1.一種釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，包括以下步驟：鍍層去除、超聲水洗、水洗、干燥、表面處理；所述鍍層去除包括一級處理和/或二級處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，在鍍層去除之前，還包括前處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，在干燥和表面處理之間，還包括重熔再造。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，所述一級處理包括以下步驟：采用環(huán)保型堿性脫鎳劑對釹鐵硼磁體進行浸泡和移動處理；所述一級處理的處理溫度為40-90℃，處理時間為0.5-30min；所述二級處理包括以下步驟：采用環(huán)保型金屬清洗劑對釹鐵硼磁體進行浸泡和移動處理，所述二級處理的處理溫度為60-95℃，處理時間為0.2-5h。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，所述環(huán)保型堿性脫鎳劑的ph值＞11，按質(zhì)量百分比計，所述環(huán)保型堿性脫鎳劑包括10-30%的緩蝕劑、0.5-10%的促進劑、1-15%的絡(luò)合劑、0.1-1.5%的表面活性劑和余量水；
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，所述表面處理為電沉積、涂覆薄膜、涂覆漆膜、高溫?zé)崽幚碇械闹辽僖环N。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，所述高溫?zé)崽幚戆ㄒ韵虏襟E：將釹鐵硼磁體放入管式爐中，隨后進行抽真空處理，真空度＜10pa，通入氧氣進行洗爐，爐內(nèi)溫度維持在300-450℃，進而開始維持爐內(nèi)氣氛，每隔40分鐘通10分鐘的氧氣，分壓閥在0.25-0.45mpa，持續(xù)進行0.5-4h，隨后將釹鐵硼磁體進行冷卻，冷卻過程先隨爐冷卻后空冷。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，所述釹鐵硼磁體在進入管式爐之前，還包括以下步驟：光飾、超聲脫脂、水洗、超聲水洗、干燥。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，所述電沉積包括以下步驟：加熱處理、電沉積前處理、電鍍鋅、后處理。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述釹鐵硼磁體回收再利用工藝，其特征在于，所述后處理包括出光，所述出光為采用出光液對釹鐵硼磁體進行處理，所述出光液包括硝酸、三價鉻鹽、稀土化合物、水。