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      Cigs薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備的制造方法_2

      文檔序號(hào):8441428閱讀:來源:國(guó)知局
      調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在第一大理石基座上且靠近所述y向平臺(tái)的y向光柵尺及用以讀取所述y向光柵尺的測(cè)量數(shù)值的y向讀數(shù)頭,所述y向讀數(shù)頭固定在所述I向平臺(tái)上。
      [0024]進(jìn)一步地,所述X向移動(dòng)單元包括橫跨在所述第一大理石基座上的第二大理石基座、設(shè)于所述第二大理石基座上且沿所述支撐底座的橫向方向往復(fù)移動(dòng)的X向平臺(tái)、用以驅(qū)動(dòng)所述X向平臺(tái)移動(dòng)的X向驅(qū)動(dòng)裝置及用以調(diào)節(jié)所述X向平臺(tái)的移動(dòng)距離的X向移動(dòng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu);
      [0025]所述X向驅(qū)動(dòng)裝置連接于所述X向平臺(tái),且其與所述控制單元電連接;
      [0026]所述X向移動(dòng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在第二大理石基座上且靠近所述X向平臺(tái)的X向光柵尺及用以讀取所述X向光柵尺的測(cè)量數(shù)值的X向讀數(shù)頭,所述X向讀數(shù)頭固定在所述X向平臺(tái)上。
      [0027]進(jìn)一步地,所述加工平臺(tái)設(shè)置在所述y向平臺(tái)上,且其包括有用以對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池進(jìn)行氣浮刻劃的氣浮機(jī)構(gòu)及用以?shī)A持CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的夾持機(jī)構(gòu);
      [0028]所述氣浮機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在所述第一大理石基座上且呈水平設(shè)置的氣浮塊、設(shè)置在所述氣浮塊的中間位置且可沿所述支撐底座的橫向方向來回移動(dòng)的氣浮除塵器;
      [0029]所述夾持機(jī)構(gòu)包括位于所述氣浮塊的前端用于抵頂CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的頂端的前擋點(diǎn)、位于所述氣浮塊的第一側(cè)用于抵頂CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的第一側(cè)的不動(dòng)點(diǎn)、呈伸縮設(shè)于所述氣浮塊的第二側(cè)用于抵頂CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的第二側(cè)的頂緊點(diǎn)、位于所述氣浮塊的任一側(cè)端用于移動(dòng)糾偏CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的放置位置的動(dòng)糾偏點(diǎn)及位于所述氣浮塊的兩側(cè)夾持CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的抓手。
      [0030]進(jìn)一步地,所述夾持機(jī)構(gòu)還包括用以觀察CIGS薄膜太陽(yáng)能電池在加工平臺(tái)上的偏移情況的CCD裝置,所述CCD裝置設(shè)置在所述鏡座的下方并靠近于所述加工平臺(tái)。
      [0031]本發(fā)明的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備的技術(shù)效果為:由于該CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備配置有光路刻劃裝置和機(jī)械刻劃裝置,可根據(jù)實(shí)際情況對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的疊層在同一刻劃設(shè)備上進(jìn)行刻劃,具體為,利用光路刻劃裝置對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的薄膜層進(jìn)行第一道的Pl刻劃和對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的周邊除薄膜層外進(jìn)行第四道的P4.1刻劃,利用機(jī)械刻劃裝置對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的CIGS層進(jìn)行第二道的P2刻劃、對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的CIGS層和導(dǎo)電層進(jìn)行第三道的P3刻劃和對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的周邊進(jìn)行第四道的P4.2刻劃,整個(gè)操作均在同一刻劃設(shè)備上完成,避免了當(dāng)前的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃方式需要兩臺(tái)或以上刻劃設(shè)備才能完成刻劃操作所帶來的操作麻煩、占用空間較大、花費(fèi)成本高的問題。
      【附圖說明】
      [0032]圖1為本發(fā)明實(shí)施例的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備的立體圖;
      [0033]圖2為本發(fā)明實(shí)施例的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備去掉外蓋的立體圖;
      [0034]圖3為本發(fā)明實(shí)施例的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備去掉外蓋和支撐底座的立體圖;
      [0035]圖4為本發(fā)明實(shí)施例的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備的光路刻劃裝置的示意圖;
      [0036]圖5為圖3中A的放大圖;
      [0037]圖6為圖3中B的放大圖;
      [0038]圖7為本發(fā)明實(shí)施例的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備的光路刻劃裝置的主視圖;
      [0039]圖8為本發(fā)明實(shí)施例的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備的光路刻劃裝置的側(cè)視圖;
      [0040]圖9為本發(fā)明實(shí)施例的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備的光路刻劃裝置所刻劃的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0041]圖10為本發(fā)明實(shí)施例的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備的光路刻劃裝置的夾持裝置夾持CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0042]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。
      [0043]請(qǐng)參閱圖1至圖3,本發(fā)明提供一種CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備100,包括支撐底座10、設(shè)于支撐底座10上且可沿支撐底座10的縱向方向往復(fù)移動(dòng)的I向移動(dòng)單元20、橫跨于I向移動(dòng)單元20且可沿支撐底座10的橫向方向往復(fù)移動(dòng)的X向移動(dòng)單元30、安裝在Y向移動(dòng)單元20上用以供CIGS薄膜太陽(yáng)能電池放置加工的加工平臺(tái)40、利用激光對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70進(jìn)行刻劃的光路刻劃裝置50、利用刀具對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70進(jìn)行刻劃的機(jī)械刻劃裝置60及用以控制y向移動(dòng)單元20、x向移動(dòng)單元30、光路刻劃裝置50和機(jī)械刻劃裝置60的控制單元(圖中未標(biāo)示),其中,支撐底座10、y向移動(dòng)單元20、X向移動(dòng)單元30、加工平臺(tái)40、光路刻劃裝置50、機(jī)械刻劃裝置60和控制單元組成一龍門架加工
      T D O
      [0044]具體地,見圖3所示,光路刻劃裝置50安裝在X向移動(dòng)單元30上,且其具有用以對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的薄膜層71進(jìn)行第一道刻劃的Pl刻劃模塊和用以對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的周邊除薄膜層71外進(jìn)行第四道刻劃的P4.1刻劃模塊。
      [0045]機(jī)械刻劃裝置60設(shè)于X向移動(dòng)單元30的底端且可沿支撐底座10的豎直方向上下移動(dòng),且其具有用以對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的CIGS層72進(jìn)行第二道刻劃的P2刻劃模塊、用以對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的CIGS層72和導(dǎo)電層73進(jìn)行第三道刻劃的P3刻劃模塊和用以對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的周邊進(jìn)行第四道刻劃的P4.2刻劃模塊。
      [0046]控制單元分別與y向移動(dòng)單元20、x向移動(dòng)單元30、光路刻劃裝置50、機(jī)械刻劃裝置60電連接。
      [0047]由于該CIGS薄膜太陽(yáng)能電池刻劃設(shè)備100配置有光路刻劃裝置50和機(jī)械刻劃裝置60,可根據(jù)實(shí)際情況對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的疊層在同一刻劃設(shè)備上進(jìn)行刻劃,具體為,利用光路刻劃裝置50對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的薄膜層71進(jìn)行第一道的Pl刻劃和對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的周邊除薄膜層71外進(jìn)行第四道的P4.1刻劃,利用機(jī)械刻劃裝置60對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的CIGS層72進(jìn)行第二道的P2刻劃、對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的CIGS層72和導(dǎo)電層73進(jìn)行第三道的P3刻劃和對(duì)CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70的周邊進(jìn)行第四道的P4.2刻劃,整個(gè)操作均在同一刻劃設(shè)備上完成,避免了當(dāng)前的CIGS薄膜太陽(yáng)能電池70刻劃方式需要兩臺(tái)或以上刻劃設(shè)備才能完成刻劃操作所帶來的操作麻煩、占用空間較大、花費(fèi)成本高的問題。
      [0048]請(qǐng)參閱圖4至圖7,下面詳述本實(shí)施例的光路刻劃裝置50的具體結(jié)構(gòu)。
      [0049]光路刻劃裝置50包括激光器51、位于該激光器51的激光束出口處的擴(kuò)束鏡組52、移動(dòng)對(duì)向于該擴(kuò)束鏡組52的Pl刻劃構(gòu)件53、對(duì)向于該擴(kuò)束鏡組的P4.1刻劃構(gòu)件54及用以供該P(yáng)l刻劃構(gòu)件53和該P(yáng)4.1刻劃構(gòu)件54固定設(shè)置的鏡座55,下面對(duì)Pl刻劃構(gòu)件53和P4.1刻劃構(gòu)件54的具體結(jié)構(gòu)作進(jìn)一步的描述:
      [0050]首先,對(duì)Pl刻劃構(gòu)件53的具體結(jié)構(gòu)進(jìn)行描述。
      [0051]Pl刻劃構(gòu)件53包括移動(dòng)對(duì)向于擴(kuò)束鏡組52出射激光方向的第一 45°全反鏡531、對(duì)向于第一 45°全反鏡531出射激光方向以使激光器51的激光束沿支撐底座10的橫向方向射向折向變?yōu)檠刂蔚鬃?0的縱向方向射向的第二 45 °全反鏡532、對(duì)向于第二45°全反鏡532出射激光方向以使激光器51的激光束沿支撐底座10的縱向方向射向折向變?yōu)檠刂蔚鬃?0的豎直方向射向的第三45°全反鏡533、對(duì)向于第三45°全反鏡533出射激光方向的聚焦鏡組534、用以調(diào)節(jié)聚焦鏡組534上下移動(dòng)的調(diào)節(jié)座535及位于聚焦鏡組534的下方用以清除Pl刻劃時(shí)產(chǎn)生的灰塵的第一除塵頭536,而Pl刻劃構(gòu)件53的各部件的具體結(jié)構(gòu)為:
      [0052]第二 45°全反鏡532垂直于第一 45°全反鏡531出射激光方向;
      [0053]第三45°全反鏡533垂直于第二 45°全反鏡532出射激光方向;
      [0054]調(diào)節(jié)座535呈上下移動(dòng)設(shè)置在鏡座55的下端;
      [0055]聚焦鏡組534設(shè)置在調(diào)節(jié)
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