本實用新型關(guān)于一種液位控制系統(tǒng)，特別是關(guān)于一種適用于濕式制程的液位控制系統(tǒng)，尤其是適用于面板產(chǎn)業(yè)和半導體產(chǎn)業(yè)和生物產(chǎn)業(yè)。

背景技術(shù)：

在面板產(chǎn)業(yè)中，濕式制程發(fā)展的已經(jīng)相當成熟。然而，受限于現(xiàn)有的機構(gòu)設計，在實際操作中仍存在許多問題。

參考圖1，繪示現(xiàn)有技術(shù)的液位控制系統(tǒng)10之示意圖。所述控制系統(tǒng)10包括一水槽11、一機械夾持裝置13。所述水槽11儲放一液體12。一般而言，所述液體12是處理液體，像是蝕刻液及/或生物溶液。所述機械夾持裝置13夾持著一基板14在所述液體12中往上緩慢移動離開所述液體12，以便達到所述基板14在固定時間下均勻分段浸泡的目的。一般而言，所述基板14是指玻璃面板或晶圓。在現(xiàn)有技術(shù)中，通過所述機械夾持裝置13每隔一固定時間就將所述基板14往上抬起。一般而言，機械式的作動方式不會產(chǎn)生影響，然而，當機械式的作動方法在速度為每分鐘只有移動數(shù)微米時，就容易產(chǎn)生振動，進而在液面上產(chǎn)生擾動，使原本不應所述浸泡到所述液體12的所述基板14的某部分再次接觸到所述液體12，而使產(chǎn)品產(chǎn)生瑕疵。

因此，有必要涉及一種液位控制系統(tǒng)，以解決上述之問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實用新型目的在于涉及一種液位控制系統(tǒng)，其具有改善上述之問題的功效。

為達成上述目的，本實用新型涉及一種液位控制系統(tǒng)，用于基板之濕式處理，其包括一水槽、一固定裝置以及一液體移除裝置。

所述水槽，用于儲放一液體。所述固定裝置，用于固定一基板于所述液體中，其中所述液體用來對于所述基板浸泡于所述液體中的部分進行處理。所述液體移除裝置，用于將所述液體自所述水槽中移除。隨著所述液體自所述水槽中逐漸移除，所述基板浸泡于所述液體中的部分會隨之減少。

在一優(yōu)選實施例中，所述液體是蝕刻液及/或生物溶液。

在一優(yōu)選實施例中，所述固定裝置可以是安裝于所述水槽的底部、側(cè)邊以及外部其中一位置。

在一優(yōu)選實施例中，所述液體移除裝置是一微量閥和一定量泵中一者。

在一優(yōu)選實施例中，所述液位控制系統(tǒng)還包括一過濾器，設置于所述液體進入所述液體移除裝置前的位置。

在一優(yōu)選實施例中，所述液位控制系統(tǒng)還包括一滴管，設置在所述液體離開所述液體移除裝置后的一側(cè)。

在一優(yōu)選實施例中，所述液位控制系統(tǒng)還包括一負壓裝置和所述滴管相連接。

在一優(yōu)選實施例中，所述液體移除裝置是一毛細單元，藉由接觸所述液體以便將所述液體通過毛細現(xiàn)象從所述水槽中移除。

相較于先前技術(shù)，本實用新型中通過將所述基板固定在距離所述水槽底部的一特定距離的位置，以及利用所述液體移除裝置將所述液體根據(jù)不同需求而逐漸自所述水槽中移出，完全避免掉先前技術(shù)利用機械方式伴隨的振動以及液面擾動問題而產(chǎn)生的技術(shù)問題。

附圖說明

圖1，繪示現(xiàn)有技術(shù)的液位控制系統(tǒng)之示意圖；

圖2，繪示根據(jù)本實用新型的第一優(yōu)選實施例的液位控制系統(tǒng)之示意圖，其用于基板之濕式處理；

圖3，繪示根據(jù)本實用新型的第二優(yōu)選實施例的液位控制系統(tǒng)之示意圖，其用于基板之濕式處理；以及

圖4，繪示根據(jù)本實用新型的微量液位控制方法之流程圖，其用于基板之濕式處理。

具體實施方式

以下參照附圖詳細說明的實施例將會使得本實用新型的優(yōu)點和特征以及實現(xiàn)這些優(yōu)點和特征的方法更加明確。但是，本實用新型不局限于以下所公開的實施例，本實用新型能夠以互不相同的各種方式實施，以下所公開的實施例僅用于使本實用新型的公開內(nèi)容更加完整，有助于本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠完整地理解本實用新型之范疇，本實用新型是根據(jù)申請專利范圍而定義。在說明書全文中，相同的附圖標記表示相同的裝置組件。

參考圖2，繪示根據(jù)本實用新型的第一優(yōu)選實施例的液位控制系統(tǒng)100之示意圖，其用于基板之濕式處理。所述液位控制系統(tǒng)100包括一水槽110、一固定裝置130以及一液體移除裝置150。應當注意的是，在本圖中的所述液體移除裝置150是一微量閥，且另外還有設置一過濾器160以及一滴管170。所述滴管170可連通大氣或是一負壓裝置172。在其他優(yōu)選實施例中，也可以選擇性地不設置所述過濾器160及/或所述滴管170及/或所述負壓裝置172，并不以此為限。

所述水槽110用于儲放一液體120。一般而言，所述液體120是一種處理液體，像是蝕刻液及/或生物溶液，或者是其他在濕式制程會使用的液體。所述固定裝置130用于固定一基板140于所述液體120中。所述液體移除裝置150用于將所述液體120自所述水槽110中移除。因為在面板或晶圓產(chǎn)業(yè)中，需要對所述基板140進行固定時間均勻分段浸泡程序，簡言之，就是讓所述基板140浸泡在所述液體120中的部份逐漸減少。本實用新型棄用傳統(tǒng)的移動所述基板140的方式，而是采用讓所述液體120自所述水槽110中逐漸移除，進而使所述基板140浸泡于所述液體120中的部分會隨之減少。至于移除的速度，可以采用定時定量的方式及/或持續(xù)定量的方式，端看實際需求而定。

在圖1中，所述固定裝置130是安裝于所述水槽110底部。然而，在其他優(yōu)選實施例中，所述固定裝置130亦可安裝所述水槽110的側(cè)邊以及外部其中一位置。只要能夠讓所述基板140距離所述水槽110的底部的距離是不變的即可，以便只要通過改變所述液體120的液面高度便能對所述基板140進行固定時間均勻分段浸泡程序。

一般而言，所述基板140是玻璃基板或晶圓，故所述基板140在所述液體120中是沉體。

在本優(yōu)選實施例中，考慮所述液體120可能會產(chǎn)生蝕刻沉淀物或其他雜質(zhì)，因此在所述液體120進入所述液體移除裝置150前的位置設置所述過濾器160。另外，一般而言，所述液體移除裝置150所設定的液體移除量相當小，可能會產(chǎn)生真空或其他問題造成所述液體120無法順利移除，因此在所述液體120離開所述液體移除裝置150后的一側(cè)設置所述滴管170可連接所述負壓裝置172，通過施加而外的負壓，以確保所述液體120能夠持續(xù)自所述水槽110移除。

圖3，繪示根據(jù)本實用新型的第二優(yōu)選實施例的液位控制系統(tǒng)200之示意圖，其用于基板之濕式處理。本優(yōu)選實施例與第一優(yōu)選實施例的區(qū)別在于：所述液體移除裝置150是一毛細單元，藉由接觸所述液體120以便將所述液體120通過毛細現(xiàn)象從所述水槽110中移除。

圖4，繪示根據(jù)本實用新型的微量液位控制方法之流程圖，其用于基板之濕式處理。關(guān)于本方法所使用的組件，請參考前述優(yōu)選實施例，不在此贅述。所述微量液位控制方法包括：首先，執(zhí)行步驟S01，設置一水槽110以儲放一液體120；接著，執(zhí)行步驟S02，將一基板140藉由一固定裝置130固定在所述液體120中，其中所述液體120用來對于所述基板140浸泡于所述液體120中的部分進行處理；接著，執(zhí)行步驟S03，利用一液體移除裝置150將所述液體120自所述水槽110中逐漸移除，以使所述基板140沉沒在所述液體120中的部份逐漸減少。

綜上所述，本實用新型中通過將所述基板固定在距離所述水槽底部的一特定距離的位置，以及利用所述液體移除裝置將所述液體根據(jù)不同需求而逐漸自所述水槽中移出，完全避免掉先前技術(shù)利用機械方式伴隨的振動以及液面擾動問題而產(chǎn)生的問題：基板因處理不均勻而報廢。

雖然本實用新型已用優(yōu)選實施例揭露如上，然其并非用以限定本實用新型，本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本實用新型之精神和范圍內(nèi)，當可作各種之更動與潤飾，因此本實用新型之保護范圍當視后附之申請專利范圍所界定者為準。