本實(shí)用新型涉及一種基板旋轉(zhuǎn)(spinning)裝置，更為詳細(xì)地涉及一種基板旋轉(zhuǎn)裝置，所述基板旋轉(zhuǎn)裝置能夠防止基板的變形及損傷并提升清洗均勻度。

背景技術(shù)：

通過(guò)在晶元等的基板上進(jìn)行蒸鍍工藝、光刻工藝、蝕刻工藝等多項(xiàng)工藝來(lái)制成半導(dǎo)體元件。并且，在進(jìn)行所述工藝之后，進(jìn)行對(duì)殘留于基板上的不必要的薄膜、粒子等異物進(jìn)行去除的清洗工藝。

尤其，結(jié)束化學(xué)機(jī)械研磨工藝的基板因?yàn)楸砻鏆埩粲泻芏喈愇?，所以為了去除異物而進(jìn)行多步驟的清洗工藝，其中，正在探索能夠?qū)宓纳厦婧拖旅嫱瑫r(shí)進(jìn)行清洗的方案。

例如，用于刷式(brush)清洗裝置的基板旋轉(zhuǎn)裝置1的構(gòu)成如圖1及圖2所示，所述刷式清洗裝置通過(guò)清洗刷子(brush)99同時(shí)對(duì)圓形盤(disc)形狀的基板W的上面和下面進(jìn)行接觸清洗。換句話說(shuō)，基板旋轉(zhuǎn)裝置1如果得到圓形盤形狀的基板W的供給，則使得固定一對(duì)A1、A2的驅(qū)動(dòng)支撐體10、20的支撐架(未示出)中的任意一個(gè)進(jìn)行移動(dòng)，從而在將基板W收納至驅(qū)動(dòng)支撐體10、20的接觸支撐體15、25的狀態(tài)下，對(duì)接觸支撐體15進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，從而使得基板W進(jìn)行水平旋轉(zhuǎn)。

在基板水平旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，能夠向旋轉(zhuǎn)的同時(shí)接觸于基板的表面的刷子99供給清洗液及藥液等，同時(shí)去除殘留于基板W的表面的異物。

通常，基板旋轉(zhuǎn)裝置1的驅(qū)動(dòng)支撐體10、20形成為三個(gè)以上，并且驅(qū)動(dòng)支撐體10、20中的一部分作為對(duì)基板W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)支撐體10而設(shè)置，剩余的其他部分作為對(duì)基板W的旋轉(zhuǎn)數(shù)進(jìn)行測(cè)量的空轉(zhuǎn)輪(idler)支撐體20而設(shè)置。

如圖3所示，驅(qū)動(dòng)支撐體10包括：驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸12，其通過(guò)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)M得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，且在上、下側(cè)通過(guò)軸承(bearing)12b得到旋轉(zhuǎn)支撐；中空殼體(housing)13，其包裹驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸12的外圍；接觸支撐體15，其結(jié)合于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸12的上端部，從而對(duì)基板W進(jìn)行支撐。

接觸支撐體15結(jié)合于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸12，從而與驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸12共同進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。如圖3及圖4所示，接觸支撐體15可分割形成為多個(gè)支撐體15a、15b、15b，并且通過(guò)連接螺栓(bolt)77x、78x、79x得以結(jié)合。根據(jù)情況的不同，接觸支撐體也能夠只設(shè)置為一個(gè)主體。保持接觸支撐體15接觸基板W的邊緣位置的狀態(tài)，隨著接觸支撐體15得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，與接觸支撐體15接觸的基板W也同時(shí)得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。

如圖5所示，空轉(zhuǎn)輪(idler)支撐體20也包括：驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸22，其上、下側(cè)通過(guò)軸承(bearing)22b得到旋轉(zhuǎn)支撐；中空殼體23，其包裹驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸22的外圍；接觸支撐體25，其結(jié)合于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸22的上端部，從而對(duì)基板W進(jìn)行支撐。并且，不是驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連接于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸22，而是對(duì)旋轉(zhuǎn)數(shù)進(jìn)行感知的編碼器(encoder)等傳感器S連接設(shè)置于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸22，從而對(duì)與空轉(zhuǎn)輪接觸支撐體25共同進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸22的旋轉(zhuǎn)數(shù)進(jìn)行測(cè)量，進(jìn)而對(duì)基板W的旋轉(zhuǎn)數(shù)進(jìn)行感知。

另外，在現(xiàn)有旋轉(zhuǎn)裝置1中，為了通過(guò)刷子99得以實(shí)現(xiàn)基板W的清洗均勻度，在刷子99接觸于基板W的期間，基板W應(yīng)能夠以沒(méi)有變形且保持水平配置的狀態(tài)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

換句話說(shuō)，由于制造公差或組裝誤差等而相面對(duì)地進(jìn)行配置的支撐體(驅(qū)動(dòng)支撐體或空轉(zhuǎn)輪支撐體)接觸于基板W的接觸應(yīng)力不相同的情況下，基板W的特定部位(例如，中央部)以朝上部或下部凸出的變形的狀態(tài)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。如上所述，在以基板W變形的狀態(tài)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的期間刷子99接觸于基板W的表面，則按照基板W的變形量而刷子99接觸的接觸面積及接觸壓力在基板W的各部位均不同，由此存在如下問(wèn)題：難以實(shí)現(xiàn)通過(guò)刷子99在基板W的表面進(jìn)行整體上均勻地清洗，并且無(wú)法準(zhǔn)確地計(jì)算基板W的清洗量。

具體地，參照?qǐng)D6，在各支撐體以40psi的接觸壓力支撐基板W的條件下，在從基板W的中心間隔40mm的地點(diǎn)利用位移傳感器測(cè)量基板W的表面高度的結(jié)果，可知產(chǎn)生大約0.3mm的高度偏差。如上所述，在基板W的表面高度產(chǎn)生偏差的條件(變形的狀態(tài))下，刷子99接觸于基板W的表面，則按照基板W的表面高度偏差而刷子99接觸的接觸面積及接觸壓力在基板W的各部位均不同，由此存在如下問(wèn)題：難以實(shí)現(xiàn)通過(guò)刷子99在基板W的表面進(jìn)行整體上均勻地清洗，并且無(wú)法準(zhǔn)確地算出基板W的清洗量。

由此，最近雖然存在針對(duì)基板的防止由于接觸壓力偏差而產(chǎn)生基板變形且用于提供基板的清洗均勻度的多種研究，但是仍存在不足，從而需要對(duì)其進(jìn)行開發(fā)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種基板旋轉(zhuǎn)裝置，其能夠防止基板的變形及損傷，并能夠提升清洗均勻度。

尤其，本實(shí)用新型的目的在于防止由于支撐部的接觸壓力偏差而產(chǎn)生基板的變形及破損，并得以提升通過(guò)清洗刷子的基板的清洗均勻度。

此外，本實(shí)用新型的目的在于能夠均衡地控制基板和支撐部接觸壓力，并能夠提升穩(wěn)定性及信賴性。

此外，本實(shí)用新型的目的在于通過(guò)對(duì)基板正確地控制旋轉(zhuǎn)，從而利用不過(guò)度也不缺乏的適當(dāng)?shù)那逑戳靠刂魄逑垂に嚥⒛軌虼_保清洗的信賴性。

根據(jù)用于達(dá)成所述的本實(shí)用新型的目的的本實(shí)用新型的優(yōu)選的實(shí)施例，支撐圓形盤(disc)形狀的基板的同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板旋轉(zhuǎn)裝置，包括：固定支撐部，其固定設(shè)置以便支撐基板的邊緣位置一側(cè)；可動(dòng)支撐部，其以可朝與基板接近及分離的方向移動(dòng)的方式設(shè)置并支撐相面對(duì)固定支撐部的基板的邊緣位置另一側(cè)；位置控制部，其在清洗刷子接觸于基板的表面期間使可動(dòng)支撐部從基板分離開來(lái)并在清洗刷子未接觸于基板的表面期間使可動(dòng)支撐部接近于基板。

其為，就利用清洗刷子清洗旋轉(zhuǎn)的基板而言，用于防止在基板變形的狀態(tài)下清洗刷子接觸而產(chǎn)生基板的損傷，并防止基板的清洗均勻度下降。

換句話說(shuō)，本實(shí)用新型利用固定支撐部和可動(dòng)支撐部以可旋轉(zhuǎn)的方式支撐基板，在清洗刷子接觸于基板的表面期間通過(guò)使可動(dòng)支撐部從基板分離開來(lái)，能夠得到如下效果：防止由于可動(dòng)支撐部和固定支撐部的制造公差或組裝誤差等而產(chǎn)生基板的變形，并防止由于基板的表面高度偏差而產(chǎn)生清洗刷子的清洗均勻地降低。

換句話說(shuō)，在可動(dòng)支撐部和固定支撐部從相面對(duì)的兩側(cè)支撐基板的結(jié)構(gòu)中，由于可動(dòng)支撐部和固定支撐部的制造公差及組裝誤差等可能在基板產(chǎn)生變形且可能產(chǎn)生表面高度偏差。如上所述，清洗刷子在基板變形的狀態(tài)下進(jìn)行接觸，則按照基板的變形量而清洗刷子接觸的接觸面積及接觸壓力在基板的各部位均不同，由此難以實(shí)現(xiàn)通過(guò)清洗刷子在基板的表面進(jìn)行整體上均勻地清洗，并無(wú)法準(zhǔn)確地算出基板的清洗量。但是，本實(shí)用新型中在清洗刷子接觸于基板的期間，基板僅僅通過(guò)固定支撐部得到支撐并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)(由于能夠進(jìn)行朝向可動(dòng)支撐部的基板的部分移動(dòng))，由此防止由于可動(dòng)支撐部和固定支撐部的制造公差及組裝誤差而產(chǎn)生基板的變形，并能夠預(yù)防在基板的表面產(chǎn)生高度偏差。

此外，可動(dòng)支撐部在從基板分離開來(lái)的狀態(tài)下，由于通過(guò)固定支撐部的接觸應(yīng)力，和隨著清洗刷子旋轉(zhuǎn)接觸于基板而作用于基板的水平荷重，從相面對(duì)的方向同時(shí)作用于基板，由此即便可動(dòng)支撐部從基板分離開來(lái)也能夠穩(wěn)定地維持基板的水平配置狀態(tài)。

另外，本實(shí)用新型中根據(jù)基板的處理工藝而只在必要時(shí)選擇性地使用可動(dòng)支撐部，相比同時(shí)使用固定支撐部和可動(dòng)支撐部的情況，能夠得到如下有利效果：更加易于控制基板的旋轉(zhuǎn)，并且能夠降低電力消耗。

并且，通過(guò)設(shè)置為使得可動(dòng)支撐部從與通過(guò)清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相同的方向支撐基板的邊緣位置，能夠得到更加穩(wěn)定地維持基板的配置狀態(tài)的效果。

并且，固定支撐部，包括：第一固定支撐體，其從與由清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相面對(duì)的方向支撐基板的邊緣位置；第二固定支撐體，其配置為從第一固定支撐體分離開來(lái)并從與由清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相面對(duì)的方向支撐基板的另一邊緣位置。

此時(shí)，將第一固定支撐體和第二固定支撐體由用于使基板進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)支撐體構(gòu)成，僅僅利用固定支撐部能夠得到使基板以充分條件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的效果。根據(jù)情況，在第一固定支撐體和第二固定支撐體之中剩余的另一個(gè)也能夠用作根據(jù)基板的旋轉(zhuǎn)而進(jìn)行空轉(zhuǎn)(idle)旋轉(zhuǎn)的空轉(zhuǎn)支撐體。

并且，可動(dòng)支撐部包括第一可動(dòng)支撐體和第二可動(dòng)支撐體之中至少任意一個(gè)，所述第一可動(dòng)支撐體通過(guò)清洗刷子在與施加于基板的水平荷重方向相同的方向支撐基板的邊緣位置，所述第二可動(dòng)支撐體以從第一可動(dòng)支撐體分離開的方式配置，并通過(guò)清洗刷子在與施加于基板的水平荷重方向相同的方向支撐基板的邊緣位置。

此時(shí)，通過(guò)將第一可動(dòng)支撐體和第二可動(dòng)支撐體之中至少任意一個(gè)設(shè)置為用于使基板進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)支撐體，能夠得到在清洗刷子未接觸于基板的期間使基板以充分的條件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的效果。

并且，固定支撐部和可動(dòng)支撐部，包括：旋轉(zhuǎn)軸，其以柱形態(tài)直立設(shè)置并旋轉(zhuǎn)；接觸體，其結(jié)合于旋轉(zhuǎn)軸的上端并接觸基板的邊緣位置。

優(yōu)選地，空轉(zhuǎn)支撐部設(shè)置為可朝與基板接近及分離的方向移動(dòng)，并且包括彈性部件，所述彈性部件彈性支撐相對(duì)于基板的空轉(zhuǎn)支撐部的移動(dòng)。如上所述，空轉(zhuǎn)支撐部通過(guò)彈性部件的彈力使得朝與基板接近及分離的方向進(jìn)行彈性移動(dòng)，由此能夠得到如下有利效果：抵銷由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力并防止由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力而產(chǎn)生基板變形。

并且，可以包括清洗水噴射部，其在清洗刷子未接觸的期間噴射清洗水于基板的表面。

根據(jù)本實(shí)用新型的另一優(yōu)選實(shí)施例，支撐圓形盤形狀的基板的同時(shí)使基板進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板旋轉(zhuǎn)裝置，包括：固定支撐部，其固定設(shè)置以便支撐基板的邊緣位置一側(cè)；空轉(zhuǎn)支撐部，其以可朝與基板接近及分離的方向移動(dòng)的方式設(shè)置并支撐相面對(duì)于固定支撐部的基板的邊緣位置另一側(cè)，并通過(guò)基板的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行空轉(zhuǎn)(idle)旋轉(zhuǎn)；彈性部件，其彈性支撐相對(duì)于基板的空轉(zhuǎn)支撐部的移動(dòng)。

如上所述，通過(guò)空轉(zhuǎn)支撐部支撐相面對(duì)于固定支撐部的基板的相反側(cè)，由此空轉(zhuǎn)支撐部通過(guò)彈性部件的彈力使得朝與基板接近及分離的方向進(jìn)行彈性移動(dòng)，能夠得到如下有利效果：抵銷由于空轉(zhuǎn)支撐部所致的接觸應(yīng)力，并防止由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力而產(chǎn)生基板變形。

并且，通過(guò)固定支撐部支撐基板的一側(cè)，并且相面對(duì)于固定支撐部的基板的相反側(cè)通過(guò)空轉(zhuǎn)支撐部得到支撐，由此即使在清洗刷子未接觸的期間(在清洗水噴射部噴射清洗水的期間)，無(wú)需額外的可動(dòng)支撐部也能得到穩(wěn)定地維持基板的水平配置狀態(tài)的有利效果，并能夠?qū)?gòu)造簡(jiǎn)化且將設(shè)備制作的較為小型。

根據(jù)本實(shí)用新型的其他領(lǐng)域，支撐圓形盤形態(tài)的基板的同時(shí)使基板進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板旋轉(zhuǎn)裝置可進(jìn)行操作，利用固定支撐部和可動(dòng)支撐部進(jìn)行包括如下步驟的操作：基板支撐步驟，其支撐基板；位置控制步驟，其控制相對(duì)于基板的可動(dòng)支撐部的位置，以便保持可動(dòng)支撐部接觸于基板的狀態(tài)或與基板分離，所述固定支撐部固定設(shè)置以便支撐基板的邊緣位置一側(cè)；所述可動(dòng)支撐部設(shè)置為可朝與基板接近及分離的方向移動(dòng)并支撐相面對(duì)于固定支撐部的基板的邊緣位置另一側(cè)。

如上所述，通過(guò)控制相對(duì)于基板的可動(dòng)支撐部的位置以便可動(dòng)支撐部選擇性地維持接觸于基板的狀態(tài)或與基板分離，由此能夠根據(jù)基板的處理工藝自由地決定是否使用可動(dòng)支撐部。換句話說(shuō)，根據(jù)基板的處理工藝僅在需要可動(dòng)支撐部時(shí)選擇性地使用可動(dòng)支撐部，由此相比同時(shí)使用固定支撐部和可動(dòng)支撐部時(shí)，能夠得到更加易于控制基板的旋轉(zhuǎn)的有利效果。

更重要的是，在位置控制步驟中，在清洗刷子接觸于基板的表面期間，使可動(dòng)支撐部從基板分離開，并在清洗刷子未接觸于基板的表面期間使可動(dòng)支撐部接近于基板，由此能夠得到如下效果：防止由于可動(dòng)支撐部和固定支撐部的制造公差或組裝誤差等，并且防止由于基板的表面高度偏差而產(chǎn)生清洗刷子的清洗均衡度降低。

優(yōu)選地，在基板支撐步驟中，固定支撐部根據(jù)與通過(guò)清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相面對(duì)的第一方向支撐基板的邊緣位置一側(cè)，并且可動(dòng)支撐部在與第一方向相面對(duì)的第二方向支撐基板的邊緣位置另一側(cè)，由此在清洗刷子未接觸于基板的表面期間，即使可動(dòng)支撐部從基板分離開來(lái)，也能夠得到穩(wěn)定地維持基板的水平配置狀態(tài)的效果。

此外，支撐基板的邊緣位置，并包括利用根據(jù)基板的旋轉(zhuǎn)而空轉(zhuǎn)(idle)旋轉(zhuǎn)的空轉(zhuǎn)支撐部并檢測(cè)出基板的旋轉(zhuǎn)數(shù)的旋轉(zhuǎn)數(shù)檢出步驟，由此能夠得到如下效果：以適當(dāng)?shù)那逑戳靠刂魄逑垂に嚩_保清洗的信賴性，并且均衡地控制基板的清洗狀態(tài)。

此時(shí)，在旋轉(zhuǎn)數(shù)檢出步驟中空轉(zhuǎn)支撐部彈性地接觸于基板，并根據(jù)空轉(zhuǎn)支撐部的彈性移動(dòng)而抵銷作用于基板的接觸應(yīng)力，由此能夠得到如下有利效果：抵銷由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力而防止由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力產(chǎn)生基板變形。

優(yōu)選地，在旋轉(zhuǎn)數(shù)檢出步驟中空轉(zhuǎn)支撐部在與通過(guò)清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相同的方向支撐基板的邊緣位置，由此能夠得到穩(wěn)定地維持基板的配置狀態(tài)的效果。

根據(jù)如上所述的本實(shí)用新型，能夠防止基板的變形及損傷，并提升清洗均勻度。

尤其，根據(jù)本實(shí)用新型，利用固定支撐部和可動(dòng)支撐部可旋轉(zhuǎn)地支撐基板，從而在清洗刷子接觸于基板的表面期間可動(dòng)支撐部從基板分離開來(lái)，由此能夠得到如下效果：防止由于可動(dòng)支撐部和固定支撐部的制造公差或組裝誤差而產(chǎn)生基板的變形，并防止由于基板的表面高度偏差而清洗刷子的清洗均勻度降低。

換句話說(shuō)，可動(dòng)支撐部和固定支撐部在相面對(duì)的兩側(cè)支撐基板的構(gòu)造中，由于可動(dòng)支撐部和固定支撐部的制造公差及組裝誤差等而能夠產(chǎn)生基板變形且產(chǎn)生表面高度差。如上所述，清洗刷子在基板變形的狀態(tài)下接觸，則按照基板的變形量而清洗刷子接觸的接觸面積及接觸壓力在基板的各部位都互不相同，由此難以使通過(guò)清洗刷子的清洗整體上均衡地在基板表面實(shí)現(xiàn)，并且無(wú)法準(zhǔn)確地計(jì)算基板的清洗量。但是，在本實(shí)用新型中的清洗刷子在接觸于基板的期間，因?yàn)榛鍍H通過(guò)固定支撐部進(jìn)行支撐并旋轉(zhuǎn)，由此防止由于可動(dòng)支撐部和固定支撐部的制造公差及組裝誤差而產(chǎn)生基板變形，并能夠預(yù)防基板的表面產(chǎn)生高度偏差。

另外，本實(shí)用新型中的根據(jù)基板的處理工藝的可動(dòng)支撐部?jī)H在必要時(shí)選擇性地使用可動(dòng)支撐部，相比同時(shí)使用固定支撐部和可動(dòng)支撐部時(shí)，能夠得到更加易于控制基板的旋轉(zhuǎn)的有利效果，并能夠得到降低電力消耗的有利效果。

此外，根據(jù)本實(shí)用新型能夠均衡地控制基板和支撐部的接觸壓力，并準(zhǔn)確地控制基板的旋轉(zhuǎn)條件，從而能夠得到提升穩(wěn)定性及信賴性的效果。

此外，根據(jù)本實(shí)用新型能夠得到如下效果：防止由于支撐部的接觸壓力偏差而產(chǎn)生基板的變形及破損，并以不過(guò)度也不缺乏的適當(dāng)?shù)那逑戳靠刂魄逑垂に嚩_保清洗的信賴性，并均衡且一貫地控制基板的清洗狀態(tài)。

附圖說(shuō)明

圖1是示出常規(guī)的基板旋轉(zhuǎn)裝置的構(gòu)成的立體圖，

圖2是示出使得基板安放于圖1的狀態(tài)的平面圖，

圖3是沿著圖1的截?cái)嗑€Ⅲ-Ⅲ的驅(qū)動(dòng)支撐體的縱截面圖，

圖4是圖3的'A'部分的放大圖，

圖5是圖1的感知支撐體的縱截面圖，

圖6是示出根據(jù)圖1的基板旋轉(zhuǎn)裝置的基板旋轉(zhuǎn)時(shí)晶元的表面高度變形量的圖表，

圖7是用于說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的基板旋轉(zhuǎn)裝置的圖，

圖8是用于說(shuō)明圖7的固定支撐部和可動(dòng)支撐部的圖，

圖9至圖11是用于說(shuō)明圖7的可動(dòng)支撐部的操作構(gòu)造的圖，

圖12是示出圖7的第一固定支撐體的圖，

圖13是示出圖7的第一可動(dòng)支撐體的圖，

圖14是用于說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施例的基板旋轉(zhuǎn)裝置的圖，

圖15及圖16是用于說(shuō)明圖14的可動(dòng)支撐部的操作構(gòu)造的圖，

圖17是示出圖14的空轉(zhuǎn)支撐部的圖，

圖18及圖19是用于說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的又另一實(shí)施例的基板旋轉(zhuǎn)裝置的圖，

圖20是用于說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的基板旋轉(zhuǎn)裝置的操作方法的框圖。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但本實(shí)用新型并非受到實(shí)施例的限制或限定。作為參考，本說(shuō)明中，相同的標(biāo)號(hào)實(shí)質(zhì)指代相同的要素，在這種規(guī)則下，可引用記載于其他附圖的內(nèi)容進(jìn)行說(shuō)明，并且省略對(duì)從業(yè)人員來(lái)說(shuō)顯而易見或重復(fù)的內(nèi)容。

圖7是用于說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的基板旋轉(zhuǎn)裝置的圖，圖8是用于說(shuō)明圖7的固定支撐部和可動(dòng)支撐部的圖，圖9至圖11是用于說(shuō)明圖7的可動(dòng)支撐部的操作構(gòu)造的圖。此外，圖12是示出圖7的第一固定支撐體的圖，圖13是示出圖7的第一可動(dòng)支撐體的圖。

參照?qǐng)D7至圖12，使得根據(jù)本實(shí)用新型的使圓形盤(disc)形狀的基板W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板旋轉(zhuǎn)裝置10，包括：固定支撐部210，其固定設(shè)置以便支撐基板W的邊緣位置一側(cè)；可動(dòng)支撐部240，其以可朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)的方式設(shè)置并支撐相面對(duì)于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側(cè)；位置控制部270，其在清洗刷子300接觸于基板W的表面期間使可動(dòng)支撐部240從基板W分離開來(lái)并在清洗刷子300未接觸于基板W的表面期間使可動(dòng)支撐部240接近于基板W。

固定支撐部210固定設(shè)置以便支撐基板W的邊緣位置一側(cè)。在此，所謂固定支撐部210支撐基板W的邊緣位置一側(cè)，可以理解為基板W的邊緣位置一側(cè)直接相接地接觸于固定支撐部210并得到支撐的狀態(tài)。

固定支撐部210根據(jù)所要求的條件及設(shè)計(jì)樣式可設(shè)置為能夠以多種構(gòu)造支撐基板W的邊緣位置。作為一個(gè)例子，固定支撐部210可設(shè)置為包括：第一固定支撐體220，其在與從清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相面對(duì)的方向支撐基板W的邊緣位置；第二固定支撐體230，其以從第一固定支撐體220分離開來(lái)的方式配置，并在與從清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相面對(duì)的方向支撐基板W的另一邊緣位置。根據(jù)情況，固定支撐部能夠設(shè)置為僅由一個(gè)固定支撐體構(gòu)成或者也能夠設(shè)置為包括三個(gè)以上的固定支撐體。

參照?qǐng)D12，第一固定支撐體220和第二固定支撐體230設(shè)置為包括：旋轉(zhuǎn)軸212，其分別以柱形態(tài)直立設(shè)置并旋轉(zhuǎn)；接觸體214，其結(jié)合于所述旋轉(zhuǎn)軸212的前端并直接接觸于基板W的邊緣位置。

作為一個(gè)例子，所述接觸體214可分割設(shè)置為多個(gè)接觸支撐體，通過(guò)連接螺栓可結(jié)合為單一主體形態(tài)。根據(jù)情況，接觸體能夠設(shè)置為僅一個(gè)的接觸支撐體，并且接觸支撐體的個(gè)數(shù)及構(gòu)造并非限制或限定于本實(shí)用新型。

并且，第一固定支撐體220和第二固定支撐體230用作用于使基板W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)支撐體。以下，對(duì)于將構(gòu)成所述固定支撐部210的第一固定支撐體220和第二固定支撐體230全部用作用于使基板W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)支撐體的例子進(jìn)行說(shuō)明。根據(jù)情況，第一固定支撐體和第二固定支撐體之中任意一個(gè)用作驅(qū)動(dòng)支撐體，第一固定支撐體和第二固定支撐體之中剩余另一個(gè)能夠用作通過(guò)基板的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行空轉(zhuǎn)(idle)旋轉(zhuǎn)的空轉(zhuǎn)支撐體。

所述第一固定支撐體220及第二固定支撐體230用作驅(qū)動(dòng)支撐體的情況下，第一固定支撐體220及第二固定支撐體230的旋轉(zhuǎn)軸212分別通過(guò)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，各接觸體214能夠與旋轉(zhuǎn)軸212同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。隨著接觸體214、224的旋轉(zhuǎn)，以接觸于各接觸體214、224的狀態(tài)得到支撐的基板W能夠同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

可動(dòng)支撐部240支撐相面對(duì)于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側(cè)，并設(shè)置為可朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)。

換句話說(shuō)，可動(dòng)支撐部240為了在基板W的一側(cè)通過(guò)固定支撐部210而支撐的狀態(tài)下選擇性地支撐基板W的相反側(cè)而設(shè)置，沿著朝與基板W接近及分離的方向進(jìn)行移動(dòng)，由此能夠選擇性地接觸(支撐)于基板W或者與基板W分離。

在此，所謂可動(dòng)支撐部240支撐基板W的邊緣位置另一側(cè)是指，在與通過(guò)清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相同的方向(相面對(duì)于固定支撐部210的方向)使基板W的邊緣位置另一側(cè)直接相接地接觸于可動(dòng)支撐部240并得到支撐的狀態(tài)。

此外，本實(shí)用新型中所謂可動(dòng)支撐部240支撐基板W的相反側(cè)以便相面對(duì)于固定支撐部210是指，定義為全部包括如下情況：通過(guò)可動(dòng)支撐部240得到支撐的基板W的支撐位置與通過(guò)固定支撐部210得到支撐的基板W的支撐位置配置于相同的水平線上或者配置于相鄰的不同水平線上。

可動(dòng)支撐部240根據(jù)所要求的條件及設(shè)計(jì)樣式可設(shè)置為能夠支撐基板W的邊緣位置的多種構(gòu)造。作為一個(gè)例子，可動(dòng)支撐部240設(shè)置為能夠朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)并包括第一可動(dòng)支撐部250和第二可動(dòng)支撐體260之中至少任意一個(gè)，所述第一可動(dòng)支撐體250選擇性地支撐基板W的邊緣位置，所述第二可動(dòng)支撐體260配置為從第一可動(dòng)支撐體250分離開來(lái)并在與通過(guò)清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相同的方向支撐基板W的邊緣位置。

以下，可動(dòng)支撐部240設(shè)置為僅包括第一可動(dòng)支撐體250，舉例說(shuō)明通過(guò)第一可動(dòng)支撐體250、第一固定支撐體220、第二固定支撐體使得基板W以三點(diǎn)支撐方式而支撐的構(gòu)成。優(yōu)選地，通過(guò)將第一可動(dòng)支撐體250配置為沿著基板W的圓周方向與第一固定支撐體220及第二固定支撐體230實(shí)現(xiàn)等間距地間隔，由此得到僅通過(guò)一個(gè)第一可動(dòng)支撐體250就能穩(wěn)定地支撐基板W的邊緣位置另一側(cè)的效果。

第一可動(dòng)支撐體250根據(jù)所要求的條件及設(shè)計(jì)樣式可設(shè)置為以多種方式能夠以朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)的形式構(gòu)成。作為一個(gè)例子，第一可動(dòng)支撐體250可設(shè)置為通過(guò)氣缸、螺線管、馬達(dá)等一樣的常規(guī)的直線驅(qū)動(dòng)工具而進(jìn)行直線移動(dòng)并以朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)的形式構(gòu)成。根據(jù)情況，也能夠設(shè)置為第一可動(dòng)支撐體及第二可動(dòng)支撐體以一個(gè)地點(diǎn)為基準(zhǔn)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)并朝與基板接近及分離的方向進(jìn)行移動(dòng)，或者第一可動(dòng)支撐體及第二可動(dòng)支撐體同時(shí)進(jìn)行直線移動(dòng)及旋轉(zhuǎn)移動(dòng)并以朝與基板接近及分離的方向移動(dòng)的形式構(gòu)成。

參照?qǐng)D13，第一可動(dòng)支撐體250可設(shè)置為包括：旋轉(zhuǎn)軸252，其以柱形態(tài)直立設(shè)置并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；接觸體254，其結(jié)合于旋轉(zhuǎn)軸的前端并直接接觸基板W的邊緣位置。

作為一個(gè)例子，第一可動(dòng)支撐體250的接觸體254可分割設(shè)置為多個(gè)接觸支撐體254a、254b、254c，并通過(guò)連接螺栓可結(jié)合為單一主體形態(tài)。根據(jù)情況，接觸體能夠設(shè)置為僅一個(gè)的接觸支撐體，并且本實(shí)用新型并非通過(guò)接觸支撐體的個(gè)數(shù)及構(gòu)造受到限制或限定。

作為參考，第一可動(dòng)支撐體250可使用用于使基板W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)支撐體。第一可動(dòng)支撐體250用作用于使基板W旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)支撐體的情況下，第一可動(dòng)支撐體250的旋轉(zhuǎn)軸252通過(guò)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)能夠得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，第一可動(dòng)支撐體250的接觸體254可與旋轉(zhuǎn)軸252同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。隨著第一可動(dòng)支撐體250的接觸體254的旋轉(zhuǎn)，以接觸于接觸體254的狀態(tài)得到支撐的基板W能夠同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

位置控制部270根據(jù)清洗刷子300是否接觸于基板W而控制相對(duì)于基板W的可動(dòng)支撐部240的位置，以便使得可動(dòng)支撐部240與基板W維持接觸狀態(tài)或者分離。

更為具體地，位置控制部270設(shè)置為在清洗刷子300接觸于基板W的表面的期間使得可動(dòng)支撐部240從基板W分離開來(lái)，在清洗刷子300未接觸于基板W的表面的期間使得可動(dòng)支撐部240接近于基板W。

例如，如圖9及圖10所述，在清洗刷子300接觸于基板W的表面期間，使得可動(dòng)支撐部240從基板W分離開來(lái)，并且基板W以通過(guò)固定支撐部210僅一側(cè)(例如，以清洗刷子300為基準(zhǔn)的基板W的兩側(cè)之中的某一側(cè))得到支撐的狀態(tài)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此能夠得到如下效果：防止由于可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210的制造公差或組裝誤差等而產(chǎn)生基板W的變形，并防止由于基板W的表面高度偏差而產(chǎn)生清洗刷子300的清洗均勻度降低。

換句話說(shuō)，在可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210在基板W相面對(duì)的兩側(cè)進(jìn)行支撐的構(gòu)造中，由于可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差等而能夠在基板W產(chǎn)生變形并產(chǎn)生表面高度偏差。如上所述，清洗刷子300在基板W變形的狀態(tài)下進(jìn)行接觸，則按照基板W的變形量根據(jù)清洗刷子300接觸的接觸面積及接觸壓力在基板W的各部位均互不相同，由此通過(guò)清洗刷子300的清洗在基板W的表面整體上難以均勻地實(shí)現(xiàn)，并無(wú)法準(zhǔn)確地算出基板W的清洗量。但是，在本實(shí)用新型中在清洗刷子300接觸于基板W的期間，由于基板W僅通過(guò)固定支撐部210得到支撐并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)(因?yàn)樵试S朝向可動(dòng)支撐部的基板的部分移動(dòng))，能夠防止由于可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差而產(chǎn)生基板W的變形，并能夠預(yù)防基板W的表面高度產(chǎn)生偏差。此時(shí)，根據(jù)通過(guò)固定支撐部210的接觸應(yīng)力(P1)和，隨著清洗刷子300旋轉(zhuǎn)接觸于基板W而作用于基板W的水平荷重從相面對(duì)的方向同時(shí)作用于基板W，由此可動(dòng)支撐部240即使從基板W分離開來(lái)也能夠穩(wěn)定地維持基板W的水平配置狀態(tài)。

相反，如圖11所述，在清洗刷子300未接觸于基板W的期間(例如，漂洗(rinse)工藝)，例如，在通過(guò)清洗刷子300的清洗完成后(或者通過(guò)清洗刷子300的清洗進(jìn)行之前)，可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210在相面對(duì)的兩側(cè)同時(shí)支撐基板W，并且清洗水噴射部將清洗水噴射于進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板W的表面，從而能夠去除殘留于基板W的表面的異物。

此外，在清洗刷子300未接觸于基板W的期間，即使由于可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差而產(chǎn)生基板W的部分變形，也因?yàn)榍逑此⒆?00未直接接觸于基板W，由此不會(huì)產(chǎn)生由于清洗刷子300的接觸而基板W損傷及清洗均勻度降低。

作為清洗水噴射部可以噴射純水或者清洗液一樣的流體，并且本實(shí)用新型并非根據(jù)從清洗水噴射部噴射出的流體的種類及特性而得到限制或限定。

另外，圖14是用于說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施例的基板旋轉(zhuǎn)裝置的圖，圖15及圖16是用于說(shuō)明圖14的可動(dòng)支撐部的操作構(gòu)造的圖，圖17是示出圖14的空轉(zhuǎn)支撐部的圖。并且，針對(duì)與所述構(gòu)成相同，以及相當(dāng)于相同的部分賦予相同或相當(dāng)于相同的參照標(biāo)號(hào)，并省略對(duì)其的詳細(xì)說(shuō)明。

參照?qǐng)D14，根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施例，基板旋轉(zhuǎn)裝置10，包括：固定支撐部210，其固定設(shè)置以便支撐基板W的邊緣位置一側(cè)；可動(dòng)支撐部240，其設(shè)置為可朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)并支撐相面對(duì)于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側(cè)；位置控制部270，其在清洗刷子300接觸于基板W的表面的期間使可動(dòng)支撐部240從基板W分離開來(lái)，并在清洗刷子300未接觸于基板W表面的期間使可動(dòng)支撐部240接近于基板W；空轉(zhuǎn)支撐部，其支撐基板W的邊緣位置并通過(guò)基板W的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行空轉(zhuǎn)(idle)旋轉(zhuǎn)。

空轉(zhuǎn)支撐部設(shè)置為接觸于基板W的邊緣位置，并通過(guò)基板W的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行空轉(zhuǎn)(idle)旋轉(zhuǎn)。

空轉(zhuǎn)支撐部根據(jù)所要求的條作件及設(shè)計(jì)樣式能夠設(shè)置為可支撐基板W的邊緣位置的多種構(gòu)造。作為一個(gè)例子，空轉(zhuǎn)支撐部設(shè)置為包括：旋轉(zhuǎn)軸，其以柱形態(tài)直立設(shè)置并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；空轉(zhuǎn)接觸體，其結(jié)合于空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸的上端從而接觸基板W的邊緣位置。

所述空轉(zhuǎn)接觸體214設(shè)置為在空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸的上端可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并設(shè)置為在直接相接觸地接觸于基板W的邊緣位置的狀態(tài)下隨著基板W的旋轉(zhuǎn)而通過(guò)基板W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

所述空轉(zhuǎn)接觸體314和空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸之間的旋轉(zhuǎn)結(jié)合構(gòu)造根據(jù)所要求的條件及設(shè)計(jì)樣式能夠進(jìn)行多種變更。作為一個(gè)例子，在空轉(zhuǎn)接觸體314的內(nèi)部可設(shè)置用于收容空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸的端部的旋轉(zhuǎn)軸收容部(未示出)，并以空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸的端部收容于旋轉(zhuǎn)軸收容部的狀態(tài)，使得空轉(zhuǎn)接觸體314相對(duì)于空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。根據(jù)情況，不形成額外的旋轉(zhuǎn)軸收容部，也能夠設(shè)置為空轉(zhuǎn)接觸體相對(duì)于空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

空轉(zhuǎn)接觸體314根據(jù)所要求的條件及設(shè)計(jì)樣式可設(shè)置為多種構(gòu)造。參照?qǐng)D17，空轉(zhuǎn)接觸體284可分割形成為多個(gè)接觸體主體284a、284b、284c，并通過(guò)連接螺栓可結(jié)合為單一主體形態(tài)。根據(jù)情況，空轉(zhuǎn)接觸體可設(shè)置為僅一個(gè)的接觸體主體，本實(shí)用新型并非通過(guò)接觸體主體的個(gè)數(shù)及構(gòu)造而受到限制或限定。

在空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸不是連接驅(qū)動(dòng)馬達(dá)而是連接如感知旋轉(zhuǎn)數(shù)的編碼器一樣的傳感器S，從而能夠測(cè)量與空轉(zhuǎn)接觸體同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)數(shù)并感知基板W的旋轉(zhuǎn)數(shù)。

優(yōu)選地，空轉(zhuǎn)支撐部設(shè)置為可朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)，并且可包括彈性部件，所述彈性部件彈性支撐相對(duì)于基板W的空轉(zhuǎn)支撐部的移動(dòng)。

作為彈性部件使用常規(guī)的彈簧或可使用其他不同的彈性工具，彈性部件根據(jù)所要求的條件及設(shè)計(jì)樣式而可安裝為能夠彈性支撐空轉(zhuǎn)支撐部的移動(dòng)的多種構(gòu)造。

如上所述，空轉(zhuǎn)支撐部通過(guò)彈性部件的彈力而朝與基板W接近及分離的方向進(jìn)行彈性移動(dòng)，由此抵銷由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力，從而能夠得到防止由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力而產(chǎn)生基板W變形的有利效果。

更優(yōu)選地，空轉(zhuǎn)支撐部在與通過(guò)清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相同的方向(面對(duì)通過(guò)固定支撐部210的接觸應(yīng)力的方向)支撐基板W的邊緣位置，由此能夠得到使得由于空轉(zhuǎn)支撐部的基板W的變形及流動(dòng)最小化的效果。作為參考，本實(shí)用新型的實(shí)施例中雖然對(duì)于空轉(zhuǎn)支撐部在基板W的九點(diǎn)鐘方向支撐基板W的邊緣位置進(jìn)行舉例說(shuō)明，但是根據(jù)情況，空轉(zhuǎn)支撐部也能夠在基板的十二點(diǎn)鐘方向、六點(diǎn)鐘方向或者三點(diǎn)鐘方向等支撐基板的邊緣位置，也能夠使用兩個(gè)以上的空轉(zhuǎn)支撐部。

并且，可動(dòng)支撐部240可包括：第一可動(dòng)支撐體250，其設(shè)置為可朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)并選擇性地支撐基板W的邊緣位置；第二可動(dòng)支撐體260，其配置為從第一可動(dòng)支撐體250分離開來(lái)并在與通過(guò)清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相同的方向支撐基板W的邊緣位置。

優(yōu)選地，第一可動(dòng)支撐體250和第二可動(dòng)支撐體260通過(guò)共用支撐部可連接為一體，并且通過(guò)單一驅(qū)動(dòng)源移動(dòng)共用支撐部，從而第一可動(dòng)支撐體250和第二可動(dòng)支撐體260同時(shí)進(jìn)行移動(dòng)，由此能夠得到構(gòu)造簡(jiǎn)化且能夠?qū)⒃O(shè)備制作得較為小型的有利效果。根據(jù)情況，也能夠設(shè)置為第一可動(dòng)支撐體和第二可動(dòng)支撐體通過(guò)分別不同的驅(qū)動(dòng)源而進(jìn)行移動(dòng)。

如圖15所述，通過(guò)所述的構(gòu)成，在清洗刷子300接觸于基板W的表面期間，使可動(dòng)支撐部240從基板W分離開來(lái)，并且基板W在通過(guò)固定支撐部210而僅一側(cè)(例如，以清洗刷子300為基準(zhǔn)的基板W的兩側(cè)之中某一側(cè))得到支撐的狀態(tài)下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此能夠得到如下效果：防止由于可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210的制造公差或組裝誤差等而產(chǎn)生基板W的變形，并且防止由于基板W的表面高度偏差而產(chǎn)生清洗刷子300的清洗均勻度降低。此時(shí)，空轉(zhuǎn)支撐部在維持彈性接觸于基板W的狀態(tài)的同時(shí)，可隨著基板W旋轉(zhuǎn)而與基板W同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并感知空轉(zhuǎn)支撐部的旋轉(zhuǎn)并能夠檢測(cè)出基板W的旋轉(zhuǎn)數(shù)。

相反，如圖16所示，在清洗刷子300未接觸于基板W的期間，例如，通過(guò)清洗刷子300的清洗完成后(或在通過(guò)清洗刷子300的清洗進(jìn)行之前)，可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210在相面對(duì)的兩側(cè)同時(shí)支撐基板W，并且清洗水噴射部將清洗水噴射于進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板W的表面，從而能夠去除殘留于基板W的表面的異物。此時(shí)，空轉(zhuǎn)支撐部維持彈性接觸于基板W的狀態(tài)的同時(shí)，隨著基板W旋轉(zhuǎn)而與基板W同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。根據(jù)情況，清洗刷子未接觸于基板的期間，也能夠配置為空轉(zhuǎn)支撐部從基板分離開來(lái)的構(gòu)成。

此外，圖18及圖19是用于說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的又另一實(shí)施例的基板旋轉(zhuǎn)裝置的圖。并且，針對(duì)與所述構(gòu)成相同，以及相當(dāng)于相同的部分賦予相同或相當(dāng)于相同的參照標(biāo)號(hào)，并省略對(duì)其的詳細(xì)說(shuō)明。

參照?qǐng)D18及圖19，基板旋轉(zhuǎn)裝置10，包括：固定支撐部210，其固定設(shè)置以便支撐基板W的邊緣位置一側(cè)；空轉(zhuǎn)支撐部，其設(shè)置為可朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)并支撐相面對(duì)于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側(cè)，并且通過(guò)基板W的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行空轉(zhuǎn)(idle)旋轉(zhuǎn)；彈性部件，其彈性支撐相對(duì)于基板W的空轉(zhuǎn)支撐部的移動(dòng)。

固定支撐部210根據(jù)所要求的條件及設(shè)計(jì)樣式可設(shè)置為能夠支撐基板W的邊緣位置的多種構(gòu)造。作為一個(gè)例子，固定支撐部210可設(shè)置為包括：第一固定支撐體220，其在與從清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相面對(duì)的方向支撐基板W的邊緣位置；第二固定支撐體230，其配置為從第一固定支撐體220分離開來(lái)并在與從清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相面對(duì)的方向支撐基板W的另一邊緣位置。根據(jù)情況，固定支撐部能夠僅由一個(gè)的固定支撐體構(gòu)成，也能設(shè)置為包括三個(gè)以上的固定支撐體的構(gòu)成。

空轉(zhuǎn)支撐部支撐相面對(duì)于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側(cè)，設(shè)置為可朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)。

空轉(zhuǎn)支撐部根據(jù)所要求的條件及設(shè)計(jì)樣式可設(shè)置為能夠支撐基板W的邊緣位置的多種構(gòu)造。作為一個(gè)例子，空轉(zhuǎn)支撐部設(shè)置為包括：旋轉(zhuǎn)軸，其以柱形態(tài)直立設(shè)置并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；空轉(zhuǎn)接觸體，其結(jié)合于空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸的上端并接觸基板W的邊緣位置。

所述空轉(zhuǎn)接觸體314設(shè)置為在空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸的上端可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并設(shè)置為在直接相接觸地接觸于基板W的邊緣位置的狀態(tài)下隨著基板W旋轉(zhuǎn)而通過(guò)基板W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

在空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸不是連接驅(qū)動(dòng)馬達(dá)而是連接如感知旋轉(zhuǎn)數(shù)的編碼器一樣的傳感器S，從而能夠測(cè)量與空轉(zhuǎn)接觸體同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的空轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)數(shù)并感知基板W的旋轉(zhuǎn)數(shù)。

彈性部件設(shè)置為相對(duì)于基板W而空轉(zhuǎn)支撐部進(jìn)行彈性移動(dòng)。在此，所謂相對(duì)于基板而空轉(zhuǎn)支撐部進(jìn)行彈性移動(dòng)是指，定義為如下構(gòu)造：空轉(zhuǎn)支撐部在支撐基板W的狀態(tài)(接觸的狀態(tài))下通過(guò)作用于基板W的外力等能夠進(jìn)行移動(dòng)。

作為彈性部件可使用常規(guī)的彈簧或者可使用其他不同彈性工具，本實(shí)用新型并非根據(jù)彈性部件的種類及安裝構(gòu)造而受到限制或限定。

如圖18及圖19所示，相面對(duì)于固定支撐部210的基板W的相反側(cè)通過(guò)空轉(zhuǎn)支撐部得到支撐，空轉(zhuǎn)支撐部通過(guò)彈性部件的彈力而朝與基板W接近及分離的方向彈性移動(dòng)，由此能夠得到如下有利效果：抵銷由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力，并防止由于空轉(zhuǎn)支撐部的接觸應(yīng)力而產(chǎn)生基板W變形。

此外，通過(guò)固定支撐部210支撐基板W的一側(cè)，并且相面對(duì)于固定支撐部210的基板W的相反側(cè)通過(guò)空轉(zhuǎn)支撐部得到支撐，由此即使在清洗刷子300未接觸的期間(在清洗水噴射部噴射清洗水的期間)，無(wú)需額外的可動(dòng)支撐部240也能得到穩(wěn)定地維持基板W的水平配置狀態(tài)的有利效果，并能夠?qū)?gòu)造簡(jiǎn)化且將設(shè)備制作為較為小型。

另外，圖20是用于說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的基板旋轉(zhuǎn)裝置的操作方法的框圖。并且，針對(duì)與所述構(gòu)成相同，以及相當(dāng)于相同的部分賦予相同或相當(dāng)于相同的參照標(biāo)號(hào)，并省略對(duì)其的詳細(xì)說(shuō)明。

參照?qǐng)D20，根據(jù)本實(shí)用新型的支撐圓形盤形狀的基板W的同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板旋轉(zhuǎn)裝置，利用固定支撐部210和可動(dòng)支撐部240進(jìn)行操作，包括如下步驟：基板W支撐步驟S10，支撐基板W；位置控制步驟S20，控制相對(duì)于基板W的可動(dòng)支撐部240的位置，以便可動(dòng)支撐部240維持與基板W接觸的狀態(tài)或者與基板W分離，所述固定支撐部210固定設(shè)置以便支撐基板W的邊緣位置一側(cè)；所述可動(dòng)支撐部240以可朝與基板W接近及分離的方向移動(dòng)的方式設(shè)置并支撐相面對(duì)固定支撐部210的基板的邊緣位置另一側(cè)。

步驟1：

首先，利用固定支撐部210和可動(dòng)支撐部240支撐相面對(duì)于基板W的一側(cè)及另一側(cè)。S10

在基板W支撐部步驟S10中使用的固定支撐部210固定設(shè)置以便支撐基板W的邊緣位置一側(cè)，可動(dòng)支撐部240支撐相面對(duì)固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側(cè)并設(shè)置為可朝與基板接近及分離的方向移動(dòng)。

并且，在基板W支撐步驟S10中基板W通過(guò)固定支撐部210和可動(dòng)支撐部240而可得到三點(diǎn)支撐，或四點(diǎn)支撐。根據(jù)情況，與用于檢測(cè)出基板的旋轉(zhuǎn)數(shù)的空轉(zhuǎn)支撐部一同也能夠得到五點(diǎn)支撐。

步驟2：

其后，控制相對(duì)于基板W的可動(dòng)支撐部240的位置，以便可動(dòng)支撐部240維持與基板W接觸狀態(tài)或與基板W分離。S20

在位置控制步驟(S20)中，選擇性地控制相對(duì)于基板W的可動(dòng)支撐部240的位置，以便可動(dòng)支撐部240維持與基板W接觸的狀態(tài)或與基板W分離，由此根據(jù)基板W的處理工藝能夠自由地決定是否使用可動(dòng)支撐部240。

換句話說(shuō)，根據(jù)基板W的處理工藝可在僅需要可動(dòng)支撐部240時(shí)選擇性地使用可動(dòng)支撐部240，由此相比于同時(shí)使用固定支撐部210和可動(dòng)支撐部240時(shí)，能夠得到更加易于控制基板W的旋轉(zhuǎn)的有利效果。

具體地，在位置控制步驟S20中，在清洗刷子300接觸于基板W的表面的期間，使可動(dòng)支撐部240從基板W分離開來(lái)S22，并在清洗刷子300未接觸于基板W的表面期間，使可動(dòng)支撐部240接近于基板W(S24)。

例如，在清洗刷子300接觸于基板W的表面期間，使可動(dòng)支撐部240從基板W分離開來(lái)，基板W通過(guò)固定支撐部210僅一側(cè)(例如，以清洗刷子300為基準(zhǔn)的基板W的兩側(cè)之中某一側(cè))得到支撐的狀態(tài)下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此能夠得到如下效果：防止由于可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210的制造公差或組裝誤差等而產(chǎn)生基板W變形，并防止由于基板W的表面高度偏差而產(chǎn)生清洗刷子300的清洗均勻度降低。

換句話說(shuō)，在可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210在相面對(duì)的兩側(cè)支撐基板W的構(gòu)造中，由于可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差等可能在基板W產(chǎn)生變形且可能產(chǎn)生表面高度偏差。如上所述，清洗刷子300在基板W變形的狀態(tài)下進(jìn)行接觸，則按照基板W的變形量而清洗刷子300接觸的接觸面積及接觸壓力在基板W的各部位均互不相同，由此通過(guò)清洗刷子300在基板W的表面整體上難以實(shí)現(xiàn)均勻地清洗，并無(wú)法準(zhǔn)確地算出基板W的清洗量。但是，本實(shí)用新型中在清洗刷子300接觸于基板W的期間，由于基板W僅通過(guò)固定支撐部210得到支撐并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，由此防止由于可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差而產(chǎn)生基板W的變形，并能夠預(yù)防在基板W的表面產(chǎn)生高度偏差。此時(shí)，由于通過(guò)固定支撐部210的接觸應(yīng)力P1，和隨著清洗刷子300旋轉(zhuǎn)接觸于基板W而作用于基板W的水平荷重，從相面對(duì)的方向同時(shí)作用于基板W，由此即便可動(dòng)支撐部240從基板W分離開來(lái)也能夠穩(wěn)定地維持基板W的水平配置狀態(tài)。(參照?qǐng)D9及圖10)

相反，在清洗刷子300未接觸于基板W的期間，例如，在通過(guò)清洗刷子300的清洗完成后(或者通過(guò)清洗刷子300的清洗進(jìn)行之前)，使可動(dòng)支撐部240與基板W接近(或維持接近的狀態(tài))并使可動(dòng)支撐部240和固定支撐部210在相面對(duì)的兩側(cè)同時(shí)支撐基板W，并且清洗水噴射部將清洗水噴射于進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板W的表面，從而能夠去除殘留于基板W的表面的異物。(參照?qǐng)D11)

如上所述，雖然參照本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行了說(shuō)明，但可以理解為如果是所屬技術(shù)領(lǐng)域的熟練的從業(yè)人員，則在不脫離下述權(quán)利要求所記載的本實(shí)用新型的思想及領(lǐng)域的范圍內(nèi)可對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行多種修改及變更。

標(biāo)號(hào)說(shuō)明

10：基板旋轉(zhuǎn)裝置 210：固定支撐部

220：第一固定支撐體 230：第二固定支撐體

240：可動(dòng)支撐部 250：第一可動(dòng)支撐體

260：第二可動(dòng)支撐體 270：位置控制部

300：清洗刷子