4與所述顯示區(qū)域I對應的位置形成多個連續(xù)設置第一圖案100，每個所述第一圖案100具有一個凸起部102和一個凹槽部101 ;在與所述周邊區(qū)域2的陰極接觸區(qū)21對應的位置形成多個連續(xù)設置的第二圖案200，每個所述第二圖案200具有一個凸起部202和一個凹槽部201 ;其中，所述第一圖案的凸起部102與所述第二圖案的凹槽部201對應，所述第一圖案的凹槽部101與所述第二圖案的凸起部202對應。
[0061]具體的，在該步驟中采用涂布方式形成像素限定層14 ;然后在對像素限定層14上曝光、顯影在顯示區(qū)域I形成多個第一圖案100 ;在陰極接觸區(qū)21形成多個第二圖案200。
[0062]其中，像素限定層14的材料可以為疏液的有機含氟材料。所述第一圖案的凸起部102的寬度與所述第二圖案的凹槽部201的寬度相同，所述第一圖案的凹槽部101的寬度與所述第二圖案的凸起部202的寬度相同。之所以如此設置是為了，盡可能避免在形成有機發(fā)光材料層時，發(fā)光材料落入第二圖案的凹槽部201中，導致清潔困難的問題。
[0063]步驟五、在完成上述步驟的基底10上，形成發(fā)光材料層15的步驟；其中，所述發(fā)光材料形成在所述第一圖案的凹槽部101，以及所述第二圖案的凸起部202上方。
[0064]具體的，在該步驟中采用連續(xù)打印的方式形成發(fā)光材料層15。
[0065]步驟六、在完成上述步驟的基底10上，通過構圖工藝形成包括陰極，以及與陰極連接的陰極金屬延伸部16的圖形；其中，陰極及金屬延伸部所述陰極形成在顯示區(qū)域1，所述陰極金屬延伸部16從所述顯示區(qū)域I延伸至所述周邊區(qū)域2的陰極接觸區(qū)21，并通過第二圖案的凹槽部201與所述陽極金屬延伸部13連接。
[0066]具體的，在該步驟中采用濺射或蒸鍍形成陰極，以及與陰極連接的陰極金屬延伸部16的圖形。
[0067]其中，陰極和陰極金屬延伸部16的材料為:采用低功函數(shù)金屬材料，比如:鋰、鎂、鈣、鍶、鋁、銦等或上述金屬與銅、金、銀的合金制成；或者采用一層很薄的緩沖絕緣層(如LiF、08(1)3等)和上述金屬或合金制成。
[0068]至此，形成OLED基板。
[0069]實施例3:
[0070]本實施例提供一種顯示裝置，其包括上述OLED基板，該顯示裝置可以為:手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產品或部件。
[0071]本實施例的顯示裝置中具有實施例1中的OLED基板，故其性能更好。
[0072]當然，本實施例的顯示裝置中還可以包括其他常規(guī)結構，如電源單元、顯示驅動單元等。
[0073]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.一種OLED基板，將所述OLED基板劃分成顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的周邊區(qū)域，其中，所述周邊區(qū)域具有多個陰極接觸區(qū)，其特征在于，所述OLED基板包括: 基底; 源漏金屬延伸部，其設置在基底上方，且所述源漏金屬延伸部從所述顯示區(qū)域延伸至所述周邊區(qū)域的陰極接觸區(qū)； 鈍化層，其設置在源漏金屬延伸部所在層上方，且在所述鈍化層與所述陰極接觸區(qū)對應的位置具有多個過孔； 陽極金屬延伸部，其設置在所述鈍化層上方，且所述陽極金屬延伸部從所述顯示區(qū)域延伸至所述周邊區(qū)域的陰極接觸區(qū)，并通過過孔與所述源漏金屬延伸部電性連接； 像素限定層，其設置在所述陽極金屬延伸部所在層上方，且所述像素限定層在與所述顯示區(qū)域對應的位置具有多個連續(xù)設置的第一圖案，每個所述第一圖案具有一個凸起部和一個凹槽部；在與所述陰極接觸區(qū)對應的位置具有多個連續(xù)設置的第二圖案，每個所述第二圖案具有一個凸起部和一個凹槽部；其中，所述第一圖案的凸起部與所述第二圖案的凹槽部對應，所述第一圖案的凹槽部與所述第二圖案的凸起部對應。
2.根據(jù)權利要求1所述的OLED基板，其特征在于，所述第一圖案的凸起部的寬度與所述第二圖案的凹槽部的寬度相同，所述第一圖案的凹槽部的寬度與所述第二圖案的凸起部的寬度相同。
3.根據(jù)權利要求1所述的OLED基板，其特征在于，所述OLED基板還包括發(fā)光材料層；其中，所述發(fā)光材料層設置在所述第一圖案的凹槽部，以及設置在所述第二圖案的凸起部上方。
4.根據(jù)權利要求3所述的OLED基板，其特征在于，所述OLED基板還包括陰極，以及與陰極連接的陰極金屬延伸部；其中，所述陰極和陰極金屬延伸部設置在發(fā)光材料層上方，且所述陰極設置在顯示區(qū)域，所述陰極金屬延伸部從所述顯示區(qū)域延伸至所述周邊區(qū)域的陰極接觸區(qū)，并通過第二圖案的凹槽部與所述陽極金屬延伸部連接。
5.根據(jù)權利要求1-4中任一項所述的OLED基板，其特征在于，所述OLED基板還包括設置顯示區(qū)域的陽極，所述陽極與所述陽極金屬延伸部同層且斷開設置。
6.一種OLED基板的制備方法，其特征在于，包括: 在基底上，通過構圖工藝形成包括源漏金屬延伸部的圖形；其中，所述源漏金屬延伸部從所述顯示區(qū)域延伸至所述周邊區(qū)域的陰極接觸區(qū)； 在完成上述步驟的基底上，形成鈍化層，并通過構圖工藝在所述鈍化層與所述陰極接觸區(qū)對應的位置形成多個過孔； 在完成上述步驟的基底上，通過構圖工藝形成包括陽極金屬延伸部的圖形；其中，所述陽極金屬延伸部從所述顯示區(qū)域延伸至所述周邊區(qū)域的陰極接觸區(qū)，并通過過孔與所述源漏金屬延伸部電性連接； 在完成上述步驟的基底上，形成像素限定層，并通過構圖工藝在所述像素限定層與所述顯示區(qū)域對應的位置形成多個連續(xù)設置第一圖案，每個所述第一圖案具有一個凸起部和一個凹槽部；在與所述周邊區(qū)域的陰極接觸區(qū)對應的位置形成多個連續(xù)設置的第二圖案，每個所述第二圖案具有一個凸起部和一個凹槽部；其中，所述第一圖案的凸起部與所述第二圖案的凹槽部對應，所述第一圖案的凹槽部與所述第二圖案的凸起部對應。
7.根據(jù)權利要求6所述的OLED基板的制備方法，其特征在于，所述第一圖案的凸起部的寬度與所述第二圖案的凹槽部的寬度相同，所述第一圖案的凹槽部的寬度與所述第二圖案的凸起部的寬度相同。
8.根據(jù)權利要求6所述的OLED基板的制備方法，其特征在于，在所述形成像素限定層之后還包括: 形成發(fā)光材料層的步驟；其中，所述發(fā)光材料形成在所述第一圖案的凹槽部，以及所述第二圖案的凸起部上方。
9.根據(jù)權利要求8所述的OLED基板的制備方法，其特征在于，所述形成發(fā)光材料是采用連續(xù)打印的方式形成的。
10.根據(jù)權利要求9所述的OLED基板的制備方法，其特征在于，在所述形成發(fā)光材料層的步驟之后還包括: 通過構圖工藝形成包括陰極，以及與陰極連接的陰極金屬延伸部的圖形；其中，所述陰極和陰極金屬延伸部設置在發(fā)光材料層上方，且所述陰極設置在顯示區(qū)域，所述陰極金屬延伸部從所述顯示區(qū)域延伸至所述周邊區(qū)域的陰極接觸區(qū)，并通過第二圖案的凹槽部與所述陽極金屬延伸部連接。
11.根據(jù)權利要求8所述的OLED基板的制備方法，其特征在于，在形成所述陽極金屬延伸部的同時還形成有陽極的圖形；其中，述陽極與所述陽極金屬延伸部同層且斷開設置。
12.—種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權利要求1-5中任意一項所述的OLED基板ο
【專利摘要】本發(fā)明提供一種OLED基板及其制備方法、顯示裝置，其可解決現(xiàn)有的OLED基板在清理發(fā)光材料時清理困難的問題。本發(fā)明的OLED基板劃分成顯示區(qū)域和周邊區(qū)域，周邊區(qū)域具有多個陰極接觸區(qū)，其包括基底，依次設置在基底上的源漏金屬延伸部；鈍化層，在其與陰極接觸區(qū)對應的位置具有多個過孔；陽極金屬延伸部，其通過過孔與源漏金屬延伸部電性連接；像素限定層，其在與顯示區(qū)域對應的位置具有多個第一圖案，每個第一圖案具有一個凸起部和一個凹槽部；在與陰極接觸區(qū)對應的位置具有多個第二圖案，每個第二圖案具有一個凸起部和一個凹槽部；第一圖案的凸起部與第二圖案的凹槽部對應，第一圖案的凹槽部與第二圖案的凸起部對應。
【IPC分類】H01L27-32, H01L51-56, H01L51-52
【公開號】CN104766930
【申請?zhí)枴緾N201510185625
【發(fā)明人】宋瑩瑩, 洪曉雯, 洪豪志
【申請人】京東方科技集團股份有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2015年4月17日