發(fā)光顯示器的像素界定層及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種發(fā)光顯示器的像素界定層及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]OLED (有機(jī)發(fā)光二極管)的成膜方式主要有蒸鍍制程和溶液制程。蒸鍍制程在小尺寸應(yīng)用較為成熟，目前該技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于量產(chǎn)中。而溶液制程OLED成膜方式主要有噴墨打印、噴嘴涂覆、旋涂、絲網(wǎng)印刷等，其中打印技術(shù)由于其材料利用率較高、可以實(shí)現(xiàn)大尺寸化，被認(rèn)為是大尺寸OLED實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的重要方式。
[0003]噴墨打印工藝需要預(yù)先在基板的電極上制作像素界定層(Bank)，以限定墨滴準(zhǔn)確的流入指定的子像素區(qū)，其中像素界定層上表面要求表面能較小的疏液型材料，從而保證墨滴不會(huì)溢出像素外造成像素間的混色；同時(shí)像素界定層的傾斜面上要求表面能大的親液型材料，保證液體在像素內(nèi)導(dǎo)電玻璃上鋪展而不會(huì)有小孔。
[0004]目前的正梯形像素界定層，像素界定層疏水處理后有機(jī)層的鋪展效果較差，在導(dǎo)電玻璃與像素界定層的邊緣會(huì)出現(xiàn)未鋪展的區(qū)域，蒸鍍陰極后容易致陰陽極短路，造成漏電。而倒梯形像素界定層會(huì)使墨水在像素內(nèi)的鋪展變好，但是會(huì)造成陰極不連續(xù)發(fā)光面積縮小的現(xiàn)象，要避免這種現(xiàn)象，需增加額外的膜厚，或?qū)㈥帢O鍍得很厚。在正梯形的基礎(chǔ)上制備雙層像素界定層可以避免單層像素界定層中的陰陽極短路現(xiàn)象，但同時(shí)有可能造成發(fā)光面積縮小的現(xiàn)象。
[0005]目前的打印工藝需要預(yù)先在基板的電極上制作像素界定層，以限定墨滴準(zhǔn)確的流入指定的子像素區(qū)，其中，像素界定層上表面要求表面能較小的疏液型材料，保證墨滴不會(huì)溢出像素外造成像素間的混色；同時(shí)像素界定層的傾斜面上要求表面能大的親液型材料，保證液體在像素內(nèi)導(dǎo)電玻璃上鋪展。另外發(fā)光顯示器的發(fā)光效率也是目前材料瓶頸問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006](一 )要解決的技術(shù)問題
[0007]本發(fā)明的目的是提供一種保證像素內(nèi)的墨水不會(huì)溢流到像素外部造成相鄰子像素間的混色的發(fā)光顯示器的像素界定層及其制作方法。
[0008]( 二 )技術(shù)方案
[0009]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種發(fā)光顯示器的像素界定層，所述像素界定層設(shè)于基板的導(dǎo)電層上，其包括基膜層，所述基膜層具有多個(gè)與各子像素單元發(fā)光區(qū)域相對(duì)應(yīng)的開口，相鄰所述開口之間形成間隔基體；每個(gè)所述間隔基體的上表面具有疏水性量子點(diǎn)材料，每個(gè)所述開口的側(cè)壁具有親水性量子材料。
[0010]其中，所述間隔基體的縱截面為正梯形或者倒梯形。
[0011]其中，所述間隔基體的高度為0.1?100 μm。
[0012]其中，所述間隔基體的高度為0.5?5ym。
[0013]其中，每個(gè)所述開口的底壁具有親水性量子點(diǎn)材料。
[0014]本發(fā)明提供一種發(fā)光顯示器的像素界定層的制作方法，包括以下步驟:
[0015]SI，提供一個(gè)基板，在基板的導(dǎo)電層上涂覆一層光刻膠，曝光、顯影、光刻刻蝕出多個(gè)與各子像素單元發(fā)光區(qū)域相對(duì)應(yīng)的開口，使相鄰的開口之間具有間隔基體，形成基膜層；
[0016]S2，在間隔基體的上表面噴涂疏水性量子點(diǎn)材料，在開口的側(cè)壁或在開口的側(cè)壁及底壁噴涂親水性量子點(diǎn)材料；或者
[0017]在間隔基體的上表面和開口的側(cè)壁噴涂親水性量子點(diǎn)材料或者在間隔基體的上表面和開口的側(cè)壁及底壁均噴涂親水性量子點(diǎn)材料，將位于間隔基體的上表面的親水性量子點(diǎn)材料改變成疏水性量子點(diǎn)材料；或者
[0018]在間隔基體的上表面和開口的側(cè)壁噴涂疏水性量子點(diǎn)材料或者在間隔基體的上表面和開口的側(cè)壁及底壁均噴涂疏水性量子點(diǎn)材料，將位于開口的側(cè)壁或者開口的側(cè)壁及底壁的疏水性量子點(diǎn)材料改變成親水性量子點(diǎn)材料。
[0019]其中，所述步驟SI中，光刻膠采用負(fù)性光刻膠，曝光、顯影、光刻刻蝕形成間隔基體，間隔基體的縱截面為倒梯形。
[0020]其中，所述步驟SI中，光刻膠采用正性光刻膠，曝光、顯影、光刻刻蝕形成間隔基體，間隔基體的縱截面為正梯形。
[0021]其中，所述步驟S2中，使用置換官能基、超聲乳化法或者光照的方式將疏水性量子點(diǎn)材料改變成親水性量子點(diǎn)材料；或者使用置換官能基的方法將親水性量子點(diǎn)材料改變成疏水性量子點(diǎn)材料。
[0022]其中，所述步驟SI中，基板采用導(dǎo)電玻璃。
[0023](三)有益效果
[0024]本發(fā)明提供的發(fā)光顯示器的像素界定層及其制作方法，像素界定層包括基膜層，基膜層上的開口的側(cè)壁或者開口的側(cè)壁和底壁涂布有親水性量子點(diǎn)材料，而間隔基體的上表面涂布有疏水性量子點(diǎn)材料，既能保證子像素內(nèi)的墨水不會(huì)溢流到子像素外部造成相鄰子像素間的混色，同時(shí)與其他雙層像素界定層相比，不會(huì)造成像素內(nèi)部發(fā)光面積的減小，且透過選擇合適的量子點(diǎn)材料，更可以將光色效率提升，不僅利于制程簡易更可大面積制作。量子點(diǎn)的材質(zhì)可依據(jù)實(shí)際器件狀況而改變。
【附圖說明】
[0025]圖1為本發(fā)明的像素界定層的實(shí)施例的俯視圖；
[0026]圖2為圖1中沿A-A方向的剖視圖；
[0027]圖3為本發(fā)明的像素界定層制作方法的實(shí)施例的流程圖；
[0028]圖4為本發(fā)明的像素界定層制作方法的實(shí)施方式一涂布正性光刻膠的剖視圖；
[0029]圖5為本發(fā)明的像素界定層制作方法的實(shí)施方式一制作出的基膜層的剖視圖；
[0030]圖6為本發(fā)明的像素界定層制作方法的實(shí)施方式一制作出的像素界定層的剖視圖；
[0031]圖7為本發(fā)明的像素界定層制作方法的實(shí)施方式一制作出的像素界定層另一優(yōu)選方式的剖視圖；
[0032]
[0033]
[0034]
[0035]圖8為本發(fā)明的像素界定層制作方法的實(shí)施方式二涂布正性光刻膠的剖視圖；
[0036]圖9為本發(fā)明的像素界定層制作方法的實(shí)施方式二制作出的基膜層的剖視圖；
[0037]圖10為本發(fā)明的像素界定層制作方法的實(shí)施方式二制作出的像素界定層的剖視圖。
[0038]圖中，1:基板；2:基膜層；3:開口 ；4:間隔基體；5:疏水性量子點(diǎn)材料；6:親水性量子點(diǎn)材料。
【具體實(shí)施方式】
[0039]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0040]一般來說，像素單元具有紅色R、綠色G和藍(lán)色B3個(gè)子像素單元或者紅色R、綠色G、藍(lán)色B、和白色4個(gè)子像素單元。圖1示出了一種像素界定層的俯視圖，圖中示出了一個(gè)像素的像素界定層，其具有三個(gè)開口，分別用于容納紅色R、綠色G和藍(lán)色B三種黑滴，形成一個(gè)具有3個(gè)子像素的像素單元。圖2為圖1中A-A部分的像素界定層的剖視圖，如圖1和2所示，本發(fā)明的發(fā)光顯示器的像素界定層，像素界定層設(shè)于基板I的導(dǎo)電層上，像素界定層包括基膜層2，基膜層2具有多個(gè)與各子像素單元發(fā)光區(qū)域相對(duì)應(yīng)的開口 3，相鄰開口3之間形成間隔基體4。每個(gè)間隔基體4的上表面具有疏水性量子點(diǎn)材料5，每個(gè)開口 3的側(cè)壁具有親水性量子材料6。間隔基體4的縱截面可以正梯形或者倒梯形。
[0041]進(jìn)一步的，開口 3的底壁也具有親水性量子點(diǎn)材料6。需要說明的是，開口 3的底壁為基板I的導(dǎo)電層的表面。
[0042]進(jìn)一步的，如圖1所不，間隔基體4的尚度H為0.1?100 μ m，進(jìn)一步優(yōu)選間隔基體4的高度H取0.5?5μπι。如間隔基體的高度H可以取0.1,0.5、5、10、20、50和10ym0
[0043]使用本發(fā)明的發(fā)光顯示器的像素界定層制造發(fā)光顯示器，既能保證子像素內(nèi)的墨水不會(huì)溢流到子像素外部造成相鄰子像素間的混色，又能保證墨水在子像素內(nèi)的基板上的鋪展，避免小孔的出現(xiàn)，制作方式簡易，適合大面積制作。同時(shí)，量子點(diǎn)的發(fā)光光譜具有連續(xù)性，高演色性的優(yōu)點(diǎn)，量子點(diǎn)激發(fā)光譜較寬及呈現(xiàn)連續(xù)分布，有時(shí)不同顏色量子點(diǎn)可以被同一波長的光激發(fā)，可以高效地選擇期望的光譜，能夠輔助增加發(fā)光效率。應(yīng)該說明的是，本實(shí)施方式僅以一個(gè)像素為例，實(shí)際上，本發(fā)明適用于在基板上形成一個(gè)基膜層，基膜層具有陣列排列的開口，在開口的側(cè)壁涂布親水性