本實(shí)用新型涉及一種石墨舟，尤其涉及一種高導(dǎo)電石墨舟。

背景技術(shù)：

太陽(yáng)能電池的制造需要經(jīng)過制絨、擴(kuò)散、刻蝕、鍍膜、絲網(wǎng)印刷和燒結(jié)這六大工序。其中，鍍膜工序是采用等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的方法在硅片正面鍍氮化硅膜，以減少太陽(yáng)光反射以及對(duì)硅片表面起鈍化作用。硅片進(jìn)行其表面鍍膜工序時(shí)，需要將未鍍膜的硅片插入PECVD真空鍍膜設(shè)備的載片器上，目前，載片器通常采用石墨舟，一般是操作人員將花籃中的硅片插入專門的石墨舟或者通過自動(dòng)上下料機(jī)將硅片插入專門的石墨舟，具體操作過程是：將硅片插入石墨舟并通過固定卡點(diǎn)定位于其上，然后，將載有硅片的石墨舟放置在PECVD真空鍍膜設(shè)備中，采用PECVD工藝對(duì)硅片進(jìn)行鍍膜。

現(xiàn)有的石墨舟一般采用3個(gè)固定卡點(diǎn)卡住硅片的三條邊，將硅片固定住。但是，在使用過程中，石墨舟會(huì)發(fā)生磨損，表面會(huì)變得粗糙，導(dǎo)致硅片劃傷以及鍍膜的不均勻，增加了電池產(chǎn)品的外觀不良率，降低了電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種可提高電池外觀良品率、提高電池的光電轉(zhuǎn)換效率的高導(dǎo)電石墨舟。

本實(shí)用新型的目的通過以下的技術(shù)措施來實(shí)現(xiàn)：一種高導(dǎo)電石墨舟，其特征在于：它主要由絕緣棒和在水平方向上排列的數(shù)個(gè)單元舟片組成，所述單元舟片為豎直設(shè)置的片狀體，相鄰的單元舟片之間具有間隙，所述絕緣棒于各單元舟片的周緣貫穿而將全部的單元舟片連接固定在一起，位于兩外側(cè)的單元舟片上的內(nèi)外表面上設(shè)有若干與硅片形狀相同且其尺寸小于硅片尺寸的凹槽，位于每個(gè)外側(cè)單元舟片內(nèi)外表面上的凹槽相對(duì)應(yīng)，在凹槽的槽底面上設(shè)有貫通該對(duì)應(yīng)凹槽的用于抽真空的細(xì)孔，位于中間的單元舟片上設(shè)有若干與硅片形狀相同且其尺寸小于硅片尺寸的通孔，在所述凹槽和通孔的外圍設(shè)有用于固定硅片的卡點(diǎn)，硅片貼附在凹槽和通孔上由卡點(diǎn)固定且硅片的周緣遮擋在凹槽和通孔的周邊區(qū)域上，在所述卡點(diǎn)上以及凹槽和通孔的周邊區(qū)域上均涂覆有耐磨導(dǎo)電涂層。

本實(shí)用新型由在水平方向上排布的若干個(gè)單元舟片組成，在單元舟片上設(shè)有呈陣列排布的若干個(gè)凹槽和通孔，可以根據(jù)鍍膜工藝的實(shí)際情況和需要，調(diào)整待鍍膜硅片在單元舟片上的陣列分布，從而提高硅片鍍膜的均勻性。而且，在凹槽和通孔的外圍設(shè)有用于固定硅片的卡點(diǎn)，在卡點(diǎn)上以及凹槽和通孔的周邊區(qū)域上均涂覆有石墨烯涂層，石墨烯涂層具有極高的導(dǎo)電性和耐磨性，可以顯著減輕石墨舟表面的磨損，提高石墨舟的導(dǎo)電性，保證硅片鍍膜均勻和避免硅片劃傷，從而提升太陽(yáng)能電池的外觀合格率和光電轉(zhuǎn)換效率。

作為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式，所述耐磨導(dǎo)電涂層為石墨烯涂層，石墨烯涂層的成分為石墨烯、苯胺低聚物、分散介質(zhì)及涂料助劑。

作為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式，所述單元舟片的數(shù)量為2～50，相鄰單元舟片之間的間距為5～50mm。

作為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式，所述凹槽和通孔在其所處的單元舟片上呈陣列均勻分布，陣列的形狀為正方形、長(zhǎng)方形、圓形或六邊形等。位于每個(gè)單元舟片上的凹槽和通孔的數(shù)量分別為5～20，相鄰的通孔之間、相鄰的凹槽之間的距離為5～300mm。

作為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式，所述凹槽的深度為0.5～10mm，所述通孔的深度與單元舟片的厚度相同，為2～10mm。

作為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式，所述單元舟片上的凹槽和通孔的周邊區(qū)域的寬度為2～30mm。

作為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式，所述絕緣棒采用陶瓷棒，所述陶瓷棒水平貫穿全部的單元舟片并在兩外側(cè)的單元舟片上通過固定部件固定，絕緣棒也可以采用其它絕緣材料制成。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下顯著的優(yōu)點(diǎn)：

⑴本實(shí)用新型在卡點(diǎn)上以及凹槽和通孔的周邊區(qū)域上均涂覆有石墨烯涂層，石墨烯涂層具有極高的導(dǎo)電性和耐磨性，可以顯著減輕石墨舟表面的磨損，提高石墨舟的導(dǎo)電性，保證硅片鍍膜均勻，和避免硅片劃傷從而提升太陽(yáng)能電池的外觀合格率和光電轉(zhuǎn)換效率。

⑵本實(shí)用新型由在水平方向上排布的若干個(gè)單元舟片組成，在單元舟片上設(shè)有呈陣列排布的若干個(gè)凹槽和通孔，可以根據(jù)鍍膜工藝的實(shí)際情況和需要，調(diào)整待鍍膜硅片在單元舟片上的陣列分布，從而提高硅片鍍膜的均勻性。

⑶本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，容易實(shí)現(xiàn)，實(shí)用性強(qiáng)，適于廣泛推廣和適用。

附圖說明

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。

圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型位于中間的單元舟片上的通孔的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本實(shí)用新型位于中間的單元舟片上的通孔和貼附在其上的硅片的結(jié)構(gòu)透視示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1～3所示，是本實(shí)用新型一種高導(dǎo)電石墨舟1，它主要由絕緣棒和在水平方向上排列的數(shù)個(gè)單元舟片組成，在本實(shí)施例中，絕緣棒采用陶瓷棒3，單元舟片的數(shù)量為2～50個(gè)，在本實(shí)施例中，單元舟片的數(shù)量為四個(gè)，單元舟片為豎向設(shè)置的矩形片狀體，相鄰的單元舟片之間具有間隙，相鄰單元舟片之間的間距為5～50mm，在本實(shí)施例中，相鄰單元舟片之間的間距為10mm。陶瓷棒3于各單元舟片的周緣水平貫穿而將全部的單元舟片連接固定在一起，具體是陶瓷棒3水平貫穿全部的單元舟片并在兩外側(cè)的單元舟片21上通過固定部件9固定。位于兩外側(cè)的單元舟片21上的內(nèi)外表面上設(shè)有若干與硅片形狀相同且其尺寸小于硅片尺寸的凹槽4，位于每個(gè)外側(cè)單元舟片21內(nèi)外表面上的凹槽4相對(duì)應(yīng)，在凹槽4的槽底面上設(shè)有貫通該對(duì)應(yīng)凹槽4的用于抽真空的細(xì)孔10，位于中間的單元舟片22上設(shè)有若干與硅片形狀相同且其尺寸小于硅片尺寸的通孔5，凹槽4的深度為0.5～10mm，通孔5的深度與單元舟片的厚度相同，為2～10mm。在本實(shí)施例中，凹槽4和通孔5的深度為3mm。位于每個(gè)單元舟片上的凹槽4和通孔5的數(shù)量分別為5～20，相鄰的通孔5之間、相鄰的凹槽4之間的距離為5～300mm，在本實(shí)施例中，凹槽4和通孔5在其所處的單元舟片上分別設(shè)有四個(gè)且呈陣列均勻分布，相鄰的通孔之間、相鄰的凹槽之間的距離為10mm。在凹槽4和通孔5的外圍設(shè)有用于固定硅片6的卡點(diǎn)7，硅片6貼附在凹槽4和通孔5上由卡點(diǎn)7固定且硅片6的周緣遮蓋在凹槽4和通孔5的周邊區(qū)域上，該周邊區(qū)域的寬度為2～30mm，在本實(shí)施例中，周邊區(qū)域的寬度為10mm。在卡點(diǎn)7上以及凹槽4和通孔5的周邊區(qū)域上均涂覆有耐磨導(dǎo)電涂層8，在本實(shí)施例中，耐磨導(dǎo)電涂層8為石墨烯涂層，石墨烯涂層的成分為石墨烯、苯胺低聚物、分散介質(zhì)及涂料助劑。

凹槽4和通孔5在單元舟片上呈陣列分布，陣列的形狀為正方形、長(zhǎng)方形、圓形或六邊形等。在實(shí)際鍍膜過程中，可以根據(jù)鍍膜工藝的實(shí)際情況和需要，將硅片放置在合適的凹槽和通孔中，調(diào)整硅片在單元舟片上的陣列分布，從而提高硅片鍍膜的均勻性。

本實(shí)用新型的實(shí)施方式不限于此，根據(jù)本實(shí)用新型的上述內(nèi)容，按照本領(lǐng)域的普通技術(shù)知識(shí)和慣用手段，在不脫離本實(shí)用新型上述基本技術(shù)思想前提下，本實(shí)用新型還可以做出其它多種形式的修改、替換或變更，均落在本實(shí)用新型權(quán)利保護(hù)范圍之內(nèi)。