1.控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：包括反應(yīng)釜體、可調(diào)電源、控制單元、盛放蝕刻溶液器皿和泵，所述反應(yīng)釜體的中部設(shè)有硅片架，所述反應(yīng)釜體由所述硅片架及硅片平分為左右兩個(gè)腔室，所述盛放蝕刻溶液器皿通過管道分別連接至所述兩個(gè)腔室，所述泵設(shè)于所述管道的前端，所述反應(yīng)釜體的頂部設(shè)有端蓋，所述端蓋上設(shè)有環(huán)形導(dǎo)軌和滑塊，所述滑塊與所述環(huán)形導(dǎo)軌相匹配，所述兩個(gè)腔室分別設(shè)有惰性電極，所述惰性電極與所述硅片架相對(duì)面為平面，所述惰性電極通過穿設(shè)于所述端蓋及所述滑塊的長(zhǎng)螺栓與所述可調(diào)電源電連接，兩個(gè)長(zhǎng)螺栓通過連桿連接，所述惰性電極與所述可調(diào)電源電連接，所述可調(diào)電源和所述泵分別受所述控制單元的控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述惰性電極與所述連桿之間的長(zhǎng)螺栓上套設(shè)有第一彈性體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述第一彈性體為長(zhǎng)彈簧。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述硅片架通過短螺栓與所述端蓋連接，所述連桿的中部設(shè)有帶孔的連接部，所述連接部套設(shè)于所述短螺栓上，所述連接部與所述端蓋之間的短螺栓上套設(shè)有第二彈性體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述第二彈性體為短彈簧。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述反應(yīng)釜體為圓筒狀，所述惰性電極的背面為圓弧面，所述圓弧面與所述反應(yīng)釜體內(nèi)壁貼合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述端蓋上在所述環(huán)形導(dǎo)軌的外周設(shè)有分度盤。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述長(zhǎng)螺栓的上端設(shè)有鎖緊螺母。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述惰性電極與所述可調(diào)電源的連線上設(shè)有電阻。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制硅納米線走向的裝置，其特征在于：所述兩個(gè)腔室內(nèi)分別設(shè)有液位傳感器。