本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池片生產(chǎn)領(lǐng)域，特別涉及一種制絨清洗機(jī)及水循環(huán)方法。

背景技術(shù)：

太陽(yáng)能電池片的生產(chǎn)流程為一次清洗、擴(kuò)散、刻蝕、二次清洗、pecvd、燒結(jié)、測(cè)試分選、檢驗(yàn)入庫(kù)，其中，一次清洗的目的是要消除吸附在硅片表面的各類污染物，并對(duì)硅片表面進(jìn)行織構(gòu)化處理，降低硅片表面對(duì)光的反射率，使入射光光反射到另一角度的斜面，形成二次或者多次吸收，從而增加吸收率。但清洗需要大量的水，并且需要對(duì)清洗后的水進(jìn)行處理，達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)后才能排放，企業(yè)一般采用將所有廢水集中到一起后再對(duì)廢水進(jìn)行處理，這樣處理起來(lái)耗時(shí)大，步驟繁瑣，處理成本大，所以亟需一種節(jié)約用水的制絨清洗劑。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)以上現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，本發(fā)明的主要目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，公開了一種制絨清洗機(jī)，包括上料裝置、下料裝置、制絨槽、堿槽、酸槽、水槽和吹干槽，其中，所述制絨槽和所述堿槽之間設(shè)置所述水槽，所述堿槽和所述酸槽之間設(shè)置所述水槽，所述酸槽和所述吹干槽之間設(shè)置所述水槽，所述制絨槽的前端設(shè)置所述上料裝置，所述吹干槽的后端設(shè)置所述下料裝置；

所述水槽包括槽體、水刀、傳送管組和接水盤，傳送管組設(shè)置在槽體內(nèi)，并在所述傳送管組上方和下方設(shè)置所述水刀，所述水刀至少設(shè)置三組，在前端所述水刀下方設(shè)置有所述接水盤；

所述水刀包括水刀管和噴射噴嘴，所述噴射噴嘴設(shè)置在所述水刀管上。

進(jìn)一步地，所述槽體的側(cè)壁上設(shè)置溢水口。

進(jìn)一步地，所述槽體上還開設(shè)有進(jìn)水口，所述酸槽后端的所述水槽的所述溢水口通過(guò)水管與所述堿槽后端的所述水槽的所述進(jìn)水口連接，所述堿槽后端的所述水槽的所述溢水口與所述制絨槽后端的所述水槽的所述進(jìn)水口連接，所述制絨槽的所述溢水口與外部連接。

進(jìn)一步地，在所述傳送管組的進(jìn)料端和出料端的上方分別設(shè)置所述上壓輪。

進(jìn)一步地，所述噴射噴嘴為圓錐形噴嘴、扇形噴嘴、棒形噴嘴中的任意一種。

進(jìn)一步地，所述噴射噴嘴的口徑為0.5-1.5mm。

進(jìn)一步地，還包括過(guò)濾裝置。

進(jìn)一步地，所述噴射噴嘴處的水壓為3-4mpa。

根據(jù)以上所述的制絨清洗機(jī)的一種水循環(huán)方法：

1)清洗機(jī)的所述水槽的前端和中端所述水刀通過(guò)泵將所述槽體內(nèi)的水供給，后端所述水刀通過(guò)外部供應(yīng)干凈水。

2)前端所述水刀對(duì)硅片進(jìn)行清洗后的水直接通過(guò)所述接水盤排出單獨(dú)收集，中端和后端所述水刀清洗后的水回到所述槽體內(nèi)，后端所述水刀清洗后的水流到所述槽體內(nèi)，所述槽體內(nèi)多余的水通過(guò)所述溢水口排出。

進(jìn)一步地，步驟2中，所述酸槽后端的所述水槽的所述溢水口通過(guò)水管將多余的液體傳送到所述堿槽后端的所述水槽內(nèi)，所述堿槽后端的所述水槽的所述溢水口通過(guò)水管將多余的液體傳送到所述制絨槽后端的所述水槽內(nèi)，所述制絨槽的所述溢水口再將其所述水槽內(nèi)多余的水排出收集。

本發(fā)明取得的有益效果：

1，接水盤的設(shè)置將高濃度的清洗水直接排放收集，減少了對(duì)槽體內(nèi)清洗水的污染，另外有干凈清洗水的補(bǔ)充，配合溢水口的工作，使槽體內(nèi)的水進(jìn)行循環(huán)。

2.通過(guò)水槽內(nèi)的水溢流至另一個(gè)水槽內(nèi)，使其酸堿中和，減少槽體內(nèi)清洗水的濃度。

3.本發(fā)明通過(guò)不同濃度單獨(dú)收集和使用酸堿中和的方法減少清洗水的濃度，有效的節(jié)約了水資源，減少了生產(chǎn)成本。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的一種制絨清洗機(jī)的主視圖；

圖2為本發(fā)明的水槽的正視圖；

圖3為本發(fā)明的水刀的正視圖；

附圖標(biāo)記如下：

1、上料裝置，2、下料裝置，3、制絨槽，4、堿槽，5、酸槽，6、水槽，7、吹干槽，61、槽體，62、水刀，63、傳送管組，64、接水盤，65、溢水口，66、進(jìn)水口，67、上壓輪，621、水刀管，622,、噴射噴嘴。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

本發(fā)明的一種制絨清洗機(jī)，包括上料裝置1、下料裝置2、制絨槽3、堿槽4、酸槽5、水槽6和吹干槽7，其中，制絨槽3和堿槽4之間設(shè)置水槽6，堿槽4和酸槽5之間設(shè)置水槽6，酸槽5和吹干槽7之間設(shè)置水槽6，在制絨槽3的前端設(shè)置上料裝置1，吹干槽7的后端設(shè)置下料裝置2；

水槽6包括槽體61、水刀62、傳送管組63和接水盤64，傳送管組63設(shè)置在槽體61內(nèi)，為了防止在進(jìn)料和出料時(shí)硅片發(fā)生傾斜、位移，在傳送管組63進(jìn)料端和出料端的上方分別設(shè)置上壓輪67，在上面和下面設(shè)置水刀62，傳送管組63上下兩把水刀62為一組，水刀62至少設(shè)置三組，分別設(shè)置在前端、中端、后端，為了保證下水刀在工作時(shí)不把硅片抬起，設(shè)置上水刀的壓力大于下水刀的壓力；由于前端水刀62清洗硅片后的液體濃度高，在前端水刀62下方設(shè)置接水盤64將前端水刀清洗后的水直接排出；由于前端和中端水刀62用于對(duì)硅片粗洗，所以水刀62的供水是通過(guò)泵將槽體61內(nèi)的水抽至水刀62內(nèi)，后端是精洗，需要盡可能的將硅片上的殘留清洗完畢，所以后端水刀62從外部通入干凈的水，在槽體61的側(cè)壁上設(shè)置有溢水口65，這樣可以防止槽體61內(nèi)的液體過(guò)滿影響設(shè)備運(yùn)行。

為了更好的利用水資源，在槽體61的側(cè)壁上再設(shè)置進(jìn)水口66，酸槽5后端的水槽6的溢水口65通過(guò)水管與堿槽4后端的水槽6的進(jìn)水口66連接，堿槽4后端的水槽6的溢水口65與制絨槽3后端的水槽6的進(jìn)水口66連接，制絨槽3的溢水口65與外部收集處理裝置連接，水槽6內(nèi)后端水刀62不斷通入干凈的水，與溢水口65配合工作，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)槽體61內(nèi)液體進(jìn)行稀釋，防止清洗液飽和，另外的，將溢出的液體排至另一水槽內(nèi)，可以起到酸堿中和的作用，稀釋清洗液的濃度，并且在另一方面減少了對(duì)廢水處理的成本；為了使水槽6之間多余液體傳輸更順利，溢水口65高于進(jìn)水口66。

水刀62包括水刀管621和噴射噴嘴622，噴射噴嘴622設(shè)置在水刀管621上，并且可以根據(jù)對(duì)水噴射量的不同需求設(shè)置不同數(shù)量的噴射噴嘴622，噴射噴嘴622根據(jù)不同的清洗對(duì)象，可以選擇不同類型的噴射噴嘴，可以是圓錐形噴嘴、扇形噴嘴、棒形噴嘴等類型，為了使噴射范圍更廣，本發(fā)明為了使噴射范圍更廣，噴射噴嘴622采用扇形噴嘴，可以按不同的散開角度、打擊距離選擇多個(gè)噴射噴嘴622對(duì)準(zhǔn)整個(gè)寬度方向進(jìn)行覆蓋，為了使去污效果更好，噴射噴嘴622的口徑采用0.5-1.5mm，但由于噴射噴嘴的口徑小，容易發(fā)生堵塞，還設(shè)置有過(guò)濾裝置對(duì)清洗水進(jìn)行過(guò)濾；為了保證硅片表面的去污能力，噴射噴嘴622處的水壓控制在3-4mpa。

根據(jù)上述制絨清洗機(jī)的一種水循環(huán)方法：

1)清洗機(jī)的水槽6的前端水刀62和中端水刀62通過(guò)泵將槽體61內(nèi)的水供給，后端水刀62通過(guò)外部供應(yīng)干凈水。

2)前端水刀62對(duì)硅片進(jìn)行清洗后的水由于污染程度高，直接通過(guò)接水盤64排出單獨(dú)收集，中端水刀62清洗后的水回到槽體61內(nèi)，后端水刀62清洗后的水流到槽體61內(nèi)，如果槽體61內(nèi)的水高于溢水口65，槽體61內(nèi)的水通過(guò)溢水口65排出。

為了更好的利用水資源，步驟2中，酸槽5后端的水槽6的溢水口65通過(guò)水管將多余的液體傳送到堿槽4后端的水槽6內(nèi)，堿槽4后端的水槽6的溢水口65通過(guò)水管將多余的液體傳送到制絨槽3后端的水槽6內(nèi)，制絨槽3的溢水口65再將其水槽6內(nèi)多余的水排出收集。

以上僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并非用來(lái)限定本發(fā)明的實(shí)施范圍；如果不脫離本發(fā)明的精神和范圍，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行修改或者等同替換，均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍當(dāng)中。