1.一種等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，用于將被刻蝕樣片固定于下電極，其特征在于，
所述壓環(huán)包括壓環(huán)主體、定位爪、和樣片壓圈，所述壓環(huán)主體整體形成為冠狀，所述定位爪沿著所述壓環(huán)主體的周向間隔一定角度而設(shè)置并沿徑向凸出到壓環(huán)主體外周，所述樣片壓圈沿周向整圈設(shè)置于所述壓環(huán)主體的內(nèi)側(cè)并與所述壓環(huán)主體同心，
在所述定位爪的每個(gè)中設(shè)置有用于與垂直導(dǎo)向桿相配合的定位孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述定位爪的數(shù)目為至少三個(gè)，且在壓環(huán)主體的周向上均勻分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
每個(gè)所述定位爪均與壓環(huán)主體所在的平面夾著一定角度θ而傾斜設(shè)置，所述角度θ為5°～85°，每個(gè)所述定位爪的上表面與所述壓環(huán)主體的上表面的距離差為10～40mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
每個(gè)所述定位爪投影在下電極的上表面上的徑向長(zhǎng)度為10～50mm，每個(gè)所述定位爪沿所述壓環(huán)主體的周向的寬度為20～50mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述定位爪與所述壓環(huán)主體為一體化成形而成的結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述樣片壓圈的朝向所述樣片的面包括樣片壓觸環(huán)面，所述樣片壓觸環(huán)面與所述壓環(huán)主體的下表面不在一個(gè)平面而形成臺(tái)階狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述樣片壓圈的與所述樣片壓觸環(huán)面相垂直的面從所述樣片壓觸環(huán)面離開一定距離后向所述壓環(huán)主體徑向朝外的方向傾斜一定角度a而形成錐面，所述角度a為95°～150°。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述樣片壓圈與所述壓環(huán)主體為一體化成形而成的結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述壓環(huán)主體由作為絕緣材質(zhì)的陶瓷或石英加工而成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的等離子體刻蝕機(jī)的壓環(huán)，其特征在于，
所述壓環(huán)主體的厚度為4～10mm。