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      一種柔性O(shè)LED及其制作方法與流程

      文檔序號(hào):12308008閱讀:4387來(lái)源:國(guó)知局
      一種柔性O(shè)LED及其制作方法與流程

      本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體地講,涉及一種柔性oled及其制作方法。



      背景技術(shù):

      目前在照明和顯示領(lǐng)域中,由于有機(jī)電致發(fā)光(oled)自身的特點(diǎn),如低啟動(dòng)電壓、輕薄、自發(fā)光等,而越來(lái)越多地被廣泛應(yīng)用于開(kāi)發(fā)照明產(chǎn)品以及面板行業(yè)中,以達(dá)到低能耗,輕薄和面光源等需求。

      oled發(fā)光主要是通過(guò)激子的復(fù)合,然后從發(fā)光層出射到空氣中。一般的底發(fā)射oled照明器件,其光出射的路徑為:發(fā)光層-陽(yáng)極-基板-空氣,經(jīng)過(guò)四個(gè)路徑才可以達(dá)到空氣中入射到人的眼睛。

      柔性oled器件是未來(lái)的一個(gè)主要研究方向,但是目前制備柔性oled器件主要的問(wèn)題在于:基板彎折后,膜層之間的結(jié)構(gòu)會(huì)受到應(yīng)力等影響,導(dǎo)致分子鏈斷裂,性能發(fā)生衰減。為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,一個(gè)改進(jìn)的技術(shù)方向即是引入液態(tài)發(fā)光層,由于其是液態(tài)或者半固態(tài),因此,其可制備成柔性器件,且分子間的鏈接也不會(huì)受彎曲操作的影響。

      雖然液態(tài)發(fā)光層的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,但是液態(tài)發(fā)光層需要通過(guò)與基板以及蓋板進(jìn)行壓合等方式來(lái)完成,這種方式會(huì)導(dǎo)致有機(jī)層之間的結(jié)合能力下降,同時(shí),器件的導(dǎo)電性能也會(huì)受到影響,層間的粘結(jié)力下降將會(huì)導(dǎo)致器件的衰減效率下降。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      為解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種柔性oled的制作方法,該制作方法通過(guò)對(duì)與液態(tài)發(fā)光層相鄰的電子傳輸層和空穴傳輸層的表面進(jìn)行酸化處理,使得液態(tài)發(fā)光層與上述功能層之間發(fā)生鍵合錨定作用,達(dá)到更好的黏附作用,提高層間結(jié)合力從而提高了載流子的傳輸和注入效率。

      為了達(dá)到上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用了如下的技術(shù)方案:

      一種柔性oled的制作方法,包括步驟:

      s1、在基板上依次疊層制作陽(yáng)極和空穴傳輸層;在蓋板上依次疊層制作陰極和電子傳輸層;

      s2、對(duì)所述電子傳輸層的表面進(jìn)行酸化處理,獲得蓋板組件;對(duì)所述空穴傳輸層的表面進(jìn)行酸化處理;

      s3、在酸化處理后的空穴傳輸層上制作限位腔;

      s4、向所述限位腔內(nèi)注入液體發(fā)光材料形成發(fā)光層,獲得基板組件;

      s5、將所述蓋板組件扣合在所述基板組件上,并使酸化處理后的電子傳輸層與所述發(fā)光層相對(duì),獲得柔性oled。

      進(jìn)一步地,所述步驟s2中酸化處理的方法具體包括:將所述電子傳輸層和所述空穴傳輸層浸入酸液中保持10min~30min后干燥。

      進(jìn)一步地,所述酸液為質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為5%~20%的鹽酸水溶液或硫酸水溶液。

      進(jìn)一步地,所述液體發(fā)光材料包括熒光材料和溶劑。

      進(jìn)一步地,所述熒光材料選自紅熒烯、8-羥基喹啉鋁、bczvbi、dsa-ph中的任意一種;所述溶劑為咔唑類(lèi)材料和三苯胺類(lèi)材料。

      進(jìn)一步地,所述空穴傳輸層的制作方法具體包括:將所述基板及其表面的陽(yáng)極浸入空穴前驅(qū)體溶液中,所述空穴前驅(qū)體溶液經(jīng)熱處理形成空穴傳輸材料并附著在所述陽(yáng)極的表面,經(jīng)300℃~500℃下退火處理,在所述陽(yáng)極上形成所述空穴傳輸層;

      所述電子傳輸層的制作方法具體包括:將所述蓋板及其表面的陰極浸入電子前驅(qū)體溶液中,所述電子前驅(qū)體溶液經(jīng)熱處理形成電子傳輸材料并附著在所述陰極的表面,經(jīng)300℃~500℃下退火處理,在所述陰極上形成所述電子傳輸層。

      進(jìn)一步地,所述空穴傳輸層和所述電子傳輸層均為厚度為200nm~1000nm的tio2膜層;所述空穴前驅(qū)體溶液和所述電子前驅(qū)體溶液均為質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為15%~35%的ticl4水溶液。

      進(jìn)一步地,將所述基板及其表面的陽(yáng)極浸入所述空穴前驅(qū)體溶液中,并在40℃~80℃下熱處理4h~12h;將所述蓋板及其表面的陰極浸入所述電子前驅(qū)體溶液中,并在40℃~80℃下熱處理4h~12h。

      進(jìn)一步地,所述限位腔的材料為tio2;所述限位腔的深度為10nm~100nm。

      本發(fā)明的另一目的在于提供一種采用如上任一所述的制作方法得到的柔性oled。

      本發(fā)明通過(guò)對(duì)與液態(tài)的發(fā)光層相鄰的電子傳輸層和空穴傳輸層的表面進(jìn)行酸化處理,使得h+離子游離在電子傳輸層和空穴傳輸層的表面上,當(dāng)制作完成液態(tài)的發(fā)光層后,發(fā)光層材料中的o原子由于氫鍵作用與h+離子鍵合,使得發(fā)光層錨定在上述功能層的表面,達(dá)到更好的黏附作用,加強(qiáng)了層間結(jié)合能力并且提高了載流子的傳輸和注入效率;與此同時(shí),優(yōu)選采用tio2作為電子傳輸層和空穴傳輸層的材料,游離的h+離子與tio2中的o原子也發(fā)生鍵合作用;另外,游離的h+離子還可與發(fā)光層材料中的h原子實(shí)現(xiàn)交換或者替換,從而加強(qiáng)了發(fā)光層與電子傳輸層及空穴傳輸層的連接。根據(jù)本發(fā)明的柔性oled的制作方法,相比現(xiàn)有技術(shù)中的制作方法,當(dāng)基板組件與蓋板組件扣合在一起時(shí),可使發(fā)光層與兩側(cè)的功能層及基板/蓋板之間的連接更為有效,提供了載流子傳輸通道,提高了發(fā)光效率。

      附圖說(shuō)明

      通過(guò)結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述,本發(fā)明的實(shí)施例的上述和其它方面、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚,附圖中:

      圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的柔性oled的制作方法的步驟流程圖;

      圖2-圖6是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的柔性oled的制作方法的工藝流程圖;

      圖7是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的柔性oled的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      以下,將參照附圖來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。然而,可以以許多不同的形式來(lái)實(shí)施本發(fā)明,并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實(shí)施例。相反,提供這些實(shí)施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用,從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。在附圖中,為了清楚起見(jiàn),可以夸大元件的形狀和尺寸,并且相同的標(biāo)號(hào)將始終被用于表示相同或相似的元件。

      本實(shí)施例提供了一種柔性oled的制作方法,具體參照?qǐng)D1,根據(jù)本實(shí)施例的柔性oled的制作方法包括下述步驟:

      步驟s1、在基板11上制作陽(yáng)極12,在蓋板21上制作陰極22;如圖2所示。

      在本實(shí)施例中,基板11和蓋板21的材料均為玻璃,而陽(yáng)極12和陰極22的材料均為氧化銦錫(簡(jiǎn)稱(chēng)ito);當(dāng)然,根據(jù)本發(fā)明的柔性oled的制作方法并不限于此,其他材料的基板11、蓋板21、陽(yáng)極12以及陰極22均可,如陽(yáng)極12及陰極22還可以使用金屬電極材料,此處不再贅述,本領(lǐng)域技術(shù)人員參照現(xiàn)有技術(shù)即可。

      步驟s2、在陽(yáng)極12上制作空穴傳輸層13,在陰極22上制作電子傳輸層23;如圖3所示。

      具體來(lái)講,空穴傳輸層13的制作方法具體為:將基板11及其表面的陽(yáng)極12浸入空穴前驅(qū)體溶液中,空穴前驅(qū)體溶液經(jīng)熱處理形成空穴傳輸材料并附著在陽(yáng)極12的表面,經(jīng)300℃~500℃下退火處理,在陽(yáng)極12上形成空穴傳輸層13。

      本實(shí)施例優(yōu)選空穴傳輸層13的材料為tio2,且該tio2膜層的厚度為200nm~1000nm;由此,空穴前驅(qū)體溶液即對(duì)應(yīng)為ticl4水溶液,其濃度優(yōu)選為15%~35%(wt%)。

      更為具體地,電子傳輸層23的材料與制作方法與空穴傳輸層13的完全一致;也就是說(shuō),電子傳輸層23也是厚度為200nm~1000nm的tio2膜層,并且對(duì)應(yīng)的電子前驅(qū)體溶液也為質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為15%~35%的ticl4水溶液。

      空穴傳輸材料和電子傳輸材料形成的方法優(yōu)選為分別浸在空穴前驅(qū)體溶液和電子前驅(qū)體溶液中,并均在40℃~80℃下熱處理4h~12h。

      值得說(shuō)明的是,當(dāng)空穴傳輸材料及電子傳輸材料分別附著在陽(yáng)極12和陰極22的表面上后,進(jìn)行退火處理有助于加固空穴傳輸層13與陽(yáng)極12之間、以及電子傳輸層23與陰極22之間的連接力。

      步驟s3、對(duì)電子傳輸層23的表面進(jìn)行酸化處理,獲得蓋板組件2;對(duì)空穴傳輸層13的表面進(jìn)行酸化處理;如圖4所示。

      具體來(lái)講,酸化處理的方法具體包括:將電子傳輸層23和空穴傳輸層13浸入酸液中保持10min~30min后進(jìn)行低溫干燥。

      更為具體地,酸液為質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為5%~20%的鹽酸水溶液或硫酸水溶液。

      在圖4中,貼附在電子傳輸層23和空穴傳輸層13表面的“+”即表示經(jīng)過(guò)酸化處理形成的游離h+離子。

      如此,h+離子即游離在電子傳輸層23和空穴傳輸層13的表面上,本實(shí)施例中優(yōu)選采用tio2作為電子傳輸層23和空穴傳輸層13的材料,這些游離的h+離子即可與tio2中的o原子發(fā)生鍵合作用。

      步驟s4、在酸化處理后的空穴傳輸層13上制作限位腔14;如圖5所示。

      在本實(shí)施例中,限位腔的材料優(yōu)選為tio2,且其深度控制為10nm~100nm即可。

      步驟s5、向限位腔14內(nèi)注入液體發(fā)光材料形成發(fā)光層15,獲得基板組件1;如圖6所示。

      具體來(lái)講,液體發(fā)光材料包括熒光材料和溶劑,溶劑優(yōu)選為咔唑類(lèi)小分子材料,還可以是諸如三苯胺類(lèi)材料;咔唑類(lèi)小分子具有較低的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(一般為20℃~50℃),其在室溫狀態(tài)下一般呈溶液狀態(tài),根據(jù)相似相溶原理,將熒光材料作為摻雜客體摻雜至作為摻雜主體的咔唑類(lèi)小分子中,咔唑類(lèi)小分子中的支鏈結(jié)構(gòu)可與熒光材料有效結(jié)合,形成液體發(fā)光材料。

      所述熒光材料可根據(jù)預(yù)制作的柔性oled的發(fā)光要求進(jìn)行具體限定,例如熒光材料限定為紅熒烯時(shí),則形成的發(fā)光層15發(fā)射紅色光譜;若熒光材料限定為8-羥基喹啉鋁,則形成的發(fā)光層15發(fā)射綠色光譜;若熒光材料限定為bczvbi、dsa-ph中的任意一種,則形成的發(fā)光層15發(fā)射藍(lán)色光譜;顯然,此處熒光材料還可以選擇其他顏色的材料,此處不再一一贅述。

      步驟s6、將蓋板組件2扣合在基板組件1上,并使酸化處理后的電子傳輸層23與發(fā)光層15相對(duì),獲得柔性oled。

      如此,即采用上述制作方法獲得了柔性oled,其結(jié)構(gòu)如圖7。該柔性oled包括依次疊層設(shè)置的基板11、陽(yáng)極12、空穴傳輸層13、限位腔14、電子傳輸層23、陰極22和蓋板21;其中,限位腔14內(nèi)填充有發(fā)光層15,并且,空穴傳輸層13和電子傳輸層23朝向發(fā)光層15的表面上貼附有游離h+離子。從圖7中可以看出,在電子傳輸層23和空穴傳輸層13的表面上游離有大量的h+離子,這些游離的h+離子位于電子傳輸層23和發(fā)光層15之間以及空穴傳輸層13和發(fā)光層15之間。

      當(dāng)蓋板組件5扣合在基板組件1上以后,游離在電子傳輸層23和空穴傳輸層13的表面上的h+離子即可與發(fā)光層15材料中的o原子通過(guò)氫鍵作用鍵合在一起,使得發(fā)光層15錨定在電子傳輸層23和空穴傳輸層13的表面,達(dá)到更好的黏附作用;同時(shí),這部分游離的h+離子還可與發(fā)光層15材料中的h原子實(shí)現(xiàn)交換或者替換,進(jìn)一步加強(qiáng)了發(fā)光層15與電子傳輸層23及空穴傳輸層13之間的連接;結(jié)合上述步驟s3中游離的h+離子與電子傳輸層23和空穴傳輸層13之間的作用,可以看出,通過(guò)對(duì)電子傳輸層23和空穴傳輸層13的表面進(jìn)行酸化處理,可使發(fā)光層15與兩側(cè)的功能層及基板11/蓋板12之間的連接更為有效,加強(qiáng)了層間結(jié)合能力,提供了載流子傳輸通道,提高了載流子的傳輸和注入效率。

      雖然已經(jīng)參照特定實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明,但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解:在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下,可在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。

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