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      晶體硅電池的表面結(jié)構(gòu)、晶體硅電池片及太陽(yáng)能電池的制作方法

      文檔序號(hào):11051129閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種晶體硅電池的表面結(jié)構(gòu),其特征在于,包括受光面(1),所述受光面(1)包括與電極接觸的接觸區(qū)域(11)和未與電極接觸的非接觸區(qū)域(12),所述接觸區(qū)域(11)為納米絨面結(jié)構(gòu)(13),所述非接觸區(qū)域(12)為微米絨面結(jié)構(gòu)(14)或亞微米絨面結(jié)構(gòu)。

      2.如權(quán)利要求1所述的晶體硅電池的表面結(jié)構(gòu),其特征在于,所述納米絨面結(jié)構(gòu)(13)在垂直于受光面(1)的方向上的高度為10nm~500nm,在平行于受光面(1)的方向上的長(zhǎng)度和寬度均為10nm~500nm。

      3.如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的晶體硅電池的表面結(jié)構(gòu),其特征在于,所述受光面(1)由單晶硅經(jīng)過(guò)堿制絨形成,所述納米絨面結(jié)構(gòu)(13)為底邊的長(zhǎng)度一致的均勻金字塔絨面結(jié)構(gòu)。

      4.如權(quán)利要求3所述的晶體硅電池的表面結(jié)構(gòu),其特征在于,所述微米絨面結(jié)構(gòu)(14)在垂直于受光面(1)的方向上的高度為1μm~5μm,在平行于受光面(1)的方向上的長(zhǎng)度和寬度均為1μm~5μm。

      5.如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的晶體硅電池的表面結(jié)構(gòu),其特征在于,所述受光面(1)由多晶硅酸制絨形成,所述納米絨面結(jié)構(gòu)(13)為矩形狀的蟲(chóng)孔絨面結(jié)構(gòu)。

      6.如權(quán)利要求5所述的晶體硅電池的表面結(jié)構(gòu),其特征在于,所述微米絨面結(jié)構(gòu)(14)在垂直于受光面(1)的方向上的高度為0.7μm~5μm,在平行于受光面(1)的方向上的長(zhǎng)度和寬度均為0.7μm~5μm。

      7.一種晶體硅電池片,其特征在于,包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的晶體硅電池的表面結(jié)構(gòu)。

      8.一種太陽(yáng)能電池,其特征在于,包括權(quán)利要求7所述的晶體硅電池片。

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