本實用新型屬于低壓電器領(lǐng)域,具體涉及一種新型塑殼斷路器滅弧室絕緣擋片及斷路器。
背景技術(shù):
塑殼斷路器是一種常用的配電保護(hù)電器,它具有對負(fù)載供電的通、斷和過載、短路保護(hù)的功能,廣泛應(yīng)用于電力配電系統(tǒng)?,F(xiàn)有的塑殼斷路器其基座和上蓋大多形成密封的空間,滅弧室產(chǎn)生的氣壓無法排出,不利于滅弧室滅弧,也有的塑殼斷路器設(shè)有排氣孔,但是可能會使斷路器內(nèi)的電弧飄出,引發(fā)意外。設(shè)置絕緣擋片在滅弧室外側(cè),起到防護(hù)的作用?,F(xiàn)有的絕緣擋片如圖5、6所示,在產(chǎn)品分?jǐn)啻箅娏鲿r,由于高溫的作用,在產(chǎn)品滅弧室內(nèi)會產(chǎn)生較大的氣壓,因為絕緣擋板是封閉的,因此氣壓會帶動電弧產(chǎn)金屬離子向產(chǎn)品后方反射,不利于產(chǎn)品分?jǐn)鄷r電弧的熄滅。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型針對上述問題,提供一種新型塑殼斷路器滅弧室絕緣擋片及斷路器。
本實用新型所采取的技術(shù)方案如下:一種新型塑殼斷路器滅弧室絕緣擋片,包括本體,所述本體上設(shè)有通孔,所述本體連接有與所述本體形成夾角并向下的斜板,所述斜板設(shè)置在所述通孔的一側(cè)。
所述斜板為絕緣擋片在通孔處沖制成型。
所述通孔為矩形。
所述斜板與所述本體形成10-30度的夾角。
一種塑殼斷路器,包括基座、上蓋、滅弧室、接觸系統(tǒng),所述基座和上蓋上下扣合形成塑殼斷路器的外殼,所述滅弧室、接觸系統(tǒng)設(shè)置在基座和上蓋內(nèi),所述滅弧室相對接觸系統(tǒng)的另一側(cè)設(shè)有隔弧板,所述隔弧板上設(shè)有若干小孔,所述隔弧板相對滅弧室的另一側(cè)設(shè)有上述的新型塑殼斷路器滅弧室絕緣擋片,所述斜板位于背離所述隔弧板的一側(cè)。
本實用新型的有益效果如下:本實用新型在原來的擋板上開一個通孔,并且設(shè)有一個斜向下的斜板,在分?jǐn)鄷r,在滅弧室產(chǎn)生的氣壓,會順著檔板上的通孔及向下的斜角,快速向斷路器外邊移動,形成一個氣吹效果,這樣會加速電弧離子向滅弧室內(nèi)移動,有利于熄弧,提高了產(chǎn)品分?jǐn)嗄芰?,而且也避免意外的發(fā)生。
附圖說明
圖1為絕緣擋片的主視圖。
圖2為絕緣擋片的側(cè)視圖。
圖3為絕緣擋片安裝在斷路器內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為隔弧板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5為現(xiàn)有絕緣擋片的主視圖。
圖6為現(xiàn)有絕緣擋片安裝在斷路器內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中,1,本體;101,通孔;2,斜板;3,基座;4,上蓋;5,滅弧室;6,隔弧板;601,小孔。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖以及具體實施方式,可以更好地說明本實用新型。
一種新型塑殼斷路器滅弧室絕緣擋片,包括本體1,所述本體1上設(shè)有通孔101,所述本體1連接有與所述本體1形成夾角并向下的斜板2,所述斜板2設(shè)置在所述通孔101的一側(cè)。在原來的擋板上開一個通孔,并且設(shè)有一個斜向下的斜板,在分?jǐn)鄷r,在滅弧室產(chǎn)生的氣壓,會順著檔板上的通孔及向下的斜角,快速向斷路器外邊移動,形成一個氣吹效果,這樣會加速電弧離子向滅弧室內(nèi)移動,有利于熄弧,提高了產(chǎn)品分?jǐn)嗄芰Α?/p>
所述斜板2為絕緣擋片在通孔101處沖制成型。加工方便,斜板與本體連接并不是通過加工連接上去的,沒有縫隙,連接緊密。
所述通孔101為矩形。
所述斜板2與所述本體1形成10-30度的夾角。既對滅弧室產(chǎn)生的氣體形成導(dǎo)流的作用,也不會影響絕緣的作用。
一種塑殼斷路器,包括基座3、上蓋4、滅弧室5、接觸系統(tǒng),所述基座3和上蓋4上下扣合形成塑殼斷路器的外殼,所述滅弧室5、接觸系統(tǒng)設(shè)置在基座3和上蓋4內(nèi),所述滅弧室5相對接觸系統(tǒng)的另一側(cè)設(shè)有隔弧板6,所述隔弧板6上設(shè)有若干小孔601,所述隔弧板6相對滅弧室5的另一側(cè)設(shè)有上述的新型塑殼斷路器滅弧室絕緣擋片,所述斜板2位于背離所述隔弧板6的一側(cè)。隔弧板會對滅弧室產(chǎn)生的氣壓有一個過濾的作用,防止電弧沿通孔和斜板向斷路器外邊移動導(dǎo)致意外發(fā)生。
以上所述僅為本實用新型的一種實施例,并非用來限制本實用新型的保護(hù)范圍;本實用新型的保護(hù)范圍由權(quán)利要求書中的權(quán)利要求限定,并且凡是依實用新型所作的等效變化與修改,都在本實用新型專利的保護(hù)范圍之內(nèi)。