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      襯底處理裝置、半導(dǎo)體器件的制造方法與流程

      文檔序號:11235573閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供一種襯底處理裝置、半導(dǎo)體器件的制造方法,其能夠提高對襯底的處理品質(zhì)。該襯底處理裝置具有:處理襯底的多個處理室;搬送襯底的搬送室;多個移載室,其設(shè)在搬送室與處理室之間,并與各處理室分別對應(yīng);多個閘閥,其設(shè)在搬送室與移載室之間;多個第一氣體供給部,其設(shè)在搬送室內(nèi),并分別對從多個閘閥通過的位置上的襯底供給非活性氣體;搬送機械手,其設(shè)在搬送室內(nèi),并將襯底向移載室內(nèi)搬送;和控制部,其控制多個第一氣體供給部和搬送機械手,使得當?shù)谝粴怏w供給部的供給孔與從閘閥通過的襯底之間的距離為第一距離時,以第一流量供給非活性氣體,當上述距離為比第一距離長的第二距離時,以比第一流量多的第二流量供給非活性氣體。

      技術(shù)研發(fā)人員:八幡橘
      受保護的技術(shù)使用者:株式會社日立國際電氣
      技術(shù)研發(fā)日:2017.02.28
      技術(shù)公布日:2017.09.12
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