本發(fā)明屬于去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備，尤其是涉及一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、電池片濕法刻蝕是太陽能電池片生產(chǎn)過程中的一道重要工序，通過利用酸性混合液體對擴散后的硅片下表面和邊緣進行腐蝕，其主要目的是去除硅片邊緣的pn結(jié)，避免短路并降低并聯(lián)電阻，目前電池片濕法刻蝕加工常使用到酸洗烘干一體鏈式機，該酸洗烘干一體鏈式機包括上片、濕法蝕刻、水洗、干燥和下片等步驟。

2、目前用于電池片濕法刻蝕的酸洗烘干一體鏈式機在使用時，因電池硅片原料品質(zhì)差異和酸性溶液濕法蝕刻不均勻?qū)е码姵毓杵吘塸n結(jié)去除不徹底，部分電池硅片邊緣還存留pn結(jié)，因而影響電池硅片濕法蝕刻設(shè)備蝕刻加工電池硅片的合格率受到影響，以及影響電池硅片濕法蝕刻設(shè)備使用的可靠性；

3、另外電池硅片經(jīng)過濕法刻蝕設(shè)備加工后還需要通過輸送設(shè)備輸送到電池硅片檢測設(shè)備中進行質(zhì)檢，若出現(xiàn)電池硅片濕法蝕刻不徹底的情況還需要返回到酸洗烘干一體鏈式機中返修，影響電池硅片濕法蝕刻加工的便捷性和效率。

4、為此，我們提出一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備來解決上述問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是針對上述問題，提供一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備。

2、為達到上述目的，本發(fā)明采用了下列技術(shù)方案：一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備，包括酸洗烘干一體鏈式機主體、機械臂和電動負壓吸盤組件，所述酸洗烘干一體鏈式機主體的下片端外壁固定連接有兩個連接架，所述連接架的底端與酸洗烘干一體鏈式機主體的底端處于同一水平面，兩個所述連接架的外壁固定連接有驅(qū)動機構(gòu)，所述驅(qū)動機構(gòu)的底端與機械臂的固定端固定連接，所述電動負壓吸盤組件的固定端與機械臂的活動端固定連接，兩個所述連接架的外壁共同固定連接有電池硅片檢測機構(gòu)和工控機，所述工控機的外壁固定連接有橫板，所述橫板的上表面固定連接有顯示器，兩個所述連接架的外壁與酸洗烘干一體鏈式機主體的外壁固定連接有第一支撐板和第二支撐板，所述第二支撐板的上表面固定連接有再處理槽，所述再處理槽的內(nèi)壁固定連接有隔板，所述隔板一側(cè)外壁與再處理槽外壁共同固定連接有電池硅片再濕法蝕刻機構(gòu)，所述隔板另一側(cè)外壁與再處理槽的內(nèi)壁共同固定連接有水洗與干燥機構(gòu)。

3、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述驅(qū)動機構(gòu)包括與兩個連接架外壁固定連接的固定板，兩個所述固定板相對的一側(cè)通過滾動軸承連接有絲桿，其中一個所述固定板的外壁固定連接有伺服電機，所述伺服電機的輸出端與絲桿的側(cè)端固定連接，所述絲桿的桿壁螺紋套接有螺紋筒，所述螺紋筒的外壁固定套接有固定框，所述固定框的外壁與兩個連接架的外壁活動連接，所述固定框的底端與機械臂的固定端固定連接。

4、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述電池硅片檢測機構(gòu)包括與兩個連接架外壁固定連接的l形板，所述l形板的內(nèi)壁固定連接有多通道電壓測量儀，所述多通道電壓測量儀的輸出端通過導線與工控機的輸入端電性連接，所述l形板豎直部的四側(cè)外壁均開設(shè)有一組對稱分布的連接通孔，且四組連接通孔的孔壁均連接有接觸組件，所述電動負壓吸盤組件的外壁固定連接有ccd視覺相機，所述l形板的豎直部固定連接有補光燈。

5、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述接觸組件包括兩個導電桿，兩個導電桿的接電端均通過導線與多通道電壓測量儀的輸入端電性連接，兩個所述導電桿的接觸端均固定連接有導電海綿塊，所述導電桿的桿壁固定套接有絕緣環(huán)，所述導電桿的桿壁活動套接有絕緣彈簧，所述絕緣彈簧的兩端分別與絕緣環(huán)和l形板豎直部的外壁固定連接。

6、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述電池硅片再濕法蝕刻機構(gòu)包括與再處理槽內(nèi)壁和隔板外壁共同固定連接的傾斜板，所述傾斜板、隔板和再處理槽共同組成酸液儲存區(qū)，所述隔板的外壁固定連接有第一空心罩，所述第一空心罩的底端與傾斜板上表面共同固定連接的圍板，所述圍板的內(nèi)壁固定連接有抽氣泵，所述抽氣泵的輸出端穿過傾斜板的下表面，并固定連通有排氣單向閥，所述抽氣泵的吸入端固定連通有連接管，所述連接管的進氣端穿過第一空心罩的上表面，并固定連通有空心過濾罐，所述空心過濾罐的外壁與再處理槽的頂端外壁固定連接，所述傾斜板的頂端固定嵌設(shè)有導管，所述導管的頂端與第一空心罩的下表面固定連通，所述第一空心罩的上表面固定連通有四個電磁控制閥，四個所述電磁控制閥的頂端均固定連通有噴液嘴，所述再處理槽位于酸液儲存區(qū)處下表面固定連通有常閉閥門，所述常閉閥門的輸入端穿過第二支撐板的下表面，并固定連通有酸液輸送管，所述傾斜板的下表面固定連接有密封罩，所述密封罩的底端固定嵌設(shè)有液位開關(guān)。

7、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述水洗與干燥機構(gòu)包括與隔板外壁固定連接的隔熱罩和第二空心罩，所述隔熱罩的內(nèi)部設(shè)有半導體制冷器，所述半導體制冷器的制冷端固定連接有陶瓷導熱條，所述陶瓷導熱條的側(cè)端穿過隔板伸入酸液儲存區(qū)，所述陶瓷導熱條的外壁開設(shè)有多個導熱孔，所述第二空心罩的下表面和隔熱罩的上表面共同固定連通有導氣管，所述第二空心罩的上表面固定連通有多個噴氣嘴，所述第二空心罩的底端固定連通有進水控制閥，所述進水控制閥的輸入端固定連通有供水管，所述供水管的底端穿過再處理槽的外壁，所述隔熱罩的底端固定連通有進氣管，所述進氣管的底端穿過第二支撐板的下表面，并固定連通有進風扇。

8、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述再處理槽的兩側(cè)外壁分別固定連通有廢液排出管和廢水排出管。

9、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述第二支撐板的上表面開設(shè)有矩形安裝孔，且矩形安裝孔的孔壁活動連接有廢料收集槽，所述廢料收集槽的底端與第一支撐板的上表面活動接觸。

10、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中所述酸洗烘干一體鏈式機主體包括烘干段和酸洗段，位于所述烘干段的進口處設(shè)置有水膜機構(gòu)，所述水膜機構(gòu)的正下方設(shè)有第一輸送輥，所述酸洗段的內(nèi)部設(shè)有第二輸送輥，所述第二輸送輥的兩端分別設(shè)置有多個傘形的從動齒輪，每個所述從動齒輪的外壁均嚙合有驅(qū)動齒輪，所述驅(qū)動齒輪的連接端連接有驅(qū)動軸，所述驅(qū)動軸的兩端均設(shè)有連接插件，所述連接插件的連接孔內(nèi)壁固定連接有與驅(qū)動軸側(cè)端相配合的peek軸承，所述驅(qū)動軸的外壁設(shè)有支撐鎖附塊。

11、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述酸洗段靠近酸洗烘干一體鏈式機主體出口的一側(cè)設(shè)有清洗組件，且清洗組件包括循環(huán)水洗段和直供噴淋段。

12、與現(xiàn)有的技術(shù)相比，一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備的優(yōu)點在于：

13、1、通過設(shè)置的驅(qū)動機構(gòu)、ccd視覺相機、補光燈和工控機，當電池硅片通過酸洗烘干一體鏈式機主體進行濕法刻蝕加工下片后，此時機械臂通過工控機帶動電動負壓吸盤組件靠近電池硅片的上表面，接著工控機控制電動負壓吸盤組件穩(wěn)定吸取電池硅片，之后工控機通過驅(qū)動機構(gòu)帶動機械臂和電動負壓吸盤組件移動到再處理槽的上方，然后通過工控機再控制機械臂使電池硅片靠近電池硅片檢測機構(gòu)，同時工控機控制啟動ccd視覺相機和補光燈，補光燈的燈光照射到電池硅片上，然后ccd視覺相機再拍攝受光狀態(tài)下的電池硅片，并利用工控機裝載的視覺檢測軟件輔助檢測，自動檢測受光狀態(tài)下電池硅片靠近ccd視覺相機一側(cè)存不存在光亮點，若存在光亮點則表示該電池硅片存在過蝕刻而不合格的情況，反之，則表示該電池硅片沒有過蝕刻的情況，并初步合格，該機構(gòu)使用于電池硅片濕法蝕刻設(shè)備具有電池硅片過蝕刻檢測的功能。

14、2、通過設(shè)置的電池硅片檢測機構(gòu)，當電池硅片通過ccd視覺相機和工控機初步檢測合格后，電池硅片還需要通過電池硅片檢測機構(gòu)進行二次檢測，此時電池硅片檢測機構(gòu)中多通道電壓測量儀與四組接觸組件配合，并對電池硅片四側(cè)邊進行電壓測量，同時多通道電壓測量儀把各個檢測通道上接觸組件檢測的電壓以電信號逐個發(fā)送到工控機中，若四組電壓值與蝕刻邊緣處標準電壓值比對后出現(xiàn)一組或者多組電壓值低于蝕刻邊緣處標準電壓值時，這是電池硅片邊緣因蝕刻不完全仍然存在pn結(jié)，并導致電池硅片該邊緣區(qū)域有短路情況，并且出現(xiàn)電阻降低和易于電流通過的問題，進而使電池硅片該側(cè)邊處的電壓降低，接著工控機通過電壓降低信號控制機械臂把電池硅片移動到電池硅片再濕法蝕刻機構(gòu)處，該機構(gòu)使用于電池硅片濕法蝕刻設(shè)備具有電池硅片蝕刻不完全檢測的功能，提高電池硅片濕法蝕刻設(shè)備使用的可靠性。

15、3、通過設(shè)置的電池硅片再濕法蝕刻機構(gòu)和水洗與干燥機構(gòu)，當電池硅片側(cè)邊存在蝕刻不完全的情況時，工控機控制機械臂把電池硅片移動到電池硅片再濕法蝕刻機構(gòu)處，并進行不完全蝕刻位置針對性再次蝕刻修整，再次蝕刻修整后通過水洗與干燥機構(gòu)進行清潔和干燥，干燥后的電池硅片再通過電池硅片檢測機構(gòu)檢測，檢測合格輸送到下一個加工位，該機構(gòu)使去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備具有蝕刻不完全電池硅片精準再蝕刻加工的功能，不僅能夠提高電池硅片加工的品質(zhì)，還能夠提高電池硅片濕法蝕刻加工的便捷性和效率。