本實(shí)用新型涉及電感產(chǎn)品制備領(lǐng)域，具體是一種電感元件上錫治具。

背景技術(shù)：

為了提高電感元件上錫工藝效率，通常將多個(gè)電感元件均勻并列固定到上錫治具上，由上錫裝置一次性對(duì)上錫治具的電感元件點(diǎn)錫。公司的電感元件MDBE1205B為呈類似菱形的八邊形結(jié)構(gòu)，每個(gè)電感元件上設(shè)有兩個(gè)焊錫點(diǎn)，兩帶焊點(diǎn)相對(duì)設(shè)置在電感元件的長(zhǎng)度方向上，上錫裝置的上錫機(jī)構(gòu)是呈線性結(jié)構(gòu)的，因此為了實(shí)現(xiàn)一次性對(duì)上錫治具上排列的多個(gè)電感元件點(diǎn)錫，那么必須要能夠使排列固定在治具上的電感元件要方向一致，待焊點(diǎn)能夠一致均勻排列在一側(cè)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提一種電感元件上錫治具。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：一種電感元件上錫治具，包括治具本體，其特征在于：所述的治具本體呈矩形結(jié)構(gòu)，治具本體頂面的一側(cè)設(shè)置有多個(gè)相同的圓形凹槽，所述的圓形凹槽呈均勻的線性排列，且圓形凹槽與電感元件的底面的凸圓相配合，治具本體頂面的另一側(cè)凸起形成臺(tái)階，所述臺(tái)階靠近圓形凹槽的一邊上設(shè)置有內(nèi)凹口，所述內(nèi)凹口與圓形凹槽一一對(duì)應(yīng)。

所述圓形凹槽的圓形邊與治具本體的長(zhǎng)邊相切。

所述內(nèi)凹口呈V型結(jié)構(gòu)且與電感元件外緣兩斜邊相配合。

所述內(nèi)凹口呈圓弧結(jié)構(gòu)且內(nèi)凹口的開(kāi)口處寬度大于電感元件對(duì)應(yīng)端的寬度，使電感元件固定在圓形凹槽內(nèi)時(shí)，電感元件的長(zhǎng)度方向與治具本體的長(zhǎng)度方向相垂直。

兩個(gè)圓形凹槽的圓心間距大于電感元件的寬度且小于電感元件長(zhǎng)度。

本實(shí)用新型的有益效果為：

可將多個(gè)電感元件固定在本實(shí)用新型上，且本實(shí)用新型臺(tái)階上的內(nèi)凹口的設(shè)計(jì)使固定在圓形凹槽的電感元件的一端能夠陷入內(nèi)凹口內(nèi)，起到防呆作用，電感元件的另一端作為待焊端一致均勻的線性排列，最終實(shí)現(xiàn)一次性對(duì)電感元件的待焊端上錫，有效提高了上錫的效率。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1的俯視圖，

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例2的俯視圖，

圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例2安裝電感元件的俯視圖，

其中，1-圓形凹槽、2-治具本體、3-臺(tái)階、4-電感元件。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步說(shuō)明：

如圖1和圖2所示，一種電感元件上錫治具，包括治具本體2，其特征在于：所述的治具本體2呈矩形結(jié)構(gòu)，治具本體2頂面的一側(cè)設(shè)置有多個(gè)相同的圓形凹槽1，所述的圓形凹槽1呈均勻的線性排列，且圓形凹槽1與電感元件4的底面的凸圓相配合，治具本體2頂面的另一側(cè)凸起形成臺(tái)階3，所述臺(tái)階3靠近圓形凹槽1的一邊上設(shè)置有內(nèi)凹口，所述內(nèi)凹口與圓形凹槽1一一對(duì)應(yīng)。

所述圓形凹槽1的圓形邊與治具本體2的長(zhǎng)邊相切。

在實(shí)施例1中，所述內(nèi)凹口呈V型結(jié)構(gòu)且與電感元件4外緣兩斜邊相配合。

在實(shí)施例2中，所述內(nèi)凹口呈圓弧結(jié)構(gòu)且內(nèi)凹口的開(kāi)口處寬度大于電感元件4對(duì)應(yīng)端的寬度。

兩個(gè)圓形凹槽1的圓心間距大于電感元件4的寬度且小于電感元件4長(zhǎng)度。

如圖3所示，具體使用時(shí)需要將對(duì)應(yīng)的電感元件4一一固定在上錫治具的圓形凹槽1內(nèi)，電感元件4長(zhǎng)度方向的一端陷在臺(tái)階3的內(nèi)凹口內(nèi)，電感元件4長(zhǎng)度方向的另一端作為待焊端一致均勻的線性排列，焊錫裝置一次性對(duì)多個(gè)電感元件4的待焊端上錫。

上述實(shí)施例和說(shuō)明書中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理和最佳實(shí)施例，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。