蒸鍍上一層很薄的金屬后作為電極，這樣可以省去電極箔的厚度，縮小電容器單位容量的體積，所以薄膜電容器較容易做成小型、容量大的電容器。
現(xiàn)有的薄膜電容器電極多為單面金屬鍍層，且金屬鍍層厚度薄，電極耐受大電流能力較差，因此，有必要提供一種新的薄膜電極。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的是提供一種雙面結(jié)構(gòu)、抗擊大電流能力強(qiáng)的電容器用薄膜電極。
為了解決背景技術(shù)中的技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種電容器用薄膜電極，包括電介質(zhì)層、氮化鈦層和鋅鋁復(fù)合層，所述電介質(zhì)層包括第一表面及與所述第一表面相對(duì)應(yīng)的第二表面，所述電介質(zhì)層的兩端設(shè)置有留邊，所述第一表面上方與所述第二表面下方設(shè)置有氮化鈦層，所述鋅鋁復(fù)合層設(shè)置于所述氮化鈦層之上，所述氮化鈦層與所述鋅鋁復(fù)合層的連接處呈波浪線形。
進(jìn)一步地，所述電介質(zhì)層為聚乙酯、聚丙烯、聚苯乙烯或聚碳酸酯。
進(jìn)一步地，所述氮化鈦層的長度小于所述電介質(zhì)層的長度。
進(jìn)一步地，所述鋅鋁復(fù)合層的長度小于所述電介質(zhì)層的長度。
進(jìn)一步地，所述氮化鈦層的長度與所述鋅鋁復(fù)合層的長度相等。
進(jìn)一步地，所述氮化鈦層的厚度小于所述鋅鋁復(fù)合層的厚度。
進(jìn)一步地，所述鋅鋁復(fù)合層的厚度為5.8μm。
進(jìn)一步地，所述氮化鈦層的兩側(cè)邊與所述鋅鋁復(fù)合層的兩側(cè)邊上下對(duì)齊設(shè)置。
進(jìn)一步地，所述氮化鈦層的一側(cè)邊與所述電介質(zhì)層的一側(cè)邊上下對(duì)齊設(shè)置。
進(jìn)一步地，所述留邊包括第一留邊和第二留邊，所述第一留邊設(shè)置于所述第一表面遠(yuǎn)離鍍層一側(cè)，所述第二留邊設(shè)置于所述第二表面遠(yuǎn)離鍍層一側(cè)。
本實(shí)用新型的有益效果是：
(1)本實(shí)用新型的電容器用薄膜電極在電介質(zhì)層與鋅鋁復(fù)合層之間設(shè)置有氮化鈦層，提高了薄膜電極的抗沖擊性和耐熱性能；
(2)本實(shí)用新型的電容器用薄膜電極的氮化鈦層與鋅鋁復(fù)合層連接處呈波浪線形型，增大了兩個(gè)鍍層之間的接觸面積，增強(qiáng)了鍍層的穩(wěn)定性；
(3)本實(shí)用新型的電容器用薄膜電極在電介質(zhì)層的兩面都設(shè)置了鍍層，同時(shí)增加了鍍層的厚度，提高了薄膜電極抗擊大電流的能力。
附圖說明
為了更清楚地說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它附圖。
圖1是本實(shí)用新型的一種電容器用薄膜電極結(jié)構(gòu)示意圖；
其中，圖中附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)為：1-電介質(zhì)層，11-第一表面，12-第二表面，2-氮化鈦層，3-鋅鋁復(fù)合層，4-留邊，41-第一留邊，42-第二留邊。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
實(shí)施例1：
請(qǐng)參閱圖1，圖1是本實(shí)用新型的一種電容器用薄膜電極結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實(shí)用新型公開了一種電容器用薄膜電極，包括電介質(zhì)層1、氮化鈦層2和鋅鋁復(fù)合層3，所述電介質(zhì)層1包括第一表面11及與所述第一表面11相對(duì)應(yīng)的第二表面12，所述電介質(zhì)層1的兩端設(shè)置有留邊4，所述留邊4包括第一留邊41和第二留邊42，所述第一留邊41設(shè)置于所述第一表面11遠(yuǎn)離鍍層一側(cè)，所述第二留邊42設(shè)置于所述第二表面12遠(yuǎn)離鍍層一側(cè)；所述第一表面11上方與所述第二表面12下方設(shè)置有氮化鈦層2，所述鋅鋁復(fù)合層3設(shè)置于所述氮化鈦層2之上，所述氮化鈦層2與所述鋅鋁復(fù)合層3的連接處呈波浪線形，增大了兩個(gè)鍍層之間的接觸面積，增強(qiáng)了鍍層的穩(wěn)定性。
所述電介質(zhì)層1為聚丙烯，所述氮化鈦層2的長度與所述鋅鋁復(fù)合層3的長度均小于所述電介質(zhì)層1的長度，所述氮化鈦層2的長度與所述鋅鋁復(fù)合層3的長度相等，所述氮化鈦層2的兩側(cè)邊與所述鋅鋁復(fù)合層3的兩側(cè)邊上下對(duì)齊設(shè)置，所述氮化鈦層2的一側(cè)邊與所述電介質(zhì)層1的一側(cè)邊上下對(duì)齊設(shè)置。
所述氮化鈦層2的厚度小于所述鋅鋁復(fù)合層3的厚度，所述鋅鋁復(fù)合層3的厚度為5.8μm，在電介質(zhì)層1的兩面都設(shè)置鍍層，同時(shí)增加了鍍層的厚度，提高了薄膜電極抗大電流的能力。
本實(shí)用新型的有益效果是：
(1)本實(shí)用新型的電容器用薄膜電極在電介質(zhì)層與鋅鋁復(fù)合層之間設(shè)置有氮化鈦層，提高了薄膜電極的抗沖擊性和耐熱性能；
(2)本實(shí)用新型的電容器用薄膜電極的氮化鈦層與鋅鋁復(fù)合層連接處呈波浪線形型，增大了兩個(gè)鍍層之間的接觸面積，增強(qiáng)了鍍層的穩(wěn)定性；
(3)本實(shí)用新型的電容器用薄膜電極在電介質(zhì)層的兩面都設(shè)置了鍍層，同時(shí)增加了鍍層的厚度，提高了薄膜電極抗擊大電流的能力。
以上所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)該指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。