基板支撐裝置及支撐方法、真空干燥設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示面板制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板支撐裝置及支撐方法，以及包括該基板支撐裝置的真空干燥設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在陣列基板和彩膜基板的制作過程中，大部分膜層均涉及到光刻膠的涂布、曝光和顯影工藝。光刻膠涂布完成后需要進(jìn)行真空干燥處理，即在室溫下，大氣壓接近OPa的條件下，進(jìn)行溶劑的揮發(fā)，使得膜層的均一度和硬度維持在一定水平上，為后續(xù)的曝光、顯影工藝做準(zhǔn)備。
[0003]現(xiàn)有真空干燥設(shè)備的腔室內(nèi)部結(jié)構(gòu)如圖1所示，腔室I的底部布置有一定數(shù)量的可移動的支撐Pin 2，支撐Pin 2通過磁鐵吸附進(jìn)行固定。其操作流程如圖2a_圖2f所示:
[0004]首先，機(jī)械手3搬運(yùn)基板4伸入腔室I內(nèi)部，如圖2a所示，基板4的表面涂布有膜層；然后，機(jī)械手3下降，使基板4落在支撐Pin 2上，如圖2b所示；之后，機(jī)械手3撤出，在腔室I的內(nèi)部進(jìn)行真空干燥處理，如圖2c所示；干燥結(jié)束后，機(jī)械手3從支撐Pin 2的空隙伸入并上升，將基板4頂起，如圖2d和圖2e所示；最后，機(jī)械手3撤出，將基板4取出，如圖2f所示。
[0005]在上述支撐方式中，支撐Pin 2必須支撐在基板4的非顯示區(qū)域，如圖3和圖4所示。這是由于基板4上與支撐Pin 2接觸的位置會被頂起，形成一個小突起，如圖5中所示，涂布在基板4表面的膜層5會發(fā)生流動，從而使突起位置的膜厚較周圍區(qū)域變薄，在干燥過程中，由于膜厚分布不均勻，會形成云紋(Mura)顯示不良。真空干燥結(jié)束后，由于膜層5中大部分溶劑已經(jīng)揮發(fā)，流動性大大降低，膜厚均勻性無法恢復(fù)，顯示云紋(Mura)依然存在，將影響顯示效果。
[0006]在實(shí)際生產(chǎn)中，不同的基板布局不同，因此支撐Pin的布局也相應(yīng)地不同。不同型號的產(chǎn)品在進(jìn)行生產(chǎn)切換時，必須安排人員對支撐Pin的位置進(jìn)行移動，以避開基板的顯示區(qū)域，這一動作很容易引入粉塵和顆粒物，也存在由于人為失誤使得支撐Pin的位置移動錯誤而造成產(chǎn)品顯示不良的風(fēng)險。此外，支撐Pin的布局取決于基板的布局，設(shè)計上必須充分考慮支撐Pin的接觸點(diǎn)，既要保證接觸點(diǎn)的分布相對均勻，又要保證與機(jī)械手之間不發(fā)生干涉，設(shè)計較為復(fù)雜，進(jìn)一步限制了基板的利用率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的在于提供一種基板支撐裝置及支撐方法、真空干燥設(shè)備，以解決現(xiàn)有支撐裝置設(shè)計和操作復(fù)雜、不良風(fēng)險高的問題。
[0008]為解決上述技術(shù)問題，作為本發(fā)明的第一個方面，提供一種基板支撐裝置，所述基板支撐裝置用于真空干燥設(shè)備中，所述基板支撐裝置包括固定機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，所述固定機(jī)構(gòu)包括臺面，所述臺面上設(shè)置有多個通孔，所述升降機(jī)構(gòu)包括多個與所述通孔相對應(yīng)的平板部，多個所述平板部能夠分別位于相應(yīng)位置的所述通孔中，并與所述臺面共同形成一個用于支撐基板的支撐面，并且，所述平板部能夠移動穿過相對應(yīng)的所述通孔。
[0009]優(yōu)選地，所述臺面包括多個子臺面，相鄰兩個所述子臺面之間形成有條形間隔，所述條形間隔形成為所述通孔。
[0010]優(yōu)選地，所述通孔的端面為封閉圖形。
[0011]優(yōu)選地，所述封閉圖形包含矩形或圓形。
[0012]優(yōu)選地，多個所述通孔均勻排列在所述臺面中，所述平板部的形狀與相應(yīng)位置的所述通孔的形狀匹配。
[0013]優(yōu)選地，所述平板部的形狀包含矩形或圓形。
[0014]優(yōu)選地，所述升降機(jī)構(gòu)包括升降驅(qū)動單元、多個支撐桿、以及多個支撐柱，每個所述支撐桿上均設(shè)置有所述支撐柱，所述支撐柱用于支撐所述平板部，所述升降驅(qū)動單元用于驅(qū)動所述支撐桿升降。
[0015]優(yōu)選地，所述升降機(jī)構(gòu)還包括用于將多個所述支撐桿相連的連接桿，所述連接桿與所述升降驅(qū)動單元的輸出軸相連。
[0016]優(yōu)選地，每個所述支撐柱用于支撐一個所述平板部。
[0017]優(yōu)選地，多個所述支撐柱共同支撐一個所述平板部。
[0018]作為本發(fā)明的第二個方面，還提供一種利用上述基板支撐裝置的支撐方法，所述支撐方法包括:
[0019]在對基板進(jìn)行干燥時，將所述平板部設(shè)置在所述通孔中，以與所述臺面一起支撐所述基板。
[0020]優(yōu)選地，所述支撐方法包括:
[0021]在對所述基板進(jìn)行干燥之前，將所述平板部設(shè)置在所述通孔上方，并將所述基板放置在所述平板部上；
[0022]在對所述基板進(jìn)行干燥時，將所述平板部下降，以使得所述平板部設(shè)置在所述通孔中；
[0023]在對所述基板進(jìn)行干燥之后，使所述平板部上升以穿過所述通孔，將所述基板頂起。
[0024]優(yōu)選地，所述支撐方法包括:
[0025]在對所述基板進(jìn)行干燥之前，將所述平板部設(shè)置在所述通孔下方，并將所述基板放置在所述臺面上；
[0026]在對所述基板進(jìn)行干燥時，將所述平板部上升，以使得所述平板部設(shè)置在所述通孔中；
[0027]在對所述基板進(jìn)行干燥之后，使所述平板部下降，將所述基板取走。
[0028]作為本發(fā)明的第三個方面，還提供一種真空干燥設(shè)備，所述真空干燥設(shè)備包括本發(fā)明所提供的上述基板支撐裝置。
[0029]本發(fā)明通過固定機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)相配合的方式，使基板在整個干燥過程中均放置在平坦的臺面上，其接觸方式由點(diǎn)接觸變成面接觸，降低了產(chǎn)品出現(xiàn)顯示不良的風(fēng)險。此夕卜，對于不同型號的產(chǎn)品，不必考慮基板的布局，在不同型號產(chǎn)品進(jìn)行切換時，不需要對支撐裝置進(jìn)行改動作業(yè)。綜上所述，本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):
[0030]1、不同型號的產(chǎn)品進(jìn)行生產(chǎn)切換時，無需進(jìn)行支撐部位的改動，減少了人員的工作量；
[0031]2、避免了人員作業(yè)時將顆粒物引入設(shè)備內(nèi)部的風(fēng)險，也避免了由于人為失誤造成支撐部位移動錯誤而引起顯示云紋，提升了產(chǎn)品的品質(zhì)；
[0032]3、在產(chǎn)品設(shè)計上，由于接觸方式由點(diǎn)接觸變成面接觸，因此不必考慮接觸點(diǎn)的位置，可充分發(fā)揮基板的利用率，并降低裝置的設(shè)計難度。
【附圖說明】
[0033]附圖是用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。
[0034]圖1是現(xiàn)有真空干燥設(shè)備的腔室內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖；
[0035]圖2a-圖2f是現(xiàn)有真空干燥設(shè)備的操作流程圖；
[0036]圖3是現(xiàn)有技術(shù)中支撐桿的布局示意圖之一；
[0037]圖4是現(xiàn)有技術(shù)中支撐桿的布局示意圖之二 ；
[0038]圖5是形成云紋不良的示意圖；
[0039]圖6是本發(fā)明第一種實(shí)施方式中的基板支撐裝置的示意圖；
[0040]圖7a-圖7c是第一種實(shí)施方式中固定機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖、俯視圖和仰視圖；
[0041]圖8a_圖8c是第一種實(shí)施方式中升降機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖、俯視圖和仰視圖；
[0042]圖9a_圖9c是第一種實(shí)施方式中固定機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)組合的側(cè)視圖、俯視圖和仰視圖；
[0043]圖1Oa-圖1Oh是第一種實(shí)施方式的工作流程圖；
[0044]圖11是本發(fā)明第二種實(shí)施方式中的基板支撐裝置的示意圖；
[0045]圖12a-圖12c是第二種實(shí)施方式中固定機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖、俯視圖和仰視圖；
[0046]圖13a-圖13c是第二種實(shí)施方式中升降機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖、俯視圖和仰視圖；
[0047]圖14a-圖14c是第二種實(shí)施方式中固定機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)組合的側(cè)視圖、俯視圖和仰視圖；
[0048]圖15a-圖15h是第二種實(shí)施方式的工作流程圖。
[0049]在附圖中，1:腔室；2:支撐Pin ；3: