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      一種補(bǔ)償型3dB電橋的制作方法

      文檔序號:11407200閱讀:457來源:國知局
      一種補(bǔ)償型3dB電橋的制造方法與工藝

      本實(shí)用新型涉及一種通信無源器件技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種補(bǔ)償型3dB電橋。



      背景技術(shù):

      作為無源器件的3dB電橋也叫同頻合路器,其作用是將兩個(gè)同頻率的信號耦合,在電路中起到功率分配和改變信號相位的作用,其廣泛應(yīng)用在通信技術(shù)領(lǐng)域,其主要性能包括干擾性、耦合度、隔離度等。

      現(xiàn)有的3dB電橋分為腔體式和微帶式,其中腔體式結(jié)構(gòu)的3dB電橋主要包括設(shè)置在腔體內(nèi)的主線導(dǎo)體和副線導(dǎo)體,主線導(dǎo)體和副線導(dǎo)體上下安裝在腔體內(nèi),中間采用介質(zhì)支撐間隔。傳統(tǒng)3dB寬帶電橋其中一節(jié)導(dǎo)體為強(qiáng)耦合區(qū)域,主線導(dǎo)體與副線導(dǎo)體在強(qiáng)耦合區(qū)域上下完全重疊,其余導(dǎo)體為弱耦合區(qū)域,主線導(dǎo)體與副線導(dǎo)體相互錯(cuò)開,部分重疊或不重疊。為了提高電橋的隔離度,主線導(dǎo)體與副線導(dǎo)體上往往設(shè)置有向兩側(cè)延伸的枝節(jié),導(dǎo)體上的枝節(jié)靠近腔體,容易發(fā)生大功率打火現(xiàn)象,導(dǎo)致電橋功率容量變小,不能滿足多信號合路通信系統(tǒng)大功率要求,而且?guī)в兄?jié)的導(dǎo)體加工困難,成本較高。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種補(bǔ)償型3dB電橋,本實(shí)用新型設(shè)計(jì)巧妙,無需設(shè)置枝節(jié)結(jié)構(gòu),通過設(shè)置過渡部實(shí)現(xiàn)電容補(bǔ)償,且結(jié)構(gòu)簡單,生產(chǎn)成本較低。

      為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提出如下技術(shù)方案:一種補(bǔ)償型3dB電橋,所述3dB電橋包括主線導(dǎo)體和副線導(dǎo)體,所述主線導(dǎo)體包括第一強(qiáng)耦合區(qū)域和設(shè)置在所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域兩側(cè)的第一弱耦合區(qū)域,所述副線導(dǎo)體包括第二強(qiáng)耦合區(qū)域和設(shè)置在所述第二強(qiáng)耦合區(qū)域兩側(cè)的第二弱耦合區(qū)域,所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域和所述第一弱耦合區(qū)域之間形成具有電容補(bǔ)償?shù)牡谝贿^渡部。

      優(yōu)選地,所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域和第一弱耦合區(qū)域形成高度差,所述第一過渡部由所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域向所述第一弱耦合區(qū)域過渡延伸形成。

      優(yōu)選地,所述第一過渡部朝向所述副線導(dǎo)體的一側(cè)形成第一弧線部,所述第一過渡部遠(yuǎn)離所述副線導(dǎo)體的一側(cè)形成第一斜面。

      優(yōu)選地,所述第二強(qiáng)耦合區(qū)域和所述第二弱耦合區(qū)域之間形成具有電容補(bǔ)償?shù)牡诙^渡部。

      優(yōu)選地,所述第二強(qiáng)耦合區(qū)域和第二弱耦合區(qū)域形成高度差,所述第二過渡部由所述第二強(qiáng)耦合區(qū)域向所述第二弱耦合區(qū)域過渡延伸形成。

      優(yōu)選地,所述第二過渡部朝向所述副線導(dǎo)體的一側(cè)形成第二弧線部,所述第二過渡部遠(yuǎn)離所述副線導(dǎo)體的一側(cè)形成第二斜面。

      優(yōu)選地,所述主線導(dǎo)體和所述副線導(dǎo)體完全重疊。

      優(yōu)選地,所述主線導(dǎo)體和副線導(dǎo)體分別由銅材制成。

      本實(shí)用新型設(shè)計(jì)巧妙,不帶有枝節(jié)的主、副線導(dǎo)體電橋隔離度大于30dB,功率容量大大增強(qiáng),滿足多信號合路通信系統(tǒng)大功率要求,且結(jié)構(gòu)簡單,減少了生產(chǎn)成本。

      附圖說明

      圖1是本實(shí)用新型3dB電橋結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2是本實(shí)用新型中第一過渡部結(jié)構(gòu)示意圖。

      附圖標(biāo)記:1、主線導(dǎo)體,11、第一強(qiáng)耦合區(qū)域,12、第一弱耦合區(qū)域,13、第一過渡部,131、第一弧線部,132、第一斜面,2、副線導(dǎo)體,21、第二強(qiáng)耦合區(qū)域、22、第二弱耦合區(qū)域,23、第二過渡部。

      具體實(shí)施方式

      下面將結(jié)合本實(shí)用新型的附圖,對本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的描述。

      如圖1和圖2所示,本實(shí)用新型補(bǔ)償型3dB電橋包括主線導(dǎo)體1和副線導(dǎo)體2,所述主線導(dǎo)體1和副線導(dǎo)體2上下間隔設(shè)置,并安裝在3dB電橋腔體(圖中未示出)內(nèi),所述主線導(dǎo)體1和副線導(dǎo)體2分別包括強(qiáng)耦合區(qū)域和弱耦合區(qū)域,不論在強(qiáng)耦合區(qū)域或弱耦合區(qū)域,3dB寬帶電橋的主線導(dǎo)體與副線導(dǎo)體上下完全重疊,主副導(dǎo)體耦合面積增大,另外在弱耦合區(qū)域向強(qiáng)耦合區(qū)域過渡之間引入異形結(jié)構(gòu),進(jìn)一步補(bǔ)償電容,通過對補(bǔ)償電容的修調(diào),均衡奇偶模相速的差異,提高電橋的隔離度,無需額外枝節(jié)補(bǔ)償。

      具體地說,如1所示,所述主線導(dǎo)體1和副線導(dǎo)體2對稱間隔設(shè)置,所述主線導(dǎo)體1包括第一強(qiáng)耦合區(qū)域11和第一弱耦合區(qū)域12,所述第一弱耦合區(qū)域12設(shè)置在所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域11的兩側(cè),相應(yīng)地,所述副線導(dǎo)體2包括第二強(qiáng)耦合區(qū)域21和第二弱耦合區(qū)域22,所述第二弱耦合區(qū)域22設(shè)置在所述第二強(qiáng)耦合區(qū)域21的兩側(cè)。

      結(jié)合圖2所示,所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域11和所述第一弱耦合區(qū)域12之間形成第一過渡部13,所述第一過渡部13由所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域11向所述第一弱耦合區(qū)域12過渡延伸形成,進(jìn)一步地說,所述第一過渡部13由所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域11向所述第一弱耦合區(qū)域12由下向上延伸形成,所述第一過渡部朝向所述副線導(dǎo)體的一側(cè)形成第一弧線部131,所述第一過渡部遠(yuǎn)離所述副線導(dǎo)體的一側(cè)形成第一斜面132,所述第一弱耦合區(qū)域12相對第一強(qiáng)耦合區(qū)域11較窄較厚,所述第一過渡部13靠近所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域11的一端的底部比第一過渡部13靠近所述第一弱耦合區(qū)域12的一端的底部較低(如圖1所示),使得所述第一強(qiáng)耦合區(qū)域11和第一弱耦合區(qū)域12形成高度差,通過對補(bǔ)償電容的修調(diào),均衡奇偶模相速的差異,提高電橋的隔離度。

      結(jié)合圖1所示,所述副線導(dǎo)體2與所述主線導(dǎo)體1為同制產(chǎn)品,且對稱設(shè)置,第二過渡部23與所述第一過渡部13結(jié)構(gòu)完全一致,在此不再詳述。

      本實(shí)施例中,所述主線導(dǎo)體1和副線導(dǎo)體2分別優(yōu)選銅材制成,由于結(jié)構(gòu)完全一致,利于生產(chǎn),作為可選地也可以使用其它金屬材質(zhì)制成。

      本實(shí)用新型不僅能滿足各運(yùn)營商相鄰頻段隔離度大于30dB的要求,使通信系統(tǒng)簡單化,增強(qiáng)了通信系統(tǒng)信號抗干擾能力,同時(shí)由于主線導(dǎo)體與副線導(dǎo)體間距增大,無需設(shè)置枝節(jié),加工精度要求降低,使得電橋便于安裝,產(chǎn)率提高,量產(chǎn)穩(wěn)定,且上下導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)可替換,大大減少了生產(chǎn)成本。

      本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)特征已揭示如上,然而熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員仍可能基于本實(shí)用新型的教示及揭示而作種種不背離本實(shí)用新型精神的替換及修飾,因此,本實(shí)用新型保護(hù)范圍應(yīng)不限于實(shí)施例所揭示的內(nèi)容,而應(yīng)包括各種不背離本實(shí)用新型的替換及修飾,并為本專利申請權(quán)利要求所涵蓋。

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