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      具有本征層結(jié)構(gòu)的InGaAs/InP光敏晶體管紅外探測器的制作方法

      文檔序號:11214339閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供了一種具有本征層結(jié)構(gòu)的InGaAs/InP光敏晶體管紅外探測器。該探測器襯底材料為InP,從襯底往上依次為:InP緩沖層、In0.53Ga0.47As集電區(qū)、In0.53Ga0.47As本征層、In0.53Ga0.47As基區(qū)、InP發(fā)射區(qū)、InP帽層、In0.53Ga0.47As歐姆接觸層。集電極在In0.53Ga0.47As集電區(qū)臺面上;基極和基區(qū)光窗口在In0.53Ga0.47As基區(qū)臺面上;發(fā)射極在In0.53Ga0.47As歐姆接觸層上。本發(fā)明的基區(qū)和集電區(qū)之間存在In0.53Ga0.47As本征層,在集電極偏置為2V時完全耗盡,大大增加了集電結(jié)耗盡層的厚度,使大部分進(jìn)入探測器的入射光被集電結(jié)耗盡層吸收。在集電結(jié)耗盡層產(chǎn)生的光生電子?空穴對被其中的強(qiáng)電場分離,從而產(chǎn)生光生電流。因此,本發(fā)明具有比無本征層探測器更高的量子效率和光生電流。

      技術(shù)研發(fā)人員:謝紅云;馬佩;劉碩;高杰;吳佳輝;劉芮;張萬榮
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:北京工業(yè)大學(xué)
      技術(shù)研發(fā)日:2017.06.12
      技術(shù)公布日:2017.10.10
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