国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      清洗架的制作方法

      文檔序號(hào):11051026閱讀:455來(lái)源:國(guó)知局
      清洗架的制造方法與工藝

      本實(shí)用新型涉及晶片清洗裝置,尤其涉及一種清洗架。



      背景技術(shù):

      目前半導(dǎo)體晶片的清洗程序一般是單片清洗,包括挑片、放夾子、清洗、甩干等繁瑣工序,效率低,例如清洗一片鍺片,需要接近十分鐘。在清洗過(guò)程中晶片轉(zhuǎn)移頻繁,晶片的掉落及擦碰機(jī)率大大增加。清洗用人成本高,針對(duì)不同晶片、不同尺寸須要用不同規(guī)格的清洗工具,清洗用具繁多造價(jià)昂貴,目前市場(chǎng)上有生產(chǎn)兩寸、四寸、六寸、厚薄片、雙面拋光片等不同尺寸規(guī)格,又分硅片、砷化鎵、鍺晶片等眾多晶片種類,每種不同尺寸的晶片須要不同的清洗工具。

      為克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,亟需提供一種新型的清洗架。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本實(shí)用新型的目的在于為克服不同尺寸晶片每次只能單片清洗及清洗過(guò)程中晶片拋光后轉(zhuǎn)移次數(shù)多的問(wèn)題,提供一種清洗架。

      為實(shí)現(xiàn)前述目的,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:一種清洗架,用于清洗晶片,其包括兩個(gè)平行放置的支架、垂直連接在支架上的至少三個(gè)卡位軸以及兩鑲塊,所述支架上各開設(shè)有一卡口,所述鑲塊對(duì)應(yīng)嵌入卡口內(nèi)將其中一個(gè)卡位軸的兩端分別固定在兩支架的卡口內(nèi),所述鑲塊能夠在外力作用下與卡口分離,其他卡位軸的兩端分別連接在兩支架上,每一卡位軸上包括若干等間距間隔開的卡齒,所述卡齒以卡位軸的軸心為軸心,所述晶片放置于卡位軸的相鄰的兩卡齒之間。

      作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn),所述支架采用圓環(huán)型結(jié)構(gòu),所述卡位軸在支架上等間距分布。

      作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn),所述卡位軸兩端設(shè)置有外螺紋,所述外螺紋與螺帽配合固定在支架上。

      作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn),所述卡口位于支架的外緣且呈外窄內(nèi)寬結(jié)構(gòu)。

      本實(shí)用新型清洗架100不僅提供多片晶片同時(shí)清洗,還能極大的減少晶片轉(zhuǎn)移的次數(shù),對(duì)不同尺寸晶片進(jìn)行清洗,僅需要調(diào)整清洗架的支架的大小,降低清洗成本。

      附圖說(shuō)明

      圖1為本實(shí)用新型清洗架的實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

      請(qǐng)參閱圖1,一種用于清洗晶片的清洗架100,其包括兩個(gè)平行放置的支架1、垂直連接在支架1上的至少三個(gè)卡位軸2以及兩鑲塊3,在本實(shí)施例中,卡位軸2的數(shù)量為四個(gè)。

      支架1采用圓環(huán)型結(jié)構(gòu),卡位軸2在支架1上呈環(huán)形等間距分布,支架1上各開設(shè)有一卡口11,卡口11位于支架1的外緣且呈外窄內(nèi)寬結(jié)構(gòu)。

      每一卡位軸2上包括若干等間距間隔開的卡齒21,卡齒21以卡位軸2的軸心為軸心,晶片放置于卡位軸2的相鄰的兩卡齒21之間??ㄎ惠S2的卡齒21底部使用圓弧結(jié)構(gòu),內(nèi)窄外寬的斜面能有效保護(hù)晶片正背面不接觸(只有晶片邊緣接觸),避免影響到晶片正背面(如劃傷、污染)。

      鑲塊3對(duì)應(yīng)嵌入卡口11內(nèi)將其中一個(gè)卡位軸2的兩端分別固定在兩支架1的卡口11內(nèi),在需要放置晶片或者轉(zhuǎn)移晶片時(shí),鑲塊3能夠在外力作用下與卡口11分離,所固定的卡位軸2也能夠與支架1分離從而形成一缺口便于晶片的移入或移出清洗架100,其他卡位軸2的兩端分別連接在兩支架2上,本實(shí)施例中,所有卡位軸2的兩端分別設(shè)置有外螺紋(圖上未示出),外螺紋與螺母4配合將卡位軸2固定在支架1上。

      采用本清洗架100,可以同時(shí)放置多片晶片在清洗架100內(nèi)完成清洗和甩干過(guò)程,減少晶片轉(zhuǎn)移次數(shù),降低晶片被損傷的風(fēng)險(xiǎn),從挑片到甩干可以由1人完成,節(jié)省工時(shí)。

      當(dāng)需要清洗其他尺寸的晶片時(shí),僅需更換其他尺寸的支架并適當(dāng)增加卡位軸的數(shù)量即可。

      本實(shí)用新型清洗架100不僅提供多片晶片同時(shí)清洗,還能極大的減少晶片轉(zhuǎn)移的次數(shù),對(duì)不同尺寸晶片進(jìn)行清洗,僅需要調(diào)整清洗架的支架的大小,降低清洗成本。

      盡管為示例目的,已經(jīng)公開了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將意識(shí)到,在不脫離由所附的權(quán)利要求書公開的本實(shí)用新型的范圍和精神的情況下,各種改進(jìn)、增加以及取代是可能的。

      當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 
      網(wǎng)友詢問(wèn)留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
      1